JPH0262838A - 純ジメチルエーテルの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ジメチルエーテル−合成反応器からの脱水生
成物の、純ジメチルエーテルを取得るための蒸留塔への
この塔の一定のプレートに於ける供給に及び純ジメチル
エーテル及び及び不純物を含有する留分の、同−塔の一
定のプレートに於ける導出により純ジメチルエーテルを
取得し、その際脱水生成物に付加的に洗浄液及び塩基を
使用する方法に関する。

メタノール−低圧−合成一法を開発するまでジメチルエ
ーテルはメタノール−高圧−合成の副生成物として合成
反応−出発生成物の全重量に対し約２〜５重量％の量で
及び純メタノールの取得の際蒸留により別の不純物を含
有する初留から分離されていた。

顕著な量のジメチルエーテルが得られない低圧−メタノ
ール合成−法の導入後メタノールの接触脱水によるジメ
チルエーテルを製造するための合成法は開発された。

種々な方法は特許文献中に記載されている。

例えばドイツ特許第６８０３２８号明細書により塩化亜
鉛の存在下でアルコールを加熱することにより脂肪族エ
ーテルを製造することができる。

アルコールからエーテルを製造するための別の適当な触
媒は英国特許第３３２７−５６号、第３５００１０号、
第４０３４０２号明細書、米国特許第１８７３５３７号
明細書及びフランス特許第７０１３３５号明細書により
塩化鉄、硫酸銅、塩化錫、塩化マンガン、塩化アルミニ
ュウム及び硫酸アルミニュウム、硫酸クロム、ミョウバ
ン、トリウム化合物、酸化アルミニウム、酸化チタン、
酸化バリウム、シリカゲル又は燐酸アルミニウムである
。

ｒｌｎｄｕｓｔｒｉａｌ　　ａｎｄ　　εｎｇｉｎｅｅ
ｒｉｎｇ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｊ第４１巻、第１２
号、第２９２８頁、１９４９年中に５ｉＯ２−含有率４
゜４０〜１３．９９重量％を有するボーキサイトの使用
が記載されている。

米国特許第３０３６１３４号明細書中には、メタノール
からジメチルエーテルを製造するための八Ｉｚ０３：　
ＳｉＯ□　１部対１．３５乃至０．３部の比率を有する
珪酸アルミニウムー触媒が開示されている。

合成ガス（ＣＯ＋Ｉ＋□）から直接ジメチルエーテルを
合成することも記載されている（ドイツ特許第２３６２
９４４号、第２７５７７８８号、第３２２０５４７号明
細書）。

工業的に最重要な触媒としてドイツ特許第２８１８８３
１号明細書、ドイツ特許出願公開第３２０１１５５号公
報、欧州特許出願公開第００９９６７６号及び第０１２
４０７８号公報により特に酸化アルミニウムー及び珪酸
アルミニウムー触媒がドーピングして及びドーピングせ
ずに混ぜられている。

ドイツ特許第２８１８８３１号明細書中でジメチルエー
テルを製□造するための触媒□これには十分に大きな面
積を有する夫々任意の酸化アルミニウムー基剤（この中
には付加的に５ＥｚＯ＋　　１〜３０重量％を有する希
土類が存在する）を含有することができる□が開示され
ている。

欧州特許出願公開第００９９６７６号公報中には５ｉＯ
７１〜２０重量％好ましくは１−１０重量％殊に６重量
％を含有する触媒が記載されている。

この場合帯られる粗ジメチルエーテルは、反応水、未反
応メタノール並びに少量の不純物例えばギ酸メチル、炭
化水素、アミン及び硫化物、カルボン酸、エステル、ア
ミド、アセタール等を含有する。

欧州特許出願第ＡＯ２７０８５２号公報中には、非常に
低いＳｉＯ□−含有率を有するＴ−Ａｔ２０゜触媒の存
在下ジメチルエーテルをメタノールから製造する方法が
記載されている。

この合成−装置に於いて粗ジメチルエーテルは連続して
接続した２個の蒸留塔中で後処理され、その際加圧下動
かされる第一塔中でジメチルエーテルが得られそして第
二塔中で未反応メタノールが回収される。

例えば欧州特許出願公開第０１２４０７８号公報中には
、加圧下にある第一塔中でジメチルエーテルはサイド導
出装置に於いて導出され、一方では低圧下で動かされる
第二塔中で塔頂部を介してジメチルエーテルとメタノー
ルとの間で沸とうする不純物が除去される方法が記載さ
れている。同様にメタノールは２．塔からサイド導出装
置に於いて除去される。

触媒としてはＡｌ２Ｏ３、Ｓｉｎｇ　、珪酸アルミニウ
ム及び殊にＴ−酸化アルミニウムが使用される。

この方法に於いて技術水準に比較して一層純枠なジメチ
ルエーテルを得ることができるけれども、第一塔のみな
らず高いプレート数を有する２、蒸留塔も備え付けねば
ならないので高い投資コスト及び特に高い作業コストが
生じそして更にジメチルエーテルとメタノールとの間で
沸とうする不純物が完全には２．塔に達せずに１．塔中
での富化後ジメチルエーテルと共に導出されるので無臭
がないと云う著しい経済的な欠点を有する。

上記の欧州特許出願第八〇　２７０８５２号公報中には
、高純度の無臭ジメチルエーテルを取得するための蒸留
精製法が記載され、その際ジメチルエーテルとメタノー
ルとの間で沸とうする不純物が純ジメチルエーテルも蒸
留により得られる同一の塔中で一定のプレートでサイド
ストリッパーに於いて分離される。

エアゾールスプレー用噴射剤としてのジメチルエーテル
はますます重要になっているから、一定の使用に関して
この生成物の非常に高い純度が要求されている。例えば
特に美容上の人間及び家庭−使用に関して刺激性物質が
ジメチルエーテル中に含まれていてはならない。更にコ
ノ場合ジメチルエーテルは臭気物質を含んでいなければ
ならぬか又は著しく含んでいなければならぬ。

それ故、高純度のジメチルエーテルの取得を更に改善す
る課題があった。

この課題の解決を驚くべきことに本発明による方法によ
り、すなわち１４０〜５００℃の温度及び１〜５０バー
ルの圧力に於けるメタノールの接触脱水及び気体及び／
又は液体脱水生成物の、純ジメチルエーテルを取得する
ための塔への塔底部より少なくとも１段上のプレート特
に少なくとも５段上のプレート殊に少なくとも１０段上
のプレートに於ける供給による蒸留後処理により純ジメ
チルエーテルを取得する方法に於いて、イ、不純物を含
有する液体及び／又は気体留分を１又は多数のプレート
に於いて導出し、その際 不純物を含有する留分を純ジメチルエーテル用の最底部
の導出プレートより少なくとも３段殊に少なくとも５段
下のプレートで、底部より少なくとも５段上のプレート
殊に少なくとも１０段上のプレートまで導出すること、
口、純ジメチルエーテルを導出するプレート、又は多数
の導出プレートの場合最下部のプレートは、 １個のみの供給プレートに於いて、装入生成物を供給す
るプレートより少なくとも８段上のプレート特に少なく
とも１０段上のプレート殊に少なくとも１２段上のプレ
ートであり、多数の供給プレートに於いて、最上部の供
給プレートに於いて供給された、全量の〉０〜＜１００
％の量の場合最上部の供給プレートより少なくとも１段
上乃至少なくとも８段上のプレートであり、その際供給
量が増大するにつれてプレート間隔が増大することを特
徴とする方法により成功した。

臭気を有する物質の測定は、相変わらず主として経験的
に行われ、その際直接的感覚的測定が精通したチー１、
により行われる。例えばｌｈｓに関する負荷限界値ｒ　
ＢＳＪが１５０人の集団試験により４５μｇ／ｒｄに測
定されていた（Ｓｃｈｒｉｆｔｅｎｒｅｉｈｅ　　ｄｅ
ｒ　　Ｌａｎｄｅｓａｎｓｔａｌｔ　　ｆｊｒＩｍｍｉ
ｓｓｉｏｎｓｓｃｈｕｔｚ　　ｄｅｓ　　Ｌａｎｄｅｓ
　　ＮｏｒｄｒｈｅｉｎＷｅｓｔｆａｌｅｎ、第４９号
（１９７９）第７７頁）。

臭気限界値が器械により測定可能な範囲にある場合臭気
限界値又は負荷限界値は又測定法例えばガスクロマトグ
ラフィー、電導率、光度、蛍光測定により測定すること
ができる （　ｒＥｒｄＯｌ　ｕｎｄ　　Ｋｏｈｌｅ−Ｅｒｄｇａ
ｓ−Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｅ　Ｊ第３２巻、第２号、１
９７５年２月、第８６頁）。

本発明の場合の臭気測定は感覚的方法に基づく。

メタノール合成装置からの粗メタノール及び純メタノー
ル並びに接触的にメタノールから製造したジメチルエー
テルは、既に記載した様に、一部非常に臭気が強烈であ
る種々な不純物を含有する。メタノール−高圧合成装置
に於いて、−ａにジメチルエーテル２〜３併し５重量％
までを含有していることができる粗メタノールが得られ
るのに、粗−又は純メタノールからのジメチルエーテル
合成の際操作次第で一般に使用メタノールからジメチル
エーテル２０乃至８０重量％が反応器導出部に於いて得
られる。付加的に粗ジメチルエーテル中で上記の不純物
、反応水及び不反応メタノールが含まれている。

不純物の融点例えばメチルアミン（にｐ　−７，５５”
Ｃ／７１９　）　、ジメチルアミン（Ｋｐ　　６．９℃
）、トリメチルアミン（Ｋｐ−３℃Ｌ　ジメチルスルホ
キシド（Ｋｐ　　３７．３℃）、メチルメルカプタン（
Ｋｐ　　５．８“Ｃ）、ギ酸（Ｋｐ　　１００．７５℃
）、ギ酸メチルエステル（Ｋｐ　　３１．５℃）、ホル
ムアルデヒド（Ｋｐ　　−２１℃）、ホルアルデヒドジ
メチルアセクール（Ｋｐ　　４５．５℃）、又は酢酸メ
チルエステル（にｐ　　５６．９６℃）並びに生成物混
合物中のそれらの溶解度及び蒸気圧は非常にさまざまで
ありそして個別的不純物の主観的に知覚される臭気強度
は非常にさまざまでありそして付加的に若干の共沸混合
物が生成するから、高純度のジメチエーテルを高収率で
技術水準に比較して一層経済的な方法により製造する課
題の解決は非常に困難になる。

それ故多年の研究に於いて実験室、工業専門学校及び工
業的装置に於ける多数の試験により驚（べきことに、高
純度のジメチルエーテルを実際上定量的に殊に経済的な
方法で本発明による触媒及び本発明による蒸留精製によ
り得ることができることを見い出した。

第１図に於いてはジメチルエーテルを製造及び精製する
ための装置が例示されている。

第２図に於いては純ジメチルエーテルの取得用蒸留塔が
例示されている。

第３図に於いては初留サイドストリッパーを有する塔が
例示されている。

第４図に於いては２個のジメチルエーテル−塔の組み合
わせが例示されている。

ドイツ特許出願Ａ第０２７０８５２号公報中に開示され
ている７−Ａｌ２Ｏ，−型の触媒が本発明に於いて殊に
適する触媒として判明した。

該触媒は非常に僅かだけの量のＳｉｎ、を含有する。Ｓ
ｉＯ□−〉０乃至く１重量％である。殊に０．００１乃
至０．５重量％のＳｉｎ、の量及び殊に５ｉＯｚ　　０
．００１乃至０．２重量％の量である。

本発明による方法により非連続的に実施することができ
るけれども、連続的実施方法が好ましい。

本発明者の研究により、−殊に経済的な方法で高純度の
無臭ジメチルエーテルを殆ど定量的な収率で得ることが
できる課題の解決のために、純ジメチルエーテルを得る
ための蒸留塔への脱水生成物の供給は、塔底より少なく
とも１段上のプレート特に５段上のプレート殊に１０段
上のプレートでなければならぬ１又は多数のプレートに
於いて液体状又は気体状で行うことができると云う結論
を得た。更に本発明により導出プレート又は多数の導出
プレートの場合線、ジメチルエーテルが導出される最下
部のプレートは、１個のみの供給プレートに於、いて、
装入生成物を供給するプレートより少なくとも８段上の
プレート特に少なくとも１０段上のプレート殊に少なく
とも１２段上のプレートであり、多数の供給プレートに
於いて、最上部の供給プレートに於いて供給された、全
量の〉０〜〈１００％の量の場合最上部の供給プレート
より少なくとも１段上乃至少なくとも８段上のプレート
であり、その際供給量が増大するにつれてプレート間隔
が増大する。

純ＤＭＥ用の好ましい導出プレートは１５．及びそれ以
上のプレート（塔頂に接近して）である。

場合により純ジメチルエーテルは塔頂凝縮物として例え
ば初留基の装入の際導出することができる。

純ＤＭＥ用の好ましい導出プレートは１５．及びそれ以
上のプレート（塔頂より近辺の）である。

場合により純ジメチルエーテルは又塔頂凝縮物として例
えば初留基の装入の際導出することができる。純ジメチ
ルエーテルを導出するために多数のプレートも使用する
ことができる。純ジメチルエーテルは液体状に及び／又
は気体状で導出することができる。

更に本発明者の研究により、本発明により不純物を含有
する液体及び／又は気体留分が１又は多数のプレートに
於いて導出され、その際不純物を含有する留分を純ジメ
チルエーテル用の最低部の導出プレートより少なくとも
３段殊に少なくとも５段下のプレートで、底部より少な
くとも５段上のプレート殊に少な（とも１０段上のプレ
ートまで導出されることが判明した。

要するに本発明により、不純物を含有する留分を塔のこ
の範囲で１又は多数のプレートに於いて気体状及び／又
は液体状で導出することが可能であり、その際、当然上
で既記の様に、不純物の導出用プレートが純ジメチルエ
ーテルの導出用にもっとも近く在れば在るほどますます
多いジメチルエーテルが導出不純物中に含まれる。それ
故不純物は少なくとも３殊に少なくとも５個のプレート
の間隔でジメチルエーテル導出部から又は若干のブレー
ＨＱ於いて最下部のＤＭ、Ｅ−導出部から導出される。

更に本発明により不純生成物を塔底部より少なくとも５
段上のプレート殊に少なくとも１０段上のプレートまで
液体状又は気体状で導出することができる。

本発明により、いわゆる工業用ジメチルエーテル品質と
して使用することができる生成物をかなり多い量で得ら
れる様に、不純物を含有する留分を広範囲に変えること
も可能である。これは例えば硫酸ジメチルの製造に使用
するか又は無臭性が要求されない噴霧使用に使用するこ
とができる。ベンジンの反応にもこの品種を使用するこ
とができる。

当然この本発明による分留に於いて工業的留分より僅か
に純粋で無臭でないＤＭＥが得られる。

一般に、不純物を含有する留出物用導出プレートは留出
物量が多ければ多いほどますます純ＤＭＥ用導出プレー
トに近く在ることができることが有効である。

本発明により脱水生成物中に含まれるメタノ−ルに付加
的に、殊にメタノールである洗浄液を使用することがで
きる。

これは純メタノール、いわゆる粗メタノール又は別種の
メタノールである。

粗メタノールとは、直接メタノール合成からのメタノー
ルの意味である。これは低圧−１中圧−又は高圧−メタ
ノール合成であり、一方線メタノールは蒸留により精製
された、アメリカ及び国際規格に相当するメタノールで
ある。別種のメタノールは、例えば初留塔に於いてトッ
ピングした、ガス例えばＣＨ４、ＣＯ２、Ｎ２及びその
他の軽成分が除去されている粗メタノールであることが
できる。

併し洗浄液は又水又はメタノール／水−混合物又は水及
び／又はメタノールと混合したジメチルエーテルである
ことができる。

洗浄液は、ジメチルエーテル−蒸留塔に達する前に、混
合物を噴霧プレート上に達する様に、脱水生成物に混合
することができる。

基本的に装入生成物（脱水生成物混合物）も少なくとも
一部洗浄液を使用して又は使用せずに気体状で塔中に装
入することができる。

又、洗浄液を別々に又は少なくとも一部別々に、脱水生
成物も導かれる同一の噴霧プレート上に導かれる操作法
を選択することができる。

本発明による別々の操作法は、洗浄液を脱水生成物とは
別のプレートに供給することである。

殊に洗浄液は供給プレート上に又は脱水生成物用の最下
部の供給プレートの下に装入される。

本発明により又ジメチルエーテル−合成反応器から導出
する熱い生成物を蒸留塔の前に存在する洗浄装置に於い
て少なくとも一部洗浄液で洗浄することが可能である。

洗浄した気体脱水生成物を蒸留塔に流す間、不純物を含
有する洗浄液を導出し、蒸留塔の下部に供給することが
できる。

洗浄液添加は、得られるべきジメチルエーテルに関して
付加的精製効果の有利な作用を有する。それ故添加した
洗浄液の量は、使用した脱水生成物の量に対し〉０％の
非常に広い範囲でこの量の数倍まで変えることができる
。まず第一に、得られるべきジメチルエーテルの品質が
決まる。

この中に於いて不純物又は不快な臭気が、例えばジメチ
ルエーテル合成に装入されたメタノールの悪い品質のた
めに、生ずるならば、添加される洗浄液の量を変えるべ
きである。別の量基準は、ジメチルエーテル蒸留の粗メ
タノール蒸留への統合の場合不可避的に得られる製造量
である。

この場合メタノール合成装置及びジメチルエーテル合成
装置の製造能力次第で、上記のプレートに於いて純ジメ
チルエーテルが導出される本発明による塔に於ける、粗
メタノール及びジメチルエーテル合成装置からの脱水生
成物の共同蒸留の場合粗メタノール対脱水生成物の量比
を非常に著しく変えることができる。

このことは、メタノール合成装置がたいてい１００．０
００　を乃至６００，０００　ｔの年間製造能力を有し
、一方ジメチルエーテル合成装置の年間製造能力がだい
たい５．０００　を乃至１０．０，０００　ｔであるこ
とを前提とすれば、当業者にとって明白である。例えば
５，０００　ｔ　／ａの能力のジメチルエーテル装置及
び５００，０００　ｔ　／　ａのメタノール能力に於け
る比率はＬ：１００であることができる。

他方洗浄液は脱水生成物の量のほんの一部だけ例えば１
／、。。、′／２゜、′／１゜又は１１５であることが
できる。同様なことは別の洗浄液の使用に関して云える
。

更にジメチルエーテル−蒸留塔の底部に於いて特に粗メ
タノールの装入の際塩基特にＮａ０ＩＩ、ＫＯＪＩ及び
別のアルカリ−及びアルカリ土類塩基又は塩基混合物の
添加により少なくとも７の一定のρ■−値特にｐｌ＋＞
７殊にｐＨ＞８にすることが有利であることができる。

供給は基本的に任意の個所に於いて行うことができ、ジ
メチルエーテル塔の内部及び外部で殊に不純物を含有す
る留出物が導出されるプレートの下部のプレートに於い
て行うことができる。

本発明により塩基を又塔に通ずる脱水生成物用又は脱水
生成物及びメタノール用導管又はメタノール供給導管に
添加することができる。この場合所望の完全混合物が既
に導管中で生ずる。

これを例えば又洗浄液と共に供給することができる。併
し塩基又は塩基混合物に関する供給可能性は例示であり
、これは限定的なものと認められるべきでない。ジメチ
ルエーテル塔に於ける還流比は、脱水生成物中のジメチ
ルエーテル量に依存して変えられることができる。

本発明者の大規模な研究により、１個のみの供給プレー
トの場合純ジメチルエーテルが留出される最下部のプレ
ートが脱水生成物用供給プレートより少なくとも８段高
いプレート特に少なくとも１０段特に少なくとも１２段
高いプレートであり、即ち例えば供給プレートが塔頂か
らの２６段のプレートであり、その結果純ジメチルエー
テルを１８．プレート又はそれ以上のプレートに於いて
既に分離する場合に既に高純度の無臭ジメチルエーテル
が得られると云う驚くべき結果を得た。

次に不純物を含有する留出２物を１５．プレート又はそ
れより低いプレート（塔頂から）に於いて塔底より５段
上のプレートまで既に分離することができる。

殊に不純物を含有する留出物は塔底部より少な（とも１
０段上のプレート及びジメチルエーテル導出部より５段
下のプレートで導出されるべきである。

このことは、不純物を含有する留出物が２３゜プレート
で導出されることを意味する。併しこれは本発明により
底部より２３の上のプレートと１３段上のプレートとの
間で導出することができるが、併しその際導出部がジメ
チルエーテル導出物に近くあればあるほどますます多い
ジメチルエーテルを含有する。

多数の供給プレートに於いて最上の供給プレートに於い
て供給された、全量の〉０〜〈１００％の量の場合プレ
ート又は多数の導出プレートの場合純ジメチルエーテル
が導出される最下部のプレートは最上部の供給プレート
より少なくとも１段上のプレート乃至少なくとも８段上
のプレートにあり、その際供給量が増大するにつれてプ
レート間隔が増大する。

更に本発明者の試験により、ジメチルエーテル塔の底部
に於けるｐＨの調整はジメチルエーテルに於ける臭気成
分に著しく影響を与えると云う驚くべき成果を得た。

例えば請求項に記載の範囲内での操作法の場合例えば非
常に僅かな還流及び装入生成物中低含有率のみのジメチ
ルエーテルによる操作法の場合にも臭気成分が純ジメチ
ルエーテルに達する限界範囲が生ずる（何となれば請求
項に記載の範囲内で還流比はジメチルエーテル濃度に依
存して所望の純生成物が得られる様に選択されるべきで
あるからである）。

非常に僅かな不純物を含有する留分の導出及びＤＭＨの
殆ど定量的な除去の場合にも臭気成分がＤＭＥ中に生ず
る。（本発明により、留分が臭気成分を完全に又は殆ど
完全に抽出する様な量の不純物を含有する留分が導出さ
れる。この世は塔の始動後試料採取及び臭気分析により
非常に急速に測定することができる）。

更に、ＤＭＥ−合成に装入される。臭気成分に冨んだメ
タノールは問題に導くか又はジメチルエーテル塔に接続
したメタノール塔の頂又はサイドストリンバーを経て得
られるメタノールは含まれる不純物次第でＤＭＥ−合成
に戻す際臭気問題に導く。

ＤＭＥ−塔の底部に於ける本発明によるｐｌ＋の調整に
よりこの様な場合にも申し分のない生成物を製造するこ
とができる。ρ１１〉８殊に８〜１２が好ましいが、併
しｐＨ７以下の別のｐＨ−調整も所望の改善に導く。

調整されるべき還流比に関して、ジメチルエーテル塔へ
の装入生成物の場合ジメチルエーテル〉０〜５重量％を
含有するものをも含めた洗浄液の添加の際１：０．２乃
至１：１００殊に１：０．２乃至１：２５の還流比で行
われ、ジメチルエーテル２０〜８０重量％を含有する全
−装入生成物の場合ｉ：０．２乃至１：５０殊に１＝１
乃至１：５Ｋ　還流比で行われ、ジメチルエーテル〉５
〜〈２０重量％を含有する全−装入生成物の場合１：０
．２乃至１：５０殊にｌ：０．２乃至１：０．２乃至１
：２５の還流比で行われそしてジメチルエーテル〉８０
重量％及び＜１００重量％を含有する全−装入生成物の
場合１：０．２乃至１：５特に１：０．２乃至１：１０
殊に１Ｆ０．２乃至１：５の還流比で行われ、その際装
入生成物でジメチルエーテル濃度が増大するにつれて一
般に低くなる還流比が選択される。

例えば１：１の還流比は、導出したジメチルエーテルの
量は１部でありそして塔頂で凝縮するための蒸気量は１
＋１部である（１なる数は導出量である）ことを意味す
る。ｌ：５〜８の還流比は、例えば３〜４重量％のジメ
チルエーテル含有率を有する装入生成物に適する。この
様なジメチルエーテル含有率は高圧−メタノール合成に
於いて得られる如き粗メタノール中に認められる。併し
ジメチルエーテルは、本発明による上記の供給部及びジ
メチルエーテル及び不純物を含有する留出物の本発明に
よる導出個所を選択する場合のみ一層高純度に殆ど定量
的な量で得ることができる。装入混合物が例えばジメチ
ルエーテル、並びにメタノール及びメタノールの沸点と
ジメチルエーテルの沸点との間の沸点を有するその他の
成分及び場合により水及び酸素を含有するその他の炭化
水素例えばＣ原子〉１の数を有するアルコールを含有す
れば、還流比は１：０．２乃至１：５０特にｔ：Ｏ，Ｓ
乃至１：１０殊に１＝１乃至１：５にジメチルエーテル
含有率次第で調整されるべきである。例えばジメチルエ
ーテル６０重量％及びメタノール１５重量％を水及び不
純物のほかに含有する混合物の場合、１：１乃至’１：
２．５の還流比にすることができる。

この様な装入混合物は、直管中でＡｌ２Ｏ：１−又はＡ
１．０．　／ＳｉＯ□−触媒を用いてメタノールからジ
メチルエーテルを接触的に取得する場合に合成反応器の
導出部に於いて得られる如き典型的混合物である。

〉５重量％とく２０重量％との間にあるか又は８０重量
％以上にあるジメチルエーテル含有率は、本発明による
還流比は上記の値に基いて例えば〉５〜〈２０重量％の
含有率に関して１：０．２乃至１：５０殊にｌ：０．２
乃至１：２５の還流比間で選択するか又は〉８０乃至＞
１００重量％の場合又比率１：０．２乃至１：１０殊に
１＝０．２乃至１：５に於いて選択されるべきである。

併し上記の還流比は限定的なものとは認められず基準値
と認められるべきであり、その際当業者は請求項に記載
された範囲から最適な還流比を選択することができ、そ
の際留出されるべき装入生成物中のＤＭＥ−濃度に依存
して還流比が選択され、即ちＤＭＥ−濃度が低下するに
つれて一般に増大する還流比が選択される。

純ジメチルエーテルを得るための蒸留塔は、−Ｃに５〜
１０バールの圧力に於いて動かされ、その陥部に接続し
た合成反応器の場合殊に反応器中の圧力への適合が行わ
れ、その際一般に蒸留は合成より多少低い圧力に於いて
行われる。

５〜１０バールの範囲以外の圧力特にそれより高い圧力
は本発明により同様に可能である。

流量は通常の如く、塔の設計、熱供給及び還流比により
決められる。

純ジメチルエーテルを殆ど定量的に得るために、特に装
入混合物中の含有率が僅かな場合本発明により塔頂を経
て出発する出発混合物−これは一般に００２、Ｎ２、炭
化水素及びなお低含有率のジメチルエーテルを含有する
−を洗浄することができる。ジメチルエーテルを含有す
る洗浄液は塔又はジメチルエーテル合成反応器に戻すこ
とができる。

適当な洗浄液は例えばメタノール又はジメチルエーテル
−蒸留塔の底部生成物である。洗浄は向流または平流さ
せて行うことができるが、併し向流させるのが好ましい
。

更に不純物を含有する留出物は付加的にサイドストリッ
パーに於いてストリッピングすることができ、その際ス
トリッピング−生成物は再び塔に戻される。これにより
場合によりこの個所で導出ジメチルエーテルは殆ど完全
に戻すことができる。

当業者にとって明かな様に、本発明によりメタノールは
水から２゜塔に於いて分離される。

このメタノールをＤＭＥ−合成反応器中に戻すことがで
きるが、併し別の公知のメタノール使用にも供給するこ
とができる。

本発明による方法により蒸留塔は技術水準により装置容
量に従って使用することができる。

プレートは技術水準に相当するプレート例えばバルブプ
レート、有孔プレート、導管等を有するか有しないバブ
ルプレートである°ことができる。

原則的に充填物例えばセラミック材料、ガラス材料、ワ
イヤからなる充填物等も蒸留塔用充填体として使用する
ことができ、その際本発明による装人生成物供給部又は
ジメチルエーテル及び初留用導出部は所要のプレート数
により、本発明に於いて上記の実際的なプレートを基礎
として算出することができる。

本発明を第１１１ｉＪ乃至第３図により詳細に説明する
。

第１図に於いて（３）は脱水反応器である。ポンプ（４
）、導管（１８）及び熱交換機（８）及び（７）を経て
新鮮なメタノールを反応器に供給する。

（１）は純ジメチルエーテルを得るための蒸留塔である
。該塔は一般に、合成反応器（３）中の圧力に適合され
ている圧力範囲通常幾分低い圧力に於いて動かされる。

例えば合成圧が８〜１２バールであれば、塔は例えば６
〜１１．５バールで動かすことができる。併しこの数は
限定的であると認められるべきでない。併し一般に殊に
０乃至１０バールの差圧で実施される。ジメチルエーテ
ルを（９）に於いて高純度の形で導出する。塔頂ガスは
（１１）を経て凝縮器（６）に至る。還流物は（１２）
を経て再び塔（１）に流れる。痔ガスは（１５）を経て
洗浄器（１５）に流れ、この中でメタノール（１６）で
洗浄する。原則的に他の洗浄液例えば粗メタノール又は
塔１の底液も使用することができ、その際後者の場合ジ
メチルエーテルを含有する洗浄液を再び塔１に供給する
ことができる。少量のジメチルエーテルは（１７）を経
て洗浄メタノールと共に合成反応器（３）に至る。痔ガ
スは（２３）に於いて消散する。

合成生成物（１９）は（８）を経て（１）へ流れる。

（２０）に於いてメタノールとジメチルエーテルとの間
で沸とうする不純物を導出しそして（２２）を経て例え
ば燃焼させる。例示的な導管（２４）、（２５）及び／
又は（２６）を経て本発明により洗浄液を供給すること
ができる。

（１４）を経て主としてメタノール及び水を含有する底
液は分留塔（２）に流れる。該塔は一般に常圧に於いて
動かされるが、併し原則上幾分高いか又は幾分低い圧力
に於いて動かすことができるが、併し一般に塔（１）の
圧力以下で動かすことができる。（１０）を経てメタノ
ールを導出しそして合成反応器に戻す。底部から（１３
）を経て瘉水を導出する。（２１）を経て必要の場合不
純物をメタノールの沸点より高い沸点を以て導出するこ
とができる。メタノールは又サイドストリッパーとして
の塔（２）の上部プレートの一つに於いて取り出すこと
ができる（２３）。次に少量の不純物をなお頂を経て取
り出すことができる（２４）。

第２回に於いて（１）は純ジメチルエーテルを得るため
の蒸留塔である。装入生成物を（２）を経て供給する。

純ジメチルエーテル（３）に於いて導出する。不純物を
（４）に於いて導出する。

頂部生成物は（５）を経て凝縮器（１０）に流れる。

還流物は（７）を経て塔（１）に流れる。瘉ガスは（６
）に於いて消散する。（８）はりボイラー−循環器であ
る。（９）に於いて底液を導出する。

（２４）、（２５）及び（２６）を経て本発明により洗
浄液を供給することができる。

第３図に於いて不純物を含有する留出物は（４）を経て
ストリッパー（５）□これはりボイラー循環器（７）を
備えている−に流れる。（２４）、（２５）及び（２６
）を経て本発明により洗浄液を供給することができる。

ストリッピングされたジメチルエーテルは（６）を経て
塔（１）に戻される。

（２）に於いて装入生成物を供給する。（３）に於いて
純ジメチルエーテルを導出する。頂部ガスは（１１）を
経て凝縮器（１０）に至る。還流物は（８）を経て塔（
１）に流れる。瘉ガスは（９）に於いて消散する。（１
２）に於いてジメチルエーテルを含まない不純物を導出
する。洗浄液は又蒸気形又は一部蒸気形でそして一部液
体状で塔に導入することができる。

第４図に於いて僅かな臭気不純物を有する実際上１００
％のジメチルエーテルは塔（１）から導管（３）を経て
２．ジメチルエーテルは塔（４）に流れる。そこでは本
発明により（５）を経て無臭の純ＤＭＥが導出される。

臭気成分を含有する少量の留出物は（６）を経て導出さ
れる。（７）はりボイラーであり、（９）は底部導出部
でありそして（１０）は頂部導出部である。

本発明により蒸留塔から高純度のジメチルエーテルは実
際上定量的に得られる。ジメチルエーテルは無臭であり
、１１　ｐｐｍより少ないメタノール、最高０月重量％
の炭化水素を含有しそしてジメチルエーテル９９，９重
量％までの純度を有する。本発明により得られるジメチ
ルエーテルはエアロゾール領域に於ける夫々の使用に著
しく適する。

次の例に於いて本発明の詳細な説明し、その際例１〜７
に於いては不純物を含有する留出物はジメチルエーテル
塔に装入する前に脱水生成物に混合された。この留出物
はＤＭＥ−導出プレートの下部の、運転しているジメチ
ルエーテル塔から得られた。これは車としてジメチルエ
ーテルから構成されていた。付加的にメタノール蒸留か
らの高沸点不純物の少量が添加された。

（「臭気」なる記載は混合により生じた臭気に関するが
、併しＤＭＢの非常に僅かな特有臭気に関しない。それ
に応じて「無臭」は、混合又は不純物により生じた臭気
が確認されなかったことを意味する。） メタノール及び炭化水素の記載されたｐｐｍ−量は全評
価に於いて考慮されなかった。

例　　１ ４６個のパルププレートを有する塔に４８．プレート（
塔頂から）に於いてジメチルエーテル２６００　　、ｋ
ｇ、メタノール７２０　ｋｇ、水１０６０　ｋｇ及び不
純物１１３ｋｇからなる（このうちＤＭＥ−ジメチルエ
ーテル−９０ｋｇ）脱水生成物４４９３　ｋｇ／時並び
に純メタノール２０００　ｋｇ／時を同一の供給導管を
経て供給した。

塔は８バールに於いて動かされた。還流比はｌ：３であ
った。

塔頂に於いて、主として不活性ガスからなる痔ガス約５
ｋｇ／時を導出した。

塔の５．プレート（塔頂から）に於いて無臭純ジメチル
エーテル２６０９　ｋｇ／時を１　ｐｐｍのメタノール
含有率及び検出限界以下（＜５０　ｐｐｍ）の炭化水素
含有率を以て導出した。

３７、プレート（塔頂から）不純物９２　ｋｇ／時を導
出した。

高沸点成分（メタノールとしての）１２ｋｇ／時、メタ
ノール２７２０び水１０６０　ｋｇ／時を底部に於いて
導出しそしてメタノールを蒸留するだめの塔に供給した
。

比較例　１ａ 例１を繰り返したが、但し付加的メタノールの供給をし
なかった。還流比は１：３であった。

塔頂に於いて、主として不活性ガスからなるガス６ｋｇ
／時を導出した。

５、プレートに於いて無臭純ジメチルエーテル２５９４
　　ｋｇ／時を１０ρρｍのメタノール含有率及び検出
限界以下の炭化水素含有率を以て導出した。

３７、プレートに於いて不純物１０７ｋｇ／時（このう
ちＤＭＥ　９６　ｋｇ）を導出した。

高沸点不純物１２ｋｇ／時、メタノール７２０　ｋｇＺ
時及び水１０６０　ｋｇ／時を底部に於いて導出した。

例２ 例１と同一の塔に於いて同一の装入生成物を装入した。

塔は例１の場合と同様に動かされたが、但し不純物を７
．プレート（塔頂から）に於いて導出した。

得られる純ジメチルエーテルは殆ど無臭であり、メタノ
ール１　ｐｐｍ及び検出限界以下の炭化水素含有率を含
有した。

比較例　２ａ 例２を繰り返したが、但し付加的メタノールの供給をし
なかった。得られるジメチルエーテルは例２の場合より
著しく強い臭気を有し、メタノール＜ｌｐｐｍ及び炭化
水素５５　ｐｐｍを含有した。

例３ １００個のバルブプレートを有する蒸留塔にメタノール
６２，０００　ｋｇ、ジメチルエーテル２５００ｋｇ、
水９８０　ｋｇ及び不純物５２０　ｋｇからなる（その
うちＤＭＥ　２３７　　ｋｇ）脱水混合物６６．０００
　ｋｇ／時を供給をした。

塔は７．５バールに於いて動かされた。

還流比は１：ｌＯであった。

付加的に粗メタノール１０，０００　ｋｇ１時を６０゜
プレート（塔頂から）に於いて供給した。

粗メタノールはルルギ式低圧メタノール装置からのもの
であり、メタノ−ノリ３重量％、炭化水素子高級アルコ
ール（０，３％）０．５重量％及び水６．５重量％を含
をした。

脱水生成物を４８．プレート（塔頂から）に於いて供給
した。

不純物２９８　ｋｇ１時（このうちＤ丹Ｅ２０９ｋｇ）
を４２．プレート（塔頂から）に於いて導出した。

純ジメチルエーテル２５２８　ｋｇ／時は４．プレート
（塔頂から）に於いて導出した。

塔頂を経て、主として不活性ガスからなる撥ガス１１　
ｋｇ　／時を導出した。

塔底から高沸点不純物（粗メタノール５０ｋｇからなる
）　２４４　ｋｇ／時、メタノール７１．３００　ｋｇ
／時及び水１６３０　ｋｇ／時を導出した。

ジメチルエーテルはメタノール＜ｌｐｐｍ、炭化水素９
０　ｐｐｍを含有し、完全に無臭であった。

比較例　３ａ 例３を繰り返したが、但しメタノールの供給をしなかっ
た。還流比は１ニアであった。無臭ジメチルエーテル２
４８７　ｋｇ／時が得られ、これは炭化水素＜５５　ｐ
ｐｍ及びメタノール＜　ｔ　ｐｐｍを含有した。

例４ １００個のプレートを有するバブルプレート塩に４６．
プレートに於いて粗メタノール４０．０００ｋｇ／時、
脱水生成物３５００　ｋｇ／時よりなる混合物を送入し
た。

粗メタノールは例３に於いて使用された品質に相当し、
これは直接メタノール合成の加圧式分離器から取り出さ
れた。

脱水生成物はジメチルエーテル２２００　ｋｇ、水８６
１　ｋｇ、メタノール３８５ｋｇ及び不純物５４ｋｇ（
ＤＭＥ　２９ｋｇを有する）から構成されていた。

６．５バール及び１：１２の還流比で実施された。

６、プレート（塔頂から）に於いてジメチルエーテル２
１８３　ｋｇ／時を導出した。

頂を経て痛ガス８ｋｇ／時が移動した。

３６、プレートに於いて不純物５５　　ｋｇ／時（ＤＭ
Ｅ　４６　　ｋｇ／時、メタノール３７５８５　　ｋｇ
／時及び高沸点不純物２１６　　ｋｇ１時を導出した。

完全に無臭のジメチルエーテルが得られ、これは炭化水
素＜１０　ｐｐｍ及びメタノール１　ｐｐｍを含有した
。

例５ 例１を繰り返すが、但し粗メタノールの代わりに水２０
，０００　ｋｇ／時を添加した。

無臭の純ジメチルエーテルが得られ、これはメタノール
１　ｐｐｍ及び炭化水素＜５０　ｐｐｍを含有した。

同様な結果はメタノール／水混合物を用いて得られた。

例　　６ 脱水生成物（ジメチルエーテル６５重量％を有する装入
生成物３０００　ｋｇ／時）の後処理は、続けて接続し
た連続的に作動する蒸留塔−そのうち最初は２５個のバ
ルブプレートで第２はラツシヒリングで備えられている
ーに於いて行われた。純ジメチルは第一塔に於いて７ハ
ールで４、プレート（塔頂から）に於いて１：２の還流
比で得られた。装入生成物は１２．プレー１−　（塔頂
から）供給された。不純物は１４．プレートに於いて導
出された。２．塔に於いて未反応メタノールが回収され
た。無臭ジメチルエーテルが得られた。

比較例　６ａ 例６に於ける様に実施したが、但し不純物が２、塔の頂
部に於いて導出された。

この様に得られたジメチルエーテルは著しく不純物によ
る臭気を有した。

比較例　６ｂ 例６ａに於ける様に実施したが、但し付加的に純メタノ
ール３０００　ｋｇ／時を脱水生成物と共に塔に装入し
た。ジメチルエーテルは僅かな臭気を有した。

例７ 例３により、ＤＭＥ　７，２００　ｋｇ、メタノール５
７．２３０　　ｋｇ及び水１，０５０　　ｋｇ及び不純
物４７５ｋｇ（このうちＤＭＥ　４２５−　ｋｇ）を含
有する脱水生成物６５．９５５　　ｋｇ／時を装入した
。

■＝０．２の還流比で実施された。

１２、プレートに於いて導出されたジメチルエーテルの
量は７３４２　ｋｇであった。

１８、プレートに於いて不純物を含有する留出物−これ
はジメチルエーテル２９３　　ｋｇを含有した（導出量
は全部で３３３　　ｋｇ）−を取り出した。その際頂を
経て瘉ガス３ｋｇ／時を導出したが、ジメチルエーテル
は装入生成物中の僅かなりＭＥ−濃度に対する僅かな還
流比に基いて僅かな臭気を有した。

比較例　７ 例７を繰り返したが、但し底液に於けるｐＨが１０と１
１の間にある様な、水に溶かしたＮ　ａ　ＯＩＩ（約１
２％）を添加した。この様に得られるジメチルエーテル
は完全に無臭であった。

例８ 脱水生成物４０００　ｋｇ□これはジメチルエーテル３
１２０　ｋｇ、水４２０　　ｋｇ、不純物４６　ｋｇ　
（このうち４０ｋｇ）はＤＭＥであった）並びにメタノ
ール４１４　　ｋｇを含有した□を５０個のバルブプレ
ートを有する塔に於いて蒸留した（フィードプレート：
２７．プレート）。

塔は８バール及び１：２．５の還流比に於いて動かされ
た。

ジメチルエーテル３１５０　ｋｇを１５．プレート（上
部から）に於いて取り出された。１８．プレートに於い
て不純物１６　ｋｇ　（このうちＤＭＥ　１０ｋｇ）を
含有する留出物を取り出した。

頂部を経て主として不活性ガスからなる瘉ガス２ｋｇを
導出した。

メタノール塔に水４２０　　ｋｇ及びメタノール４１４
　ｋｇよりなる混合物（夫々１時間当たり）を導出した
。

不純物を含有する導出した留出物□その際留出物用導出
プレートはＤＭＥ−導出部の下に３個のみのプレートで
ある　　の少量のみによって及び留出したＤＭＥの高収
率（装入生成物に於けるＤＭＥの９９．６％）により生
ゼしぬられるが、ジメチルエーテルは僅かな臭気を有し
た。

比較例　８ａ 例８を繰り返したが、但しｐｌ＋が塔底部に於いて８〜
９である程度の水性に０１【（約２０％）を添加した。

この様に得られるジメチルエーテルは完全に無臭であっ
た。同様な結果はＣａ（Ｏｎ）ｚの添加により得られた
。

ジメチルエーテル塔中への装入生成物は次の例９〜１０
の場合連続的に合成反応器から塔に装入された。試験の
全走行時間は夫々７２０時間であった。

例９ 反応生成物は未反応メタノール１０４６　ｋｇ、反応水
１４４２　ｋｇ及びジメチルエーテル３７７３　ｋｇか
ら構成されていた。

この混合物を１１２℃の温度で蒸留塔に５３．プレート
に於いて移動させた。

塔は６１個のバルブプレートを有する全プレート数を有
した。

還流比は１：３であった。

５０、プレートに於いて不純物６０　ｋｇ／時を導出し
た。（この留分５７　ｋｇはジメチルエーテルから構成
されていた） ４５．プレートに於いてジメチルエーテル３７１６　　
ｋｇを導出した。主として不活性ガスからなるガス３　
ｋｇは塔頂を経て移動した。

底液は２４８６　ｋｇから構成され、これを４０個のバ
ルブプレートを備えたメタノール塔に送入した。

そこではメタノール−これは頂部を経て取り出された−
１０４４　ｋｇ及び水−これは底部から導出された−１
４４２　　ｋｇへの定量的分離が行われた（夫々１時間
当たり）。

ジメチルエーテルは無臭であった。メタノール含有率は
２ｐｐｍであり、炭化水素含有率は＜５０　ｐｐｍであ
った。

例１０ 例１０を例９に従って実施した。

ジメチルエーテル塔への装入生成物は未反応メタノール
５９７９　ｋｇ、反応水７９　ｋｇ及びジメチルエーテ
ル２０３　　ｋｇから構成されていた（夫々１時間当た
り）。

混合物を４５．プレートに於いてジメチルエーテル塔に
装入した。

還流比は１：１５であった。

５０、プレートに於いて不純物２１ｋｇ／時を導出した
。（このうち１０ｋｇがジメチルエーテルから構成され
ていた）。

３３、プレート（塔頂から）に於いて純ジメチルエーテ
ル１９３　　ｋｇを導出した。塔頂に於いて不活性物が
毎時１ｋｇ得られた。

底部生成物６０４７　ｋｇをメタノール塔に装入し、そ
こではメタノール５９７８　ｋｇ及び水７９ｋｇに分離
した。

ジメチルエーテルは無臭であった。

メタノール含有量は３ｐｐｍであり、炭化水素含有量は
＜５０　ｐｐｍであった。

例１１−１３に於いて種々な組成の混合物を使用した（
走行時間夫／＝４８時間）。

例１１ 例１１を例９に従って実施した。

反応生成物は未反応メタノール１８８　　ｋｇ、反応水
１７０８　ｋｇ及びジメチルエーテル４３６５　ｋｇか
ら構成されていた。

混合物は２８．プレートに於いてジメチルエーテル塔に
装入された。

還流比はｉ：０．４であった。

２２、プレートに於いて不純物９１ｋｇ／時を導出した
。

このうち９０ｋｇがジメチルエーテルから構成されてい
た。１７．プレートに於いて不活性物４ｋｇが得られた
。底部生成物１８９５　ｋｇをメタノール塔に装入し、
そこではメタノール１８７　　ｋｇ及び反応水１７０８
　ｋｇに分離した。（夫々１時間当たり）。

メタノールをジメチルエーテル合成に戻した。

ジメチルエーテルは非常に僅かな臭気を有した。

比較例　１１ａ 例１１を繰り返したが、但しジメチルエーテル塔の底液
をｐｔ（７，５〜８．５に調整した（１０％Ｎ　ａ　Ｏ
Ｈ−溶液を用いて）。

この様に得られたジメチルエーテルは無臭であった。同
一の結果は塩基としてのし１０１１及びＭｇ（Ｏｆｆ）
ｚを用いて得られた。

例１２ ６５個のバブルプレートを備えた塔にＤ）ＩＥ−合成反
応器からの脱水混合物　　これはＤＭＥ４３００ｋｇ、
メタノール１２００　ｋｇ及び水１６８５　ｋｇからな
る□７１８５　　ｋｇ／時を５１．プレートに於いて装
入した。

７、プレートに於いてＤＭＥ　４２２０　ｋｇを導出し
た。

４０、プレートに於いて不純物８２　ｋｇ　（このうち
ＤＭＥ　８０　ｋｇ）を含有する留出物を導出した。

メタノール塔にメタノール１１９８　ｋｇ及び水１６８
５　　ｋｇが移動した。

メタノールを留出し、合成反応器に戻した。

ジメチルエーテルは僅かな臭気を有した。

比較例　１２ａ 例１２を繰り返したが、但しジメチルエーテル塔の底液
をｐＨ１２に（Ｎａｉｌ（２０％で）調整した。

この様に得られたＤＭＥは完全に無臭であった。

例１３ １０個のバルブプレートを有する塔に装入生成物　　こ
れはジメチルエーテル２９４０．ｋｇ、メタノール３０
ｋｇ及びＨｚ０３０ｋｇからなる□３．０００　ｋｇ／
時を装入した。

混合物を１．プレートに於いて塔底を経て供給した。５
．プレート（下部から）に於いて臭気成分を含有するＤ
ＭＥ　（工業用品’ｆｃ）１４６５　　ｋｇを導出した
。９．プレート（下部から）に於いてメタノールｌｐｐ
ｍ及び炭化水素＜５０　ｐｐｍを有する無臭の純ジメチ
ルエーテル１４７５　ｋｇを導出した。

例１及び２は、付加的メタノールにより取得可能な純ジ
メチルエーテルが増大することを示す。

例３及び比較例３ａから、洗浄液としての粗メタノール
を使用する場合純ジメチルエーテルの増大量を得ること
が明白である。

例４に於いてメタノール合成装置からの粗メタノール及
びジメチルエーテル−合成装置からの脱水生成物の典型
的な統合された蒸留が開示されている。

両生酸物の比率は約１１：１であるが、併し上記の様に
、装置の能力に依存して変えることができる。該例は、
高純度のジメチルエーテルを、゛標準規格に適合した純
メタノールの取得が阻害される（例中では開示されてい
ない）ことのない操作法で得ることができる。

例５から、水及びメタノール／水−混合物を用いてもジ
メチルエーテルの品質を改善することができることが明
白である。

最後に例６及び比較例６ａ及び６ｂは、本発明による蒸
留法から離れても洗浄液の使用はジメチルエーテルの品
質を改善することを示す。

例７及び８は、装入生成物中のＤＭＥ−濃度に対する非
常に僅かな還流比及びδＷ求求肥記載導出プレートの限
界範囲に於ける不純物及び純ジメチルエーテルの導出に
於いて生ずる臭気が塩基の添加又は７以上のｐｌ＋の調
整により除去することができることを示す。

例９及び１０から、供給プレートとジメチルエーテル導
出部との間の少なくとも８個のプレートの間隔の場合無
臭ジメチルエーテルが得られることが明白である。

例１１及び１２は、メタノール塩に於いて留出したメタ
ノールのジメチルエーテル−合成反応器への再循還によ
りジメチルエーテル中で僅かな臭気が生ずるが、併し本
発明によるｐＨ−１Ｊｌ整により除去することができる
ことを示す。

例１３は、非常に簡単な蒸留塔に於いて本発明により無
臭の純ジメチルエーテルを得ることができることを示す
。

本発明は、原則的に全ての本発明による操作法並びに請
求項中の限界範囲に於ける操作法に於いてｐＨの調整が
申し分のないＤＭＥ−製造の確保に非常に重要であるこ
とを示す。

【図面の簡単な説明】

第１図はジメチルエーテルを製造及び精製するための装
置を例示するもので、あり、第２図は純ジメチルエーテ
ルの取得用蒸留塔を例示するものであり、第３図は初留
サイドストリッパーを有する塔を例示するものであり、
第４図は２個のジメチルエーテル−塔の組み合わせを例
示するものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、１４０〜５００℃の温度及び１〜５０バールの圧力
   に於けるメタノールの接触脱水及び気体及び／又は液体
   脱水生成物の、純ジメチルエーテルを取得するための塔
   への塔底部より少なくとも１段上のプレート特に少なく
   とも５段上のプレート殊に少なくとも１０段上のプレー
   トに於ける供給による蒸留後処理により純ジメチルエー
   テルを取得する方法に於いて、 イ、不純物を含有する液体及び／又は気体留分を１又は
   多数のプレートに於いて導出し、その際不純物を含有す
   る留分を純ジメチルエーテル用の最下部の導出プレート
   より少なくとも３段殊に少なくとも５段下のプレートで
   、底部より少なくとも５段上のプレート殊に少なくとも
   １０段上のプレートまで導出すること、 ロ、純ジメチルエーテルを導出するプレート、又は多数
   の導出プレートの場合最下部のプレートは、 １個のみの供給プレートに於いて、装入生成物を供給す
   るプレートより少なくとも８段上のプレート特に少なく
   とも１０段上のプレート殊に少なくとも１２段上のプレ
   ートであり、 多数の供給プレートに於いて、最上部の供給プレートに
   於いて供給された、 全量の＞０〜＜１００％の量の場合最上部の供給プレー
   トより少なくとも１段上乃至少なくとも８段上のプレー
   トであり、その際供給量が増大するにつれてプレート間
   隔が増大することを特徴とする方法。 ２、脱水生成物を蒸留後処理してジメチルエーテルとす
   るためにジメチルエーテル塔の底部に於いて少なくとも
   ７殊に＞７のｐＨに調整する請求項１記載の方法。 ３、ｐＨ−調整のためにＮａＯＨ及び／又はＫＯＨを添
   加する請求項１又は２記載の方法。 ４、ジメチルエーテル−合成反応器からの脱水生成物に
   付加的に洗浄液を使用する請求項１〜３の何れかに記載
   の方法。 ５、洗浄液がメタノール又はメタノール／水−混合物で
   ある請求項１〜４の何れかに記載の方法。 ６、洗浄液が水である請求項１〜４の何れかに記載の方
   法。 ７、純ジメチルエーテルを取得するための蒸留塔頂に於
   いて導出した、一般にＣＯ＿２、Ｎ＿２、軽炭化水素及
   びジメチルエーテルを含有する軽成分を向流、交差流又
   は平流させて洗浄して、好ましくはメタノールで洗浄し
   て、ジメチルエーテルを得る請求項１〜６の何れかに記
   載の方法。 ８、洗浄液を、不純物を含有する留出物用の導出プレー
   トより下の蒸留塔に装入する請求項１〜７の何れかに記
   載の方法。 ９、ジメチルエーテル塔への脱水生成物の場合ジメチル
   エーテル２０〜５重量％を含有する該生成物をも含めて
   洗浄液の添加下１：０．２乃至１：１００殊に１：０．
   ２乃至１：２５の還流比で行われ、ジメチルエーテル２
   ０〜８０％を含有する全−装入生成物の場合１：０．２
   乃至１：５０殊に１：１乃至１：５の還流比で行われ、
   ジメチルエーテル＞５〜＜２０重量％を含有する全−装
   入生成物の場合１：０．２乃至１：５０殊に１：０．２
   乃至１：０．２乃至１：２５の還流比で行われ、ジメチ
   ルエーテル＞８０重量％及び＜１００重量％を含有する
   全−装入生成物の場合１：０．２乃至１：１０殊に１：
   ０．２乃至１：５の還流比で行われ、その際装入生成物
   中のジメチルエーテル濃度が増大するにつれて一般に減
   少する還流比を選択する請求項１〜８の何れかに記載の
   方法。