JPH0263119A - 薬液処理用装置及びそれを用いた薬液処理方法 - Google Patents

薬液処理用装置及びそれを用いた薬液処理方法

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Publication number
JPH0263119A
JPH0263119A JP21596588A JP21596588A JPH0263119A JP H0263119 A JPH0263119 A JP H0263119A JP 21596588 A JP21596588 A JP 21596588A JP 21596588 A JP21596588 A JP 21596588A JP H0263119 A JPH0263119 A JP H0263119A
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JP
Japan
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chemical
rotating body
chemical liquid
tank
treated
Prior art date
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Pending
Application number
JP21596588A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Kato
加藤 直規
Takashi Makimura
牧村 隆司
Masaru Asano
勝 浅野
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NTT Advanced Technology Corp
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
NTT Technology Transfer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp, NTT Technology Transfer Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP21596588A priority Critical patent/JPH0263119A/ja
Publication of JPH0263119A publication Critical patent/JPH0263119A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、半導体ウエフ?などを薬液を用いて洗浄した
り、エツチングしたりするのに用いる薬液処理用装置、
及びそれを用いた薬液処理方法に関する。
【従来の技術l 従来、第9図及び第10図を伴って次に述べる薬液処理
用装置が提案されている。 すなわち、水平方向に延長している平らな床面1上に、
2本の支柱2及び3が、水平方向に比較的長い間隔を保
ち且つ垂直方向にそれぞれ延長して固定植立されている
。 それら支柱2及び3間には、案内レール4が水平方向に
延長して橋架されている。 案内レール4には、水平脚5が設けられている。この水
平脚5は、自身を、案内レール4上に、それに案内され
て水平方向に移動させるための水平駆動手段(図示せず
)を内装しているとともに、垂直脚6を有する。 この垂直脚6は、自身を、水平脚5上に、それに案内さ
れて垂直方向に移動させるための垂直駆動手段(図示せ
ず)を内装しているとともに、取手7aを有し且つ薬液
処理されるべき被処理物を収容する薬液処理用ff17
を、その取手7aを介して、吊下させる吊下具8を有す
る。 以上が、従来提案されている薬液処理用装置の構成であ
る。 また、従来、次に述べる、上述した従来の薬液処理用装
置を用いた薬液処理方法が提案されている。 すなわち、上述した薬液処理用装置を用い、そして、床
面1上に、案内レール4の延長方向に冶りて、複数n個
(以下、簡単のため、n=2の場合が示されている)の
第1、第2・・・・・・・・・第nの薬液槽B、B2・
・・・・・・・・Boを順次配しま た状態にしておく。 また、垂直脚6を、それに吊下用具8を介して薬液処理
用箔7が吊下され(す且つ薬液処理用箔7の下面が第1
の薬液槽B1の上面よりも高い位置にある水平脚5上の
移動位置にあらしめた状態で、水平脚5を、薬液処理用
17が垂直脚6の吊下具8によって第1の薬液槽B1か
らみて第2の薬液W!B21111Jとは反対側で吊下
され得る案内レール4上の移動位置P′3にあらしめた
状態にしておく。 そして、垂直脚6の吊下具8に、被処理物を予め収容し
ている薬液処理用箔7を吊下さし、次で、水平脚5を、
それ自身の水平駆動手段によって、案内レール4上に、
薬液処理用箔7が第1の薬液槽B、の上方に到る移動位
置P′。 まで、水平方向に移動させ、次で、垂直脚6を、それ自
身の垂直駆動手段によって垂直方向に扛下させることに
よって、薬液処理用箔7を、第1の薬液槽B1内に浸漬
させ、それによって、薬液処理用箔7内に収容している
被処理物を、第1の薬液槽B1内の薬液によって、所要
時間処理さぼる。 次に、垂直脚6を、それ自身の垂直駆動手段によって、
薬液処理用?f17の下面が第(i−1)の薬液槽B(
il)及び第iの薬液槽B1の上面よりも高い位置にな
るまで、垂直方向に扛上させることによって、薬液処理
用箔7を、第(11)の薬液槽B(i−11外に上方に
引上げ、次で、水平脚5を、それ自身の水平駆動手段に
よって、薬液処理用箔7が第iの薬液槽B1の上方に到
る移動位置P′ iまで、水平方向に移動させ、次で、
垂直胴6を、それ自身の垂直駆動手段によって、垂直方
向に扛下させることによって、薬液処理用?!M7を、
第1の薬液槽B1内に浸漬させ、それによって、薬液処
理用?i!7内に収容している被処理物を、第1の薬液
槽B。 内の薬液によって、所要時間処理させることを、iに順
次2.3・・・・・・・・・「1の値をとらせて行わせ
る。 次に、垂直胴6を、上述したと同様に、垂直方向に扛上
させ、次で、水平駒5を、薬液処理用箔7が第nの薬液
ff1Boからみて第(n−1)薬液槽B   側とは
反対側において吊下具8(n−1) から取外され得る移動位置P′、まで、水平方向に移動
さける。 次に、薬液処理用箔7を、垂直胴6の吊下具8から取外
し、次で、その薬液処理用箔7から、薬液処理された被
処理物を取出し、被処理物に対する薬液処理を終了させ
る。 以上が、従来提案されている薬液処理用装置を用いた従
来の薬液処理方法である。 第9図及び第10図に示す従来の薬液処理用装置及びそ
れを用いた従来の薬液処理方法によれば、上述したとこ
ろから明らかなように、被処理物を第1の薬液槽B1外
から、第1の薬液1IB1内に浸漬させて、その被処理
物に第1回目の薬液処理を施し、次に、その薬液処理さ
れた被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i−1)内か
ら引上げて第1の薬液槽B・内に浸漬さ「て、その被処
理物に第1回目の薬液処理を施すことを、1に順次2.
3・・・・・・・・・nの値をとらせて行わせ、次に、
第nの薬液槽B。内で第n回目の薬液処理された被処理
物を第nの薬液槽B、内から引上げることによって、被
処理物に対する薬液処理を終了させることができる。 【発明が解決しようとする課題1 しかしながら、第9図及び第10図に示す従来の薬液処
理用装置及びそれを用いた従来の薬液処理方法の場合、
被処理物を第(i−1)の薬液槽B (+−1)内から
引上げて第1の薬液槽B内に浸漬させる一連の動作を、
垂直胴6を垂直方向に上方に扛上させ、次で、水平駒5
を水平方向に移動させ、次で、垂直胴6を垂直方向に下
方に扛下させるという3つの順次動作によって且つ被処
理物に四辺形の三辺に沿った軌跡を猫かせることによっ
て、行わせている。 このため、被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i−1
)内から引上げて第iの薬液槽8・内に浸漬させる一連
の動作を、簡易に行わせることができないとともに、上
述した一連の動作に、比較的長い時間を費し、従って、
薬液処理用装置が複雑な構成になるとともに、被処理物
に対Jる薬液処理に、長い時間を費す、という欠点を右
していた。 また、上述したように、上述した一連の動作に艮い時間
を費すため、被処理物を、第(i−1)の薬液槽B(i
−1)内から引上げて、第iの薬液槽B、内に浸漬させ
るまでの闇において、被処理物の表面を乾燥させるおそ
れを有し、このため、被処理物を第(i−1)の薬液槽
B(i−l)内で薬液処理して後第(i−1)の薬液槽
B   内から引上げたとぎに被処理物の表面(i−1
) に不要物が付着している場合、その不要物が、被処理物
を第iの薬液槽B、内から引上げて後も、被処理物の表
面に不必要に残っていたりす。 るおそれを有する、という欠点を有していた。 J:つて、本発明は、上述した欠点のない新規な薬液処
理用装置、及びそれを用いた薬液処理方法を提案せんと
するものである。 【課題を解決するための手段】 本願第1?l目の発明による薬液処理用装置番よ、偏心
位置から軸方向に延長している支杆を有する回転体と、
その回転体が転接する水平案内面を有する回転体案内手
段と、上記回転体を上記回転体案内手段の水平案内面上
に水平方向に転接移送させる回転体移送手段と、上記回
転体の支杆に設けられ且つ薬液処理されるべき被処理物
を吊下させる被処理物吊下用手段とを有する。 また、本願第2番目の発明による薬液処理方法は、上述
した本願第1番目の発明による薬液処理用装置を用い、
その上記回転体を上記回転体案内手段の水平案内面上に
一方向に転接移送させたときに上記被処理物吊下用手段
が順次最下点をとる、上記回転体の、上記水平案内面上
の複数n個の第1、第2・・・・・・・・・第nの転接
位置にそれぞれ対応している複数n1llJの第1、第
2・・・・・・・・・第nの薬液槽配置位置に、複数n
ljの第1、第2・・・・・・・・・第nの薬液槽を配
した状態で、且つ上記回転体を、被処理物が上記被処理
物吊下用手段に、上記第1の薬液槽から゛みて、上記第
1の薬液槽外の上記第2の薬液槽側とは反対側で吊下さ
れる、上記水平案内面上の転接移送位置にあらしめた状
態で、上記被処理物吊下用手段に、被処理物を吊下させ
、次で、上記回転体を、上記回転体移送手段によって、
上記回転体案内手段の水平案内面上に、一方向に、上記
第1の転接位置まで転接移送させることによって、上記
被処理物を、上記第1の薬液槽外から、上記第1の薬液
槽内に浸漬させ、次で、上記回転体を、上記回転体移送
手段によって、上記回転体案内手段の水平案内面上に、
上記方向に、第(i−1)の転接位置から、第nの転接
位置まで転接移送させることによって、1記被処理物を
、第(i−1)の薬液槽内から引上げて、第1の薬液槽
内に浸漬させることを、iに順次2.3・・・・・・・
・・nの値をとらせて行わせ、次で、上記回転体を、上
記回転体移送手段によって、上記回転体案内手段の水平
案内面上に、上記方向に転接移送させることによって、
上記被処理物を、上記第nの薬液槽内から、上記第nの
薬液槽からみて、上記第nの薬液槽外の上記第(n−1
)の薬液槽側とは反対側に引上げさける。 さらに、本願第3番目の発明による薬液処理用装置は、
偏心位置から軸方向に延長している支杆を有する複数(
n+1)個(ただし、nは2以上の整数)の第1、第2
・・・・・・第n、第(n+1)の回転体と、それら第
1、第2・・自・・第n、第(n+1)の回転体を、そ
れらの軸がともに水平になるように且つ上記第1、第2
・・・・・・第n、第(n+1>の回転体が順次配列さ
れるようにそれぞれ支持する複数(n+1)個の第1、
第2・・・・・・第n、第(n+1)の回転体支持手段
と、上記第1、第2・・・・・・第01第(n+1>の
回転体をそれぞれ回転させる複数(n+1)個の第1、
第2・・・・・・第n、第(n+1>の回転体躯初手段
と、上記第1、第2・・・・・・第n、第(n+1)の
回転体の支杆にそれぞれ設けられ■つ薬液処理されるべ
き被処理物を吊下させる複数(n+1)個の第1、第2
・・・・・・第n、第(n+1 )の吊下用手段とを有
する。 また、本願第4番目の発明による薬液処理方法は、上述
した本願第3番目の発明による薬液処理用装置を用い、
上記第1及び第2の回転体間、上記第2及び第3の回転
体間、・・・・・・・・・上記第(n−1)及び第nの
回転体間、上記第n及び第(n+1)の回転体間にそれ
ぞれ対応している複数n個の第1、第2・・・・・・・
・・第nの薬液槽配置位置に、複数n個の第1、第2・
・・・・・・・・第nの薬液槽をそれぞれ配した状態で
、且つ上記第1の回転体を、被処理物が上記第1の吊下
用手段に、上記第1の薬液槽からみて、上記第2の薬液
槽側とは反対側で吊下される、回動位置にあらしめた状
態で、上記第1の吊下用手段に、被処理物を吊下さけ1
次で、上記第1の回転体を、上記第1の回転駆動手段に
よって回動させることによって、上記被処理物を、上記
第1の11Wffi外から上記第1の薬液槽内に浸漬さ
せ、次で、第nの回転体を、第nの上記回転駆動手段に
よって回動させることによって、上記被処理物を、上記
第1の吊下用手段に吊下ざUている状態で、上記第(i
−1)の薬液槽内から引上げて、上記第iの薬液槽内に
浸漬させることを、1に順次2.3・・・・・・・・・
nの値をとらIることによって、行わヒ、次で、上記第
(n+1)の回転体を、上記第(n+1)の回転駆動手
段によって回転させることによって、上記被処理物を、
上記第(n+1)の吊下用手段に吊下させている状態で
、上記第nの薬液槽内から、上記第nの薬液槽からみて
、上記第nの薬液槽外の上記第(n−1>の薬液槽側と
は反対側に引上げさせる。
【作用・効果] 本願第1番目の発明による薬液処理用l!置及びそれを
用いた本願第2番目の発明による薬液処理方法によれば
、第9図及び第10図で上述した従来の薬液処理用装置
及びそれを用いた従来の薬液処理方法の場合と同様に、
被処理物を薬液槽B1外から、薬液槽B1内に浸漬させ
て、その被処理物に第1回目の薬液処理を施し、次に、
その薬液処理された被処理物を第(i−1)の薬液槽B
(i−1)内から引上げて第1の薬液槽B・内に浸漬さ
せて、その被処理物に第1回目の薬液処理を施すことを
、iに順次2.3・・・・・・・・・「)の値をとらせ
て行わせ、次に、第n回目の薬液処理された被処理物を
第nの薬液槽B。内から引上げることによって、被処理
物に対する薬液処理を終了させることができる。 しかしながら、本願第1番目の発明による薬液処理用装
置及びそれを用いた本願第2番目の発明による薬液処理
方法の場合、被処理物を第(+−1)の薬液槽B(i−
1)内から引上げて第1の薬液槽B、内に浸漬させる一
連の動作を、第1〜第nの薬液槽B1〜Boに対して共
通な回転体を回転体案内手段の水平案内面上に一方向に
転接移送させるだけの動作によって且つ被処理物にトロ
コイド曲線に沿った軌跡を描かせることによって、行わ
せている。 このため、本願第1番目の発明による薬液処理用装置及
びそれを用いた本願第2番目の発明による薬液処理方法
によれば、被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i−1
)内から引上げて第iの薬液槽B、内に浸漬さける一連
の動作を、第9図及び第10図で上述した従来の薬液処
理用装置及びそれを用いた従来の薬液処理方法の場合に
比し、簡易に、しかも短い時間で行わせることができ、
従って、被処理物に対する薬液処理を、第9図及び第1
0図で上述した従来の薬液処理用装置及びぞれを用いた
従来の薬液処理方法の場合に比し、簡易な構成で、且つ
短い時間で行わせることができる。 また、上述した一連の動作を短い時間で行わせることが
できるので、被処理物を薬液槽8(i−1)内から引上
げて、薬液槽B、内に浸漬させるまでの間において、被
処理物の表面を不必要に乾燥させなくてすみ、このため
、被処理物を薬液槽B(i−1)内で薬液処理して後、
薬液槽B(i−1)内から引上げたときに、被処理物の
表面に不要物が付着している場合で−し、その不要物を
、被処理物を、11ip&槽B・内から引上げたとき、
被処理物の表面に不必要に残させずにすますことができ
る。 また、本願第3番目の発明による薬液処理用装置及びそ
れを用いた本願第4番目の発明による薬液処理方法によ
る場合も、第9図及び第10図で上述した従来の薬液処
理用装置及びそれを用いた従来の薬液処理方法の場合と
同様に、被処理物を薬液槽B1外から、薬液槽B1内に
浸漬させて、その被処理物に第1回目の薬液処理を施し
、次に、その薬液処理された被処理物を第(i−1)の
薬液槽B(i−1)内から引上げて、第iの薬液槽B・
内に浸漬さゼて、その被言 処理物に第1回目の薬液処理を施すことを、iに順次2
.3・・・・・・・・・nの値をとらせて行わせ、次に
、第n回目の薬液処理された被処理物を第nの薬液槽B
、l内から引上げることによって、被処理物に対する薬
液処理を終了させることができる。 しかしながら、本願第3番目の発明による薬液処理用装
置及びそれを用いた本願第4番目の発明ににる薬液処理
方法の場合、被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i−
1)内から引上げて第iの薬液槽B、内に浸漬させる一
連の動作を、第iの回転体自身を単に回動させるだけで
の動作によって且つ被処理物に円線に沿った軌跡を描か
せることによって、行わせている。 このため、本願第3番目の発明による薬液処理用装置及
びそれを用いた本願第4番目の発明による薬液処理方法
による場合も、被処理物を第(i−1)の薬液1m B
 (i−1)から引上げて第iの薬液槽B、内に浸漬さ
せる一連の動作を、第9図及び第10図で上述した従来
の薬液処理用装置及びそれを用いた従来の薬液処理方法
の場合に比し、簡易に、しかも短い時間で行わせること
ができ、従って、被処理物に対する薬液処理を、第9図
及び第10図で上述した従来の薬液処理用装置及びそれ
を用いた従来の薬液処理方法の場合に比し、簡易な構成
で、且つ短い時間で行わせることができる。 また、上述した一連の動作を短い時間で行わせることが
できるので、被処理物を薬液槽B(i−1)内から引上
げて、薬液槽Bi内に浸漬させるまでの間において、被
処理物の表面を不必要に乾燥させなくてすみ、このため
、被処理物を薬液槽B(i−1)内で薬液処理して後、
薬液槽B(i−1)内から引上げたときに、被処理物の
表面に不要物が付着している場合でも、その不要物を、
被処理物を薬液槽B、内から引上げたとき、被処理物の
表面に不必要に残させずにすますことができる。 【実施例1】 次に、第1図及び第5図を伴って本願第1番目の発明に
よる薬液処理用装置の実施例及びそれを用いた本願第2
番目の発明による薬液処理方法の実施例を述べよう。 まず、本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実施
例について述べる。 本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実施例は、
次に述べる構成を有する。 すなわち、水平方向に延長している平らな床面11上に
、2本の支柱12及び13が、水平方向に比較的長い間
隙を保ち且つ、垂直方向にそれぞれ延長して、固定植立
されている。 それら支柱12及び13間には、2木の案内レール14
及び15が、案内レール14を下側として且つ上下方向
に予定の間隙を保つて相対向しているとともに水平方向
に延長して橋架されている。 これら案内レール14及び15は、それらの相対向する
側において、それぞれ横方向に延長している水平案内面
14a及び15aを有する。 案内レール14の水平案内面14a上には、案内レール
14及び15によって案内されながら転接する回転体1
6が配されている。 この回転体16には、それと一体に、回転体16の軸方
向に予定の間隙を保っている対の吊下用部17a及び1
7bを有し且つそれら吊下用部17aが回転体16の軸
方向からみて回転体16の同じ偏心位置をとるように回
転体16の軸方向に延長している支杆17が設けられて
いる。 支杆17は、図示のように、回転体16の偏心位置から
、直線的に回転体16の軸方向に延長している断面円形
の棒状体とし得、また、支杆17の吊下用部17a及び
17bは、そのような棒状体の延長途上の部とし得る。 また、回転体16は、その軸心位置から、支杆17を延
長させている側とは反対側に、回転体16の軸方向に延
長している軸18を、その周りに回転体16が回転でき
るように、緩挿させている。 一方、床面11上に、支柱12からみて支柱13側とは
反対側、及び支柱13からみて支柱12側とは反対側に
おいて、支柱19、及び20が、垂直方向に延長してそ
れぞれ固定植立され、そして、それら支柱19、及び2
0に、同じ大きさを有する回転ホイール21、及び22
が、回転体16の軸と直交する共通面上の同じ高さ位置
にあるように、回転自在にそれぞれ取付けられている。 回転ホイール21及び22周には、無端ベルト23が巡
らされている。 一方の回転ホイール21の回転軸21aは、床面11上
に設置されたモータ24に連結されている。 無端ベルト23には、上述した回転体16に緩挿されて
いる軸18に係合している係合片23aが設けられてい
る。従って、無端ベルト23が移送されれば、回転体1
6に緩挿している軸18が、係合片23aを介して、無
端ベルト23の移送方向に押されるので、回転体16が
、軸16aの周りに、案内レール14及び15に案内さ
れながら、回転し、よって、回転体16が案内レール1
4上に転接しながら無端ベルト23の移送方向に移動す
る。 上述した回転体16が有している支杆17には、その吊
下用部17a及び17bの位置において、下部間に被処
理物を収容する薬液処理用筆27を描動自在に且つ吊下
・非吊下自在に吊下する吊下用腕杆25a及び25bが
、B +)」自在に吊下されている。 以上が、本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実
施例の構成である。 次に、上述した構成を有する本願第1番目の発明による
薬液処理用装置を用いた本願第2番目の発明による薬液
処理方法の実施例を述べよう。 上述した本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実
施例を用いた本願第2番目の発明による薬液処理方法の
実施例は次のとおりである。 すなわち、上述した床面11上の複数n個の第1、第2
・・・・・・・・・第nの薬液槽配置位置P1、P2・
・・・・・・・・Po(図においては、簡単のため、n
−2の場合が示されている)に、複数n個の第1、第2
・・・・・・・・・第nの薬液槽B  、B  ・・・
・・・・・・B、をそれぞれ配した状態にしておく。 第1、第2・・・・・・・・・第nの薬液槽配置位置P
1、P2・・・・・・・・・Poは、次のとおりである
。 すなわち、いま、回転体16が、支杆17の吊下用部1
7a及び17bを最下点にさせるまで回転している、回
転体16の回転軸16aの周、りの回転位置を、回転体
16のOoの回転位置とする。 また、回転体16が、案内レール14上の支柱12側の
吊下位置P′8において、0°の回転位置とそれから順
方向に180°だけ回転した180°の回転位置(吊下
用部17a及び17bを最上点にさせる回転位置)との
間の回転位置例えば90°の回転位置をとっている状態
から、順方向に支杆17の吊下用部17a及び17bが
順次複数n回だけ最下点をとり、次で、回転体16が順
方向に180°だけ回転した180°の回転位置と36
0°だけ回転した360°の回転位置との間の回転位置
、例えば270″の回転位置をとるまで回転して、支柱
13側の取出位i1P’ 、まで転接移送し、また、そ
の取出位置P’ 、から、逆方向に回転して、上述した
吊下位置P′8まで転接移送するとする。 さらに、回転体16が、いま述べたように、吊下位置P
′8から取出位置P′、まで転接移送することによって
、吊下用部17a及び17bが1.順次複数n回最下点
をとるときの回転体16の案内レール14上の位置を、
それぞれPl、P′2・・・・・・・・・ploとする
。 しかるとき、上述した薬液槽B1側@P1P2・・・・
・・・・・P は、いま述べた位置P′1、P2・・・
・・・・・・pto下の位置である。 また、回転体16を、支柱12側の°案内レール14上
の上述した吊下位置P′8において、上述した90@の
回転位置をとっている状態にしておく。この場合、吊下
用部17a及び17bは最下点と最上点との間の中間高
さ位置をとっている。 以上のような状態から、まず、吊下用部17a及び17
bに吊下されている吊下用腕杆25a及び25bの下部
間に、被処理物を収容している薬液処理用筆27を吊下
させる。 次に、モータ24を順方向に回転駆動させ、それによっ
て無端ベルト23を移送させ、それによって軸18を係
合片23aを介して無端ベルト23の移送方向に即し、
よって、回転体16を、それが軸18の周りに順方向に
270゜だけ回転するように、案内レール14の水平案
内面14a上に転接移送させ、それによって、薬液処理
用筆27を、第1の薬液槽B1からみて、第2の薬液槽
B2側とは反対側から、扛上させながら第1の薬液槽B
1側に移動させ、次で扛下させながら第1の薬液槽B1
に移動させ、次で、第1の薬液槽B1内に配した状態に
させ、それによって、被処理物を、第1の薬液槽81内
の薬液によって、所要時間処理させる。 次に、モータ24を順方向に回転駆動させ、それによっ
て無端ベルト23を移送させ、それによって、回転体6
を、それが軸18の周りに順方向に360°だけ回転す
るように、案内レール14の水平案内面14a上に転接
移送させ、それによって、薬液処理用!!127を、第
(1)の薬液槽” (i−1)内の位置から、扛上させ
ながら、第iの薬液槽B、側に移動させ、次で扛下させ
ながら、第iの薬液槽B、側に移動させ、次で第iの薬
液槽B、内に配した状態にさせ、それによって、被処理
物を、第1の薬液槽B・内において、その薬液によって
、所要時間処理させることを、iに順次2.3・・・・
・・・・・nの値をとらせて行わせる。 次に、モータ24を順方向に回転駆動させ、それによっ
て無端ベルト23を移送させ、それによって、回転体1
6を、それが軸18の周りに順方向に270°ゲは回転
するように、案内レール14の水平案内面14a上に転
接移送させ、それによって、薬液処理用箔27を、第n
の薬液槽B。内から扛上させながら、第nの薬液槽B 
からみて第(n−1)の薬液槽B(。−1)側とは反対
側に移動させ、次で扛下させながら、第nの薬液1!B
oからみて第(n−1>の薬液槽B(。−1)側とは反
対側に案内レール14上の位置P′、まで移動させる。 次に、薬液槽用!I27を、吊下用腕杆25a及び25
bに吊下されている状態から取外し、次で、その薬液処
理用!I27から、薬液処理された被処理物を取出し、
被処理物に対する薬液処理を終了させる。 以上が、本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実
施例を用いた本願第2番目の発明による薬液処理方法の
実施例である。 上述した本願第1番目の発明による薬液処理用装置及び
それを用いた本願第4番目の発明による薬液処理方法の
実施例によれば、上述したところから明らかなように、
第9図及び第10図で上述した従来の薬液処理用装置及
びそれを用いた薬液処理方法の場合と同様に、被処理物
を、第1の薬液槽B1外から、第1の薬液槽B、内に浸
漬させて、その被処理物に第1回目の薬液処理を施し、
次に、その薬液処理された被処理物を第(i−1)の薬
液槽(i−1)内から引上げて第1の薬液槽B・内に浸
漬させて、その被処理物に第1回目の薬液処理を施すこ
とを、iに順次2.3・・・・・・・・・nの値をとら
せて行わ「、次に、第nの薬液槽B。内で第n回目の薬
液処理された被処理物を第nの薬液槽B。内から引上げ
ることによって、被処理物に対する薬液処理を終了さけ
ることができる。 しかしながら、被処理物を第(i−1)の薬液4!B(
H−o内から引上げて第iの薬液槽B。 内に浸漬させる一連の動作を、第1〜第nの薬液槽B1
〜8oに対して共通な回転体16を案内レール14の水
平案内面14a上に一方向に転接移送させるだけの動作
によって且つ被処理物にトロコイド曲線に沿った軌跡を
描かせることによって、行わせている。 このため、上述した一連の動作を、第9図及び第10図
で上述した従来の場合に比し、簡易に、しかも短い時間
で行わせることができ、従って、被処理物に対する薬液
処理を、第9図及び第10図で上述した従来の場合に比
し、簡易な構成で且つ短い時間で行わせることができる
。 また、上jホした一連の動作を短い時間で行ねせること
ができるので、被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i
−1)内から引上げて、第iの薬液槽B・内に浸漬させ
るまでの間において、被処理物の表面を不必要に乾燥さ
せなくてすみ、このため、被処理物を薬液槽B(i−1
)内で薬液処理して後薬液槽B(i−4)内から引上げ
たときに被処理物の表面に不要物が付着している場合で
も、その不要物を、被処理物を薬液槽B・内から引上げ
たとき、被処理物の表面に不必要に残させずにすますこ
とができる。 (実施例2] 次に、第6図〜第8図を伴って、本願第3番目の発明に
よる薬液処理用装置の実施例及びそれを用いた本願第4
番目の究明による薬液処理方法の実施例を述べよう。 まず、本願第3?l目の発明による薬液処理用装置につ
いて述べる。 本願第3番目の発明による薬液処理用装置の実施例は、
次に述べる構成を有する。 すなわち、横方向に延長している平らな床面11上に、
複数(n +1 )個(ただし、nは2以上の整数)の
第1、第2・・・・・・・・・第n、第(n+1)の支
柱H,H2・・・・・・・・・Ho%Hn+1(ただし
、図においては、簡単のため、n=2の場合を示してい
る)が、はぼ−線上に、順次、固定植立して配列されて
いる。 支柱H,H2・・・・・・・・・Ho5Ho+1には、
第1、第2・・・・・・・・・第n、第(n+1)の回
転体R1R・・・・・・・・・R%Rn+1が、それら
の軸が12     n ともに水平になるように、それぞれ回転自在に装架され
ている。 第1、第2・・・・・・・・・第n、第(n+1)の回
転体R1、R2−・−・−・−・Rn 、 Rn+1は
、床面11上に設置された第1、第2・・・・・・・・
・第n、第(n+1)のモータM1、M2・・・・・・
”・Mn 1”n+1にイれぞれ連結されている。 一方、第jの回転体J  (j=1.2、・・・・・・
・・・n、(n+1)は、吊下用部32を有し且つその
吊下用部32が第jの回転体Rjの軸方向からみて第j
の回転体Rjの偏心位置をとるように第jの回転体Rj
の軸方向に延長している支杆Bj@有する。 第jの回転体R0の支杆Bjには、その吊下用品32に
おいて、取手33aを有し且つ被処理物を収容する薬液
処理用L1133を吊下するための第jの吊下用装置K
jが設けられている。 第jの吊下用装置Kjは、電磁石(図示Uず)を内装し
ている部34aと、r1端部が半円弧状を有し且つ部3
4aから下外方に延長している一対の作動片34b及び
34Gを有する。 第jの吊下用部flWKjの作動片34b及び34Cは
、部34aに内装されている電磁石の作動を制御するこ
とによって、閉じた半円環と問いた半円環とを選択的に
形成する。 吊下用部RKJの作動片34b及び34cが開いた半円
環を形成している場合、その聞いた半円環内に、薬液処
理用箔33の取手33aを、吊下用部ffffKjの下
側から位置させることができる。また、薬液処理用l@
33の取手33aが、吊下用部fiK・の作動片34b
及び34Cによ」 って形成されている開いた半円環内に位置している状態
から、吊下用装置Kjにおいて、その電磁石の作動の制
御によって、作動片34b及び34cによる閏じた半円
環を形成させ、次で、吊下用装置Kjを扛上さ「れば、
薬液処理用箔33を、吊下用装置K・を介して、回転体
Rjの支杆32に吊下した状態にさせることができる。 以上が、本願第3番目の発明による薬液処理用装置の実
施例の構成である。 次に、このような構成を有する本願第3番目の発明によ
る薬液処理用装置の実施例を用いた本願第4番目の発明
による薬液処理方法の実施例を述べよう。 本願第3番目の発明による薬液処理用装置の実施例を用
いた本願第4番目の発明による薬液処理方法の実施例は
、次のとおりである。 すなわら、上述した床面11上に、回転体R1及びR2
間、R2及びR3間・・・・・・・・・R(。−1)及
びR間、R及びR間にそれぞれ対 n    n    (n+1) 応する第1、第2・・・・・・・・・第nの薬液槽配置
位置P、 、R2・・・・・・・・・P、に、第1、第
2・・・・・・・・・第nの薬液槽B、82・・・・・
・・・・Boをそれぞれ予め配置した状態にしておく。 また、第1の回転体R1を、その支杆B1に設けた吊下
用装置K が、第1の薬液槽B1からみて、第2の薬液
WIB2側とは反対側にあるような、支柱R1上の回動
位置まで回転している状態に予めしておく。 また、第2、第3・・・・・・・・・第n1第(n+1
>の回転体R11・・・・・・・・・R,R(。+1)
を、23     n それらの支杆B  、B  ・・・・・・・・・B  
、B(。、1)23     n にそれぞれ設けた吊下用装置に2 、K3・・・・・・
・・・K %K(。、1)が、それぞれ第2、第3・・
・・・・・・・n 第「1、第(n+1 )の薬液槽B2、B3・・・・・
・・・・B、B(。、1)からみて、それぞれ第1、第
2・・・・・・・・・第(n−1)、第nの薬液槽B1
、B2・・・・・・・・・B(。−1)、Bo側とは反
対側にあるような回動位置まで回転している状態に予め
しておく。 この場合、いま、第jの回転体Rjが、その第jの支杆
B・に設けた第jの吊下用装置町を最下点にさせるまで
回動している回転体Rjの支柱Hj上の回動位置から、
順方向に90゜だけ支柱Hj上で回動している回動位置
を、第jの回転体RjのOoの回動位置とするとぎ、第
1の回転体R1は、Ooの回動位置をとり、第2〜第(
n+1)の回転体R2〜R(。+1)は、0″の回動位
置から順方向に180@だけ回動している180°の回
動位置をとっている。 また、第1〜第(n+1)の回転体R1〜R(。+1)
の支杆B1〜B(。+1)に設けた吊下用装置に1〜K
 (n+1)の全てについて、その電磁石によって、作
動片34b及び34Cが開いた半円環を形成した状態に
しておく。 以上のような状態から、まず、第1の回転体R・の支杆
B1に設けた第1の吊下用装置11に1の作動片34b
及び34cが形成している問いた半円環内に、被処理物
を収容している薬液処理用箔33の取手23aを位置さ
せ、次に、第1の吊下用装置に1において、その電磁石
の作動の制御によって、作動片34b及び34Cによる
閉じた半円環を形成させ、それによって、薬液処理用箔
33を、吊下用装置に1を介して、第1の回転体Rの第
1の支杆B1に出下させす る。 次に、第1の回転体Rを、モータM1によって、順方向
に半回転させて、180″′の回動位置に位置させるこ
とによって、薬液処理用箔23を、薬液WJB1からみ
て薬液4f!B1外の薬液槽B21IJとは反対側から
、打上さuながら薬液槽B1側に向わせ、次で扛下さV
ながら薬液If!81側に向わせ、次で、薬液槽B1内
に、その底に接触した状態に配置した状態にさせ、それ
によって、被処理物を、第1の薬液槽B1内において、
その薬液によって、所要時間処理さ往る。 次に、被処理物を、第(i−1)の薬液槽B(i−1)
内において、その薬液によって所要時間処理させたとこ
ろで、第(i−1)の吊下用装置K(i−1)において
、その電磁石の作動の制御によって、作動片34b及び
34Cによる開いた半円環を形成させ、次で、第に−1
>の回転体R(i−11を、モータM(i−1)によっ
て、180°の回動位置から、逆方向に半回転させて、
Ooの回動位置に復帰させ、また、それと同時的に、第
1の回転体R・を、モータM・によっで、180°回動
位置から、逆方向に半回転させて、0°の回動位置に位
置させ、それによって、第1の吊下用装置に、の作動片
34b及び34Cが形成している開いた半円環内に、薬
液処理用133の取手33aを位置させ、次で、第iの
吊下用装置Kiにおいて、その電磁石の作動の制御によ
って、作動片34b及び34cによる閉じた半円環を形
成させ、次で、第iの回転体R1を、モータM・によっ
て、Ooの回動位置から、順方向に半回転させて、18
0”の回動位置に位置させ、それによって、薬液処理用
箔33を、第(i−1)の薬液槽B(i−1)内に配さ
れている状態から、扛上させながら第iの薬液槽B・側
に向わ11次で扛下させなから第1の薬液槽B、側に向
わせ、次で第iの薬液槽B、内に、その底に接触した状
態に配置させ、それによって、被処理物を、第iの薬液
槽B、内において、その薬液によって所要時間処理さゼ
ることを、iに順次2.3・・・・・・・・・nの値を
とらせて、行わせる。 次に、被処理物を、薬液1t!Bo内において、その薬
液によって所要時間処理させたところで、第nの吊下用
装置K。においで、そのI磁石の作動の制御によって、
作動片34b及び34cによる開いた半円環を形成させ
、次で、第nの回転体Rnを、モータMnによって、1
80′″の回動位置から、逆方向に半回転させて、0゜
の回動位置に復帰させ、また、それと同時的に、第(n
+1)の回転体R(。、1)を、モータM(。 、1)によって、180°回動位置から、逆方向に半回
転させて、0°の回動位置に位置させ、それによって、
第(n + 1 >の吊下用装置K(。 、1)の作動片34b及び34cが形成している開いた
半円環内に、薬液処理用箔33の取手33aを位置させ
た状態にさせ、次で、第(n+1)の吊下円部@K(。 、1)において、その電磁石の作動の制御によって、作
動片34b及び34Cによる閉じた半円環を形成させ、
次で、第(n+1)の回転体R(n+1)を、モータ”
 (n+t)によって、0°の回動位置から順方向に手
回転させて、180°の回動位置に位置させ、それによ
って、薬液処理用箔33を、薬液槽B。 内に配されている状態から扛上させながら、薬液槽B 
からみて薬液槽B(。−1)側とは反対側に向わせ、次
で扛下させながら、薬液槽B。からみて、薬液槽B(n
−1)側とは反対側に向わせ、よって、薬液IB、から
みて、薬液槽B(。−1)側とは反対側に位置させる。 次に、第(n+1>の吊下用装置K(。、1)において
、その電磁石の作動の制御によって、作動片34b及び
34Gによる問いた半円環を形成させ、薬液処理用箔3
3を、第(n+1 )の支杆B(。+1)に、第<n+
1)の吊下用装置K(。、1)を介して吊下されている
状態から取外し、次で、その薬液処理用?133から、
薬液処理された被処理物を取出し、被処理物に対する薬
液処理を終了させる。 以上が、本願第3番目の発明による薬液処理用装置の実
施例を用いた本願第4番目の発明による薬液処理方法の
実施例である。 上述した本願第3tI目の発明による薬液処理用装置及
びそれを用いた本願第4番目の発明による薬液処理方法
の実施例によれば、上)ホしたところから明らかなよう
に、第9図及び第10図で上述した従来の薬液処理用装
置及びそれを用いた薬液処理方法の場合と同様に且つ第
1図〜第5図で上述した本願第1番目の発明による薬液
処理用装置及びそれを用いた本願第2番目の発明による
薬液処理方法の場合と同様に、被処理物を、第1の薬液
槽B1外から、第1の薬液槽B1内に浸漬させて、その
被処理物に第1回目の薬液処理を施し、次に、その薬液
処理された被処理物を第(i−1)の薬液槽(i−1)
内から引上げて第iの薬液槽B・内に浸漬させて、その
被処理物に第1回目の薬液処理を施すことを、iに順次
2.3・・・・・・・・・nの値をとらせて行わせ、次
に、第nの薬液!IB、内で第n回目の薬液処理された
被処理物を第nの薬液IBo内から引上げることによっ
て、被処理物に対する薬液処理を終了させることができ
る。 しかしながら、被処理物を第(i−1)の薬液槽B(i
−1)内から引上げて第iの薬液4flB。 内に浸漬させる一連の動作を、第iの回転体R・自身を
単に一方向に回転させるだけの動作によって且つ被処理
物に円線に沿った軌跡を描かせることによって、行わせ
ている。 このため、上述した一連の動作を、第1図〜第5図で上
述した本願第1番目の発明による薬液処理用装置及びそ
れを用いた本願第2番目の発明による薬液処理方法の場
合と同様に、第9図及び第10図で上述した従来の場合
に比し、簡易に、しかも短い時間で行わせることができ
、従って、被処理物に対する薬液処理を、第1図〜第5
図で上述した本願第1番目の発明による薬液処理用装置
及びそれを用いた本願第2番目の発明による薬液処理方
法の場合と同様に、第9図及び第10図で上述した従来
の場合に比し、簡易な構成で且つ短い時間で行わせるこ
とができる。 また、上述した一連の動作を短い時間で行わせることが
できるので、第1図〜第5図で上述した本願第1番目の
発明による薬液処理用装置及びそれを用いた本願第2番
目の発明にJこる薬液処理方法の場合と同様に、被処理
物を第(11)の薬液槽B(i−1)内から引上げて、
第iの薬液槽Bi内に浸漬さぼるまでの間において、被
処理物の表面を不必要に乾燥させなくてすみ、このため
、被処理物を薬液槽B(i−1)内で薬液処理してI2
薬液槽B(i−1)内から引上げたときに被処理物の表
面に不要物が付着している場合でも、その不要物を、被
処理物を薬液ff1B、内から引上げたとき、被処理物
の表面に不必要に残させずにずまずことができる。 なお、上述においては、本発明の僅かな例を示したに留
まり、その他、本発明の精神を脱することなしに、種々
の変型、変更をなしくするであろう。 4、図面の簡単な、J2+11? 第1図は、第2図〜第5図を示す図である。 第2図、第3図及び第4図は、本願第1番目の発明によ
る薬液処理用装置の実施例及びそれに用いた本願第2番
目の発明による薬液処理方法の実施例の説明に供する、
本願第1番目の発明による薬液処理用装置の実施例の路
線的正面図である。 第5図は、第2図〜第4図に示す本願第1番目の発明に
よる薬液処理用装置の実施例の路線的側面図である。 第6図、第7図及び第8図は、本願第3番目の発明によ
る薬液処理用装置の実施例及びそれを用いた本願第4番
目の発明による薬液処理方法の実施例の説明に供する、
本願第3番目の発明による薬液処理用装置の実施例の路
線的正面図、側面図及び平面図である。 第9図及び第10図は、従来の薬液処理用装置及びそれ
を用いた従来の薬液処理方法の説明に供する、従来の薬
液処理用装置の路線的正面図及び側面図である。 1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・床面2
.3・・・・・・・・・・・・・・・支柱4.5・・・
・・・・・・・・・・・・案内レール8・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・吊下具11・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・床面12.13・・・
・・・・・・・・・支柱14.15・・・・・・・・・
・・・案内レール14a、15a・・・・・・水平案内
面16・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・回
転体17・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
支杆17a、17b・・・・・・吊下用部 18・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・軸1
9.20・・・・・・・・・・・・支柱21.22・・
・・・・・・・・・・回転ホイール23・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・無端ベルト23a・・・
・・・・・・・・・・・・・・・係合片24・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・七−タ25a、25
b・・・・・・吊下用腕杆27・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・薬液処理用箱32・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・支杆32a・・・・・・
・・・・・・・・・・・・吊下用部33・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・薬液処理用箱33a・・
・・・・・・・・・・・・・・・・取手34・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・吊下用装置34b、
34c・・・・・・作動片 B4、B2・・・・・・・・・B。 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・薬
液槽F11  、  ト12  ・・・ ・・・ ・・
・ 1」 。 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・支
柱P1、R2・・・・・・・・・P。 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・薬液
槽配置位置R、R2・・・・・・・・・Ro、Ro+。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、偏心位置から軸方向に延長している支杆を有する回
    転体と、 上記回転体が転接する水平案内面を有する 回転体案内手段と、 上記回転体を上記回転体案内手段の水平案 内面上に水平方向に転接移送させる回転体移送手段と、 上記回転体の支杆に設けられ且つ薬液処理 されるべき被処理物を吊下させる被処理物吊下用手段と
    を有することを特徴とする薬液処理用装置。 2、偏心位置から軸方向に延長している支杆を有する回
    転体と、 上記回転体が転接する水平案内面を有する 回転体案内手段と、 上記回転体を上記回転体案内手段の水平案 内面上に水平方向に転接移送させる回転体移送手段と、 上記回転体の支杆に設けられ且つ薬液処理されるべき被
    処理物を吊下させる被処理物吊下用手段とを有する薬液
    処理用装置を用い、 上記回転体を上記回転体案内手段の水平案 内面上に一方向に転接移送させたときに上記被処理物吊
    下用手段が順次最下点をとる、上記回転体の、上記水平
    案内面上の複数n個の第1、第2………第nの転接位置
    にそれぞれ対応している複数n個の第1、第2………第
    nの薬液槽配置位置に、複数n個の第1、第2………第
    nの薬液槽を配した状態で、且つ上記回転体を、被処理
    物が上記被処理物吊 下用手段に、上記第1の薬液槽からみて、上記第1の薬
    液槽外の上記第2の薬液槽側とは反対側で吊下される、
    上記水平案内面上の転接移送位置にあらしめた状態で、 上記被処理物吊下用手段に、被処理物を吊 下させ、 次で、上記回転体を、上記回転体移送手段 によって、上記回転体案内手段の水平案内面上に、一方
    向に、上記第1の転接位置まで転接移送させることによ
    つて、上記被処理物を、上記第1の薬液槽外から、上記
    第1の薬液槽内に浸漬させ、 次で、上記回転体を、上記回転体移送手段 によつて、上記回転体案内手段の水平案内面上に、上記
    方向に、第(i−1)の転接位置から、第iの転接位置
    まで転接移送させることによって、上記被処理物を、第
    (i−1)の薬液槽内から引上げて、第iの薬液槽内に
    浸漬させることを、iに順次2、3………nの値をとら
    せて行わせ、 次で、上記回転体を、上記回転体移送手段 によつて、上記回転体案内手段の水平案内面上に、上記
    方向に転接移送させることによって、上記被処理物を、
    上記第nの薬液槽内から、上記第nの薬液槽からみて、
    上記第nの薬液槽外の上記第(n−1)の薬液槽側とは
    反対側に引上げさせることを特徴とする薬液処理方法。 3、偏心位置から軸方向に延長している支杆を有する複
    数(n+1)個(ただし、nは2以上の整数)の第1、
    第2……第n、第(n+1)の回転体と、 上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体を、それらの軸がともに水平になるように且つ上
    記第1、第2……第n、第(n+1)の回転体が順次配
    列されるようにそれぞれ支持する複数(n+1)個の第
    1、第2……第n、第(n+1)の回転体支持手段と、
    上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体をそれぞれ回転させる複数(n+1)個の第1、
    第2……第n、第(n+1)の回転体駆動手段と、 上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体の支杆にそれぞれ設けられ且つ薬液処理されるべ
    き被処理物を吊下させる複数(n+1)個の第1、第2
    ……第n、第(n+1)の吊下用手段とを有することを
    特徴とする薬液処理用装置。 4、偏心位置から軸方向に延長している支杆を有する複
    数(n+1)個(ただし、nは2以上の整数)の第1、
    第2……第n、第(n+1)の回転体と、 上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体を、それらの軸がともに水平になるように且つ上
    記第1、第2……第nの回転体が順次配列されるように
    それぞれ支持する複数(n+1)個の第1、第2……第
    n、第(n+1)の回転体支持手段と、 上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体をそれぞれ回転させる複数(n+1)個の第1、
    第2……第n、第(n+1)の回転体駆動手段と、 上記第1、第2……第n、第(n+1)の 回転体の支杆にそれぞれ設けられ且つ薬液処理されるべ
    き被処理物を吊下させる複数(n+1)個の第1、第2
    ……第n、第(n+1)の吊下用手段とを有する薬液処
    理用装置を用い、 上記第1及び第2の回転体間、上記第2及 び第3の回転体間、………上記第(n−1)及び第nの
    回転体間、上記第n及び第(n+1)の回転体間にそれ
    ぞれ対応している複数n個の第1、第2………第nの薬
    液槽配置位置に、複数n個の第1、第2………第nの薬
    液槽をそれぞれ配した状態で、且つ 上記第1の回転体を、被処理物が上記第1 の吊下用手段に、上記第1の薬液槽からみて、上記第2
    の薬液槽側とは反対側で吊下される、回動位置にあらし
    めた状態で、 上記第1の吊下用手段に、被処理物を吊下 させ、 次で、上記第1の回転体を、上記第1の回 転駆動手段によつて回動させることによって、上記被処
    理物を、上記第1の薬液槽外から上記第1の薬液槽内に
    浸漬させ、 次で、上記第iの回転体を、第iの上記回 転駆動手段によつて回動させることによつて、上記被処
    理物を、上記第iの吊下用手段に吊下させている状態で
    、上記第(i−1)の薬液槽内から引上げて、上記第i
    の薬液槽内に浸漬させることを、iに順次2、3………
    nの値をとらせることによつて、行わせ、 次で、上記第(n+1)の回転体を、上記 第(n+1)の回転駆動手段によつて回転させることに
    よって、上記被処理物を、上記第(n+1)の吊下用手
    段に吊下させている状態で、上記第nの薬液槽内から、
    上記第nの薬液槽からみて、上記第nの薬液槽外の上記
    第(n−1)の薬液槽側とは反対側に引上げさせること
    を特徴とする薬液処理方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02219228A (ja) * 1989-02-20 1990-08-31 Tsurumi Kogyo Kk 洗浄装置
US6519143B1 (en) 1999-09-17 2003-02-11 Nec Corporation Docking station
JP2009120361A (ja) * 2007-11-16 2009-06-04 Aisin Seiki Co Ltd 搬送装置

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