JPH0263301B2 - - Google Patents
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- JPH0263301B2 JPH0263301B2 JP59195908A JP19590884A JPH0263301B2 JP H0263301 B2 JPH0263301 B2 JP H0263301B2 JP 59195908 A JP59195908 A JP 59195908A JP 19590884 A JP19590884 A JP 19590884A JP H0263301 B2 JPH0263301 B2 JP H0263301B2
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- H10W72/921—Structures or relative sizes of bond pads
- H10W72/926—Multiple bond pads having different sizes
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/721—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
- H10W90/724—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は超小型(マイクロミニアチユア)構成
素子を支持板又は基板に半田接続する方法に関す
るものであり、さらに具体的には良好な抵抗対横
方向ストレス比を与えるように縦方向に伸びた接
続体(ジヨイント)を形成するための方法に関す
る。
素子を支持板又は基板に半田接続する方法に関す
るものであり、さらに具体的には良好な抵抗対横
方向ストレス比を与えるように縦方向に伸びた接
続体(ジヨイント)を形成するための方法に関す
る。
本発明は基板に対して半導体デバイスをフエイ
スダウン又はフリツプチツプ式にボンデイングす
ることに関係があり、半導体デバイスと支持基板
との間の複数の電気的接続を極めて小さくしかも
密接した半田相互接続よつて行なうことを可能に
する。
スダウン又はフリツプチツプ式にボンデイングす
ることに関係があり、半導体デバイスと支持基板
との間の複数の電気的接続を極めて小さくしかも
密接した半田相互接続よつて行なうことを可能に
する。
[従来技術]
米国特許第3401126号及び第3429040号は半導体
チツプを支持体にフエイスダウン・ボンデイング
するための「コントロールド・コラプス(つぶ
し)接続」方法を開示している。これらの米国特
許に開示されている事項は半導体チツプの接点領
域及びチツプ支持体の導体上の半田接続可能領域
に金属性半田のパツドを形成することである。チ
ツプ支持体の半田接続可能領域は半田づけ不能の
障壁で囲まれているので、支持体領域及び半導体
デバイス接点領域上の半田が溶融して合体したと
き、表面張力により半導体チツプは支持体の上方
に浮遊する。
チツプを支持体にフエイスダウン・ボンデイング
するための「コントロールド・コラプス(つぶ
し)接続」方法を開示している。これらの米国特
許に開示されている事項は半導体チツプの接点領
域及びチツプ支持体の導体上の半田接続可能領域
に金属性半田のパツドを形成することである。チ
ツプ支持体の半田接続可能領域は半田づけ不能の
障壁で囲まれているので、支持体領域及び半導体
デバイス接点領域上の半田が溶融して合体したと
き、表面張力により半導体チツプは支持体の上方
に浮遊する。
集積回路半導体デバイスの技術進歩に伴い個々
の能動素子及び受動素子の寸法が極めて小さくな
り、しかも1つのデバイス中の素子の数が著しく
増加するに至つた。このため、I/O端子の数が
増加してデバイスの寸法が著しく大きくなる結果
を生じた。この傾向は今後も続き、端子の密度及
び全体的な数に対して次第に高度の要請が出て来
るであろう。半田接続の利点はI/O端子をデバ
イスの上側表面の実質的に全体に亘つて分散配置
できることである。これは全表面の有効利用を可
能にし、エリア・ボンデイングとして知られてい
る。
の能動素子及び受動素子の寸法が極めて小さくな
り、しかも1つのデバイス中の素子の数が著しく
増加するに至つた。このため、I/O端子の数が
増加してデバイスの寸法が著しく大きくなる結果
を生じた。この傾向は今後も続き、端子の密度及
び全体的な数に対して次第に高度の要請が出て来
るであろう。半田接続の利点はI/O端子をデバ
イスの上側表面の実質的に全体に亘つて分散配置
できることである。これは全表面の有効利用を可
能にし、エリア・ボンデイングとして知られてい
る。
集積回路デバイスは半導体デバイスの材料、即
ちシリコンの膨張係数とは異なつた膨張係数を有
する材料で作られた支持基板上に装着されるのが
普通である。使用中にデバイスの構成素子が必然
的に熱を発生し、その熱は半田ボンドを介して移
動するのでデバイス及び支持基板の両方に温度変
動を生じさせる。デバイス及び基板は膨張係数の
相異に起因して、温度変動と共に異なつた量だけ
膨張及び収縮する。これは半田端子にストレスを
生じさせる。動作中に半田ボンドに生じるストレ
スは、(1)温度変動の大きさ、(2)中立点からの距
離、(3)デバイス及び基板の膨張係数の差に正比例
し、半田ボンドの高さ、即ちデバイスと支持基板
との間の間隔に反比例する。事態の厳しさは、実
装密度を一層高めるニーズに順応するため半田端
子の直径が益々小さくなり、全体的な高さも又低
下する事実によつて更に増大する。
ちシリコンの膨張係数とは異なつた膨張係数を有
する材料で作られた支持基板上に装着されるのが
普通である。使用中にデバイスの構成素子が必然
的に熱を発生し、その熱は半田ボンドを介して移
動するのでデバイス及び支持基板の両方に温度変
動を生じさせる。デバイス及び基板は膨張係数の
相異に起因して、温度変動と共に異なつた量だけ
膨張及び収縮する。これは半田端子にストレスを
生じさせる。動作中に半田ボンドに生じるストレ
スは、(1)温度変動の大きさ、(2)中立点からの距
離、(3)デバイス及び基板の膨張係数の差に正比例
し、半田ボンドの高さ、即ちデバイスと支持基板
との間の間隔に反比例する。事態の厳しさは、実
装密度を一層高めるニーズに順応するため半田端
子の直径が益々小さくなり、全体的な高さも又低
下する事実によつて更に増大する。
今までよりも高密度の端子を有する更に大きい
デバイスを組込む将来の用途に対しても半田端子
の利用を続けるための考えうる解決策として、半
田端子を細長くすればよいことが、米国特許第
3811186号、第3486223号、3921285号及びIBM
TDBの1973年8月号第767頁、1976年9月号第
1178頁、1980年7月号第575頁に開示されている。
高さを同一にした場合、砂時計状(上下間の中間
部がくびれた形状)の半田端子の方が円筒状又は
ビヤ樽状の端子よりもストレス耐力の点で優れて
いることがわかつた。
デバイスを組込む将来の用途に対しても半田端子
の利用を続けるための考えうる解決策として、半
田端子を細長くすればよいことが、米国特許第
3811186号、第3486223号、3921285号及びIBM
TDBの1973年8月号第767頁、1976年9月号第
1178頁、1980年7月号第575頁に開示されている。
高さを同一にした場合、砂時計状(上下間の中間
部がくびれた形状)の半田端子の方が円筒状又は
ビヤ樽状の端子よりもストレス耐力の点で優れて
いることがわかつた。
この現象はIBM Journal of Research and
Development 1969年5月号、Vol.13、No.3、第
261頁に説明されている。
Development 1969年5月号、Vol.13、No.3、第
261頁に説明されている。
[発明が解決しようとする問題点]
上述の文献に開示された細長い半田端子を作る
ための方法は実際的でない。即ちそれらに開示さ
れた方法は製造工程を実行する作業者の技巧及び
個人的な能力に存在する点で個人的職人芸を必要
とする。従つて一般的な再現性がなく製造産業上
利用することができなかつた。
ための方法は実際的でない。即ちそれらに開示さ
れた方法は製造工程を実行する作業者の技巧及び
個人的な能力に存在する点で個人的職人芸を必要
とする。従つて一般的な再現性がなく製造産業上
利用することができなかつた。
[問題点を解決するための手段]
本発明は集積回路半導体デバイスと支持基板と
の間に背高の細長い半田端子を形成するための新
規な方法を提案する。本発明の方法で形成される
背高の(細長い)半田接続体はデバイス及び基板
の温度変動によつて生じるストレスに耐えること
ができる。
の間に背高の細長い半田端子を形成するための新
規な方法を提案する。本発明の方法で形成される
背高の(細長い)半田接続体はデバイス及び基板
の温度変動によつて生じるストレスに耐えること
ができる。
本発明の問題解決手段は、背高の半田端子を形
成するため、(1)半導体デバイスと支持基板との間
に予定の垂直間隔を維持するための手段を配設
し、(2)基板又はデバイス上の各半田ウエツタブ
ル・パツドに対して半田柱体を形成して付着さ
せ、(3)半田ウエツタブル・パツド上に半田マウン
トを有する半導体デバイスを、半田マウントを有
する支持基板上に位置合わせした状態で位置づけ
し、デバイスと基板との間の距離を垂直間隔維持
手段で橋渡しし、予定の間隔を維持した状態に組
合わせた後加熱して半田接続丘及び半田柱体をリ
フロすることにより複数個の砂時計状細長接続体
を形成するステツプを含む。
成するため、(1)半導体デバイスと支持基板との間
に予定の垂直間隔を維持するための手段を配設
し、(2)基板又はデバイス上の各半田ウエツタブ
ル・パツドに対して半田柱体を形成して付着さ
せ、(3)半田ウエツタブル・パツド上に半田マウン
トを有する半導体デバイスを、半田マウントを有
する支持基板上に位置合わせした状態で位置づけ
し、デバイスと基板との間の距離を垂直間隔維持
手段で橋渡しし、予定の間隔を維持した状態に組
合わせた後加熱して半田接続丘及び半田柱体をリ
フロすることにより複数個の砂時計状細長接続体
を形成するステツプを含む。
[実施例]
第1図のステツプ1はデバイスをボンドできる
代表的な基板10を示す。セラミツクの基板10
上には1組の半田ウエツタブル・パツド12が載
置されている。それらのパツドはピン(図示せ
ず)付のパツドと他の関連デバイスとを相互接続
する内部的に冶金形成されたものでも、上面に冶
金処理で形成されたものでもよい。図を簡潔にす
るため唯一組のパツドだけを図示する。実際は沢
山のデバイスに接続するための多数組のパツドを
持つことができる。冶金形成されたパツドは表面
に置いても、又はもしも望むなら表面及び内部に
置いてもよい。基板10は一般的な形式の基板を
図示したもので本発明の要部を構成するものでは
ない。一般に基板10は、それにボンドされるべ
き半導体デバイスを形成するために使用された材
料、即ちシリコンの膨張係数とは異なつた膨張係
数を通常有するセラミツク材料で形成される。
代表的な基板10を示す。セラミツクの基板10
上には1組の半田ウエツタブル・パツド12が載
置されている。それらのパツドはピン(図示せ
ず)付のパツドと他の関連デバイスとを相互接続
する内部的に冶金形成されたものでも、上面に冶
金処理で形成されたものでもよい。図を簡潔にす
るため唯一組のパツドだけを図示する。実際は沢
山のデバイスに接続するための多数組のパツドを
持つことができる。冶金形成されたパツドは表面
に置いても、又はもしも望むなら表面及び内部に
置いてもよい。基板10は一般的な形式の基板を
図示したもので本発明の要部を構成するものでは
ない。一般に基板10は、それにボンドされるべ
き半導体デバイスを形成するために使用された材
料、即ちシリコンの膨張係数とは異なつた膨張係
数を通常有するセラミツク材料で形成される。
ステツプ2は相対的に高い融点を有する適当な
半田合金で形成された半田柱体16がボンドされ
た例えばシリコン製の仮基板14を示す。半田柱
体の代表例は純粋のPb又はPb含有率の極めて高
い半田で形成される。半田柱体16は融点が327
℃程度の材料にすべきである。各半田柱体16の
上部表面上に低融点金属の層18がある。その層
の代表例は400乃至600Åの範囲の厚さと240℃程
度の融点を有する錫である。半田柱体16は基板
10上のパツド形状に相当する形状の適当な穴あ
きマスクを仮基板14上に載置し、その上に半田
合金を適当な所望の深さ、代表的には0.05乃至
0.1mmの深さまで蒸着することによつて形成され
る。低融点の層18は引続いて柱体16の上面に
蒸着により付着される。ステツプ3で示すように
柱体16を有する仮基板14を反転して、パツド
12の表面と層18とが接触するように基板10
の上面に載置する。そのような組立体を層18の
融ける温度まで加熱した後冷却して半田柱体16
をパツド12と融合させることにより、半田柱体
16は基板10へ移される。その後仮基板14を
除去するとステツプ4で示すような構造体が出来
る。基板10上にボンドされるべき集積回路半導
体デバイス20をステツプ5で示す。デバイス2
0は基板10上の半田パツド12の形状と合致す
る形状に配列された複数の半田接続丘22を有す
る。各半田接続丘22は半田ウエツタブル・パツ
ド構造体21とその上面に半田リフロされた丘と
より成る。図示の通りデバイス20の周辺部分は
半田接続丘22の領域よりも外方へ延びている。
デバイス20は普通のものであつて、多数の能動
素子及び受動素子を含んでいる。デバイス20の
周辺部分にはパツド21と一緒に形成されるのが
普通である半田ウエツタブル・パツド24が設け
られている。このパツド24は半導体デバイスと
基板との間の予定の垂直間隔を維持するための手
段の基礎を構成するので、任意の適した個数だけ
設けてよい。一般的にはデバイス構造体当り最少
3パツドが必要であるが、もしも必要ならばそれ
以上設けてもよい。間隔を維持するための手段が
次のステツプ6に示すように組立てられる。パツ
ド24にかぶさる開口28を有するマスク26が
デバイス20の上面に載置される。半田の薄層3
0が通常の蒸着方法によつてパツド24の上面に
蒸着される。基板とデバイスの所望間隔に近い直
径を有する金属球32を開口28内に入れて、層
30を融かすように加熱した後冷却して金属球3
2をデバイス20に接合する。金属球32は任意
の金属製のものでよいが、銅製でその表面にニツ
ケル被覆した上に金を被覆したものが望ましい。
金属球32の直径は0.13mm程度が普通である。マ
スク26を取除いた後に組立体を反転し、ステツ
プ7に示すようにパツド12上に半田柱体16を
有する基板10上の定位置に載置する。図示の通
り金属球32はデバイスと基板との間に所望の間
隔を維持する台座(スタンド・オフ)となり、デ
バイス上の各I/Oパツドは半田接続丘22を半
田柱体16と接触して基板上の対応するパツドと
接続される。次にその組立体を半田柱体16及び
半田接続丘22の材料が融ける温度まで加熱する
と、デバイスのパツドと基板のパツドとの間に背
高の細長い砂時計の形の半田接続体38が形成さ
れる。半田柱体16及び半田接続丘22の半田の
総量は、砂時計形の接続体を形成するためパツド
間の間隔を考慮して計算される。
半田合金で形成された半田柱体16がボンドされ
た例えばシリコン製の仮基板14を示す。半田柱
体の代表例は純粋のPb又はPb含有率の極めて高
い半田で形成される。半田柱体16は融点が327
℃程度の材料にすべきである。各半田柱体16の
上部表面上に低融点金属の層18がある。その層
の代表例は400乃至600Åの範囲の厚さと240℃程
度の融点を有する錫である。半田柱体16は基板
10上のパツド形状に相当する形状の適当な穴あ
きマスクを仮基板14上に載置し、その上に半田
合金を適当な所望の深さ、代表的には0.05乃至
0.1mmの深さまで蒸着することによつて形成され
る。低融点の層18は引続いて柱体16の上面に
蒸着により付着される。ステツプ3で示すように
柱体16を有する仮基板14を反転して、パツド
12の表面と層18とが接触するように基板10
の上面に載置する。そのような組立体を層18の
融ける温度まで加熱した後冷却して半田柱体16
をパツド12と融合させることにより、半田柱体
16は基板10へ移される。その後仮基板14を
除去するとステツプ4で示すような構造体が出来
る。基板10上にボンドされるべき集積回路半導
体デバイス20をステツプ5で示す。デバイス2
0は基板10上の半田パツド12の形状と合致す
る形状に配列された複数の半田接続丘22を有す
る。各半田接続丘22は半田ウエツタブル・パツ
ド構造体21とその上面に半田リフロされた丘と
より成る。図示の通りデバイス20の周辺部分は
半田接続丘22の領域よりも外方へ延びている。
デバイス20は普通のものであつて、多数の能動
素子及び受動素子を含んでいる。デバイス20の
周辺部分にはパツド21と一緒に形成されるのが
普通である半田ウエツタブル・パツド24が設け
られている。このパツド24は半導体デバイスと
基板との間の予定の垂直間隔を維持するための手
段の基礎を構成するので、任意の適した個数だけ
設けてよい。一般的にはデバイス構造体当り最少
3パツドが必要であるが、もしも必要ならばそれ
以上設けてもよい。間隔を維持するための手段が
次のステツプ6に示すように組立てられる。パツ
ド24にかぶさる開口28を有するマスク26が
デバイス20の上面に載置される。半田の薄層3
0が通常の蒸着方法によつてパツド24の上面に
蒸着される。基板とデバイスの所望間隔に近い直
径を有する金属球32を開口28内に入れて、層
30を融かすように加熱した後冷却して金属球3
2をデバイス20に接合する。金属球32は任意
の金属製のものでよいが、銅製でその表面にニツ
ケル被覆した上に金を被覆したものが望ましい。
金属球32の直径は0.13mm程度が普通である。マ
スク26を取除いた後に組立体を反転し、ステツ
プ7に示すようにパツド12上に半田柱体16を
有する基板10上の定位置に載置する。図示の通
り金属球32はデバイスと基板との間に所望の間
隔を維持する台座(スタンド・オフ)となり、デ
バイス上の各I/Oパツドは半田接続丘22を半
田柱体16と接触して基板上の対応するパツドと
接続される。次にその組立体を半田柱体16及び
半田接続丘22の材料が融ける温度まで加熱する
と、デバイスのパツドと基板のパツドとの間に背
高の細長い砂時計の形の半田接続体38が形成さ
れる。半田柱体16及び半田接続丘22の半田の
総量は、砂時計形の接続体を形成するためパツド
間の間隔を考慮して計算される。
次に第2図は本発明の第2の実施例である第2
のステツプ順序を示す。この実施例の基板10は
第1の実施例で説明されたような任意の適当な支
持体でよい。基体10は例えばMLC基板のよう
な非焼結セラミツク基板であつてもよい。開口4
2を有するマスク40を基板10の上面に載置
し、台座を形成すべき所望の場所に開口42を位
置づけする。適当な展剤(ビークル)と混合した
金属粒子、望ましくはモリブデン、タンタル、又
はタングステンのような耐火性材料より成る金属
ペーストを開口41に詰込んで台座42,44を
形成する。詰込み作業に続いてマスク40を取除
き、組立体を焼結することによりペースト中の展
剤、可塑剤等及び(もしも基板が予め焼結されて
いないならば)グリーン・セラミツク基板10中
のバインダを追出す。焼結後の台座42,44の
高さは基板上に配置されるべきデバイスと基板1
0との間の所望の間隔に相当する。焼結に起因す
る収縮はマスク40の厚さを増すことにより調節
される。仮基板14に付着された第2図に示す半
田柱体16は第1図の実施例で説明したのと同じ
要領で作られる。仮基板14の半田柱体16をパ
ツド12上に載置し、半田柱体16をパツド12
に融着するように加熱し、然る後仮基板14を除
去してステツプ3に示す構造体を残留させる。ス
テツプ4に示すように、半田接続丘22の設けら
れた半導体デバイスを、その半田接続丘22と半
田柱体16が接触するように且つデバイスの周囲
部分が台座42,44に接するように、基板上に
載置する。組立体は次に半田素子をリフローする
ため加熱してステツプ5に示すように、半田接続
体38が引伸ばされて砂時計形の外観を持つ構造
体を形成する。
のステツプ順序を示す。この実施例の基板10は
第1の実施例で説明されたような任意の適当な支
持体でよい。基体10は例えばMLC基板のよう
な非焼結セラミツク基板であつてもよい。開口4
2を有するマスク40を基板10の上面に載置
し、台座を形成すべき所望の場所に開口42を位
置づけする。適当な展剤(ビークル)と混合した
金属粒子、望ましくはモリブデン、タンタル、又
はタングステンのような耐火性材料より成る金属
ペーストを開口41に詰込んで台座42,44を
形成する。詰込み作業に続いてマスク40を取除
き、組立体を焼結することによりペースト中の展
剤、可塑剤等及び(もしも基板が予め焼結されて
いないならば)グリーン・セラミツク基板10中
のバインダを追出す。焼結後の台座42,44の
高さは基板上に配置されるべきデバイスと基板1
0との間の所望の間隔に相当する。焼結に起因す
る収縮はマスク40の厚さを増すことにより調節
される。仮基板14に付着された第2図に示す半
田柱体16は第1図の実施例で説明したのと同じ
要領で作られる。仮基板14の半田柱体16をパ
ツド12上に載置し、半田柱体16をパツド12
に融着するように加熱し、然る後仮基板14を除
去してステツプ3に示す構造体を残留させる。ス
テツプ4に示すように、半田接続丘22の設けら
れた半導体デバイスを、その半田接続丘22と半
田柱体16が接触するように且つデバイスの周囲
部分が台座42,44に接するように、基板上に
載置する。組立体は次に半田素子をリフローする
ため加熱してステツプ5に示すように、半田接続
体38が引伸ばされて砂時計形の外観を持つ構造
体を形成する。
最初の実施例10において例示した基体へ付着さ
れた球状の台座はもしも望むなら基板10上に装
着されたパツドへ接着するように変えてもよい。
そればかりか、デバイス又は基板上の何れかの台
座の位置も個々の実施態様に合わせて変更可能で
ある。更に、もしも必要な接続を基板及び半導体
デバイスに作ることが可能ならば、台座それ自身
をI/O端子又は接地端子として利用することが
可能である。
れた球状の台座はもしも望むなら基板10上に装
着されたパツドへ接着するように変えてもよい。
そればかりか、デバイス又は基板上の何れかの台
座の位置も個々の実施態様に合わせて変更可能で
ある。更に、もしも必要な接続を基板及び半導体
デバイスに作ることが可能ならば、台座それ自身
をI/O端子又は接地端子として利用することが
可能である。
[発明の効果]
本発明によれば量産方式で製造可能な再現性あ
る背高半田接続体を形成することができ個人的な
技巧依存性から脱脚できる。本発明の方法で形成
される背高半田接続体はデバイス及び基板の温度
変動によつて生じるストレスに耐えることができ
る。
る背高半田接続体を形成することができ個人的な
技巧依存性から脱脚できる。本発明の方法で形成
される背高半田接続体はデバイス及び基板の温度
変動によつて生じるストレスに耐えることができ
る。
第1図は本発明の第1の実施例における製造過
程を示す図、第2図は本発明の第2の実施例にお
ける製造過程を示す図である。 10……基板、12……半田ウエツタブル・パ
ツド、14……仮基板、16……半田柱体、18
……低融点金属層、20……集積回路半導体デバ
イス、21……パツド、22……半田接続丘、2
4……パツド、26……マスク、28……開口、
30……半田薄層、32……金属球、38……砂
時計状の半田接続体。
程を示す図、第2図は本発明の第2の実施例にお
ける製造過程を示す図である。 10……基板、12……半田ウエツタブル・パ
ツド、14……仮基板、16……半田柱体、18
……低融点金属層、20……集積回路半導体デバ
イス、21……パツド、22……半田接続丘、2
4……パツド、26……マスク、28……開口、
30……半田薄層、32……金属球、38……砂
時計状の半田接続体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体デバイスの複数個の半田ウエツタブル
I/Oパツドに設けた半田接続丘を、夫々対応す
る支持基板の複数個の半田ウエツタブル・パツド
に電気的に接続するための背高半田接続体を形成
する方法であつて、 第3の素子である仮基板を用意して、上記支持
基板の半田ウエツタブル・パツドに対応する上記
仮基板上の位置に半田柱体を形成し、 上記半田柱体の上部表面上に、それよりも相対
的に低融点の金属薄層を付着し、 上記半田柱体の上部表面上の低融点の金属薄層
が、上記支持基板上の半田ウエツタブル・パツド
と接触するように上記仮基板を上記支持基板上に
載置し、 上記低融点の金属層が溶融する温度まで過熱
し、冷却した後、上記仮基板を除去し、 上記半導体デバイスと上記支持基板との間に、
上記半田柱体の融点では変形しない材料製で、且
つ上記半田ウエツタブル・パツドの横幅よりも大
なる高さを有する垂直間隔維持手段を配設し、 上記半田接続丘を有する上記半導体デバイス
を、上記半田接続丘が上記支持基板のパツドに形
成された上記半田柱体に整合して接触するように
且つ上記垂直間隔維持手段が上記半導体デバイス
と支持基体との間にはさまれるように、上記支持
基板体上に載置して成る組立体を形成し、 上記垂直間隔維持手段によつて決められる間隔
を維持した状態で上記組立体を加熱して上記半田
接続丘及び半田柱体をリフロすることにより複数
個の砂時計状の背高半田接続体を形成する方法。 2 上記半田ウエツタブル・パツドの横幅に対す
る背高半田接続体の高さの比が1以上であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の背高半
田接続体を形成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US555264 | 1983-11-25 | ||
| US06/555,264 US4545610A (en) | 1983-11-25 | 1983-11-25 | Method for forming elongated solder connections between a semiconductor device and a supporting substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119737A JPS60119737A (ja) | 1985-06-27 |
| JPH0263301B2 true JPH0263301B2 (ja) | 1990-12-27 |
Family
ID=24216611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59195908A Granted JPS60119737A (ja) | 1983-11-25 | 1984-09-20 | 背高半田接続体を形成する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4545610A (ja) |
| EP (1) | EP0147576B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60119737A (ja) |
| DE (1) | DE3478729D1 (ja) |
Families Citing this family (250)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4604644A (en) * | 1985-01-28 | 1986-08-05 | International Business Machines Corporation | Solder interconnection structure for joining semiconductor devices to substrates that have improved fatigue life, and process for making |
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| JPS61260648A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の実装方法 |
| JPS629642A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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