JPH0264438A - Ｉｃｐ分析方法 - Google Patents
Ｉｃｐ分析方法Info
- Publication number
- JPH0264438A JPH0264438A JP21765688A JP21765688A JPH0264438A JP H0264438 A JPH0264438 A JP H0264438A JP 21765688 A JP21765688 A JP 21765688A JP 21765688 A JP21765688 A JP 21765688A JP H0264438 A JPH0264438 A JP H0264438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- atomization chamber
- plasma torch
- supplied
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イン産業上の利用分野
本発明は試料の成分を分析するＩＣＰ（高周波誘導結合
プラズマ）分析装置及びＩＣＰ分析方法に関する。
プラズマ）分析装置及びＩＣＰ分析方法に関する。
（ロ）従来の技術
ＩＣＰ分析装置はガス化（霧化）した試料をプラズマト
ーチに導入して発光させ、この光を分光測定して試料成
分を分析する装置であり、一般に溶液状の試料は試料霧
化チェンバにより霧化し、キャリヤガス（アルゴンガス
）とともにプラズマトーチに導入する。プラズマトーチ
には誘導コイルが周回され、プラズマガス、冷却ガス（
通常は共にアルゴンガス）が供給されており、プラズマ
トーチ先端にプラズマ炎が形成される。
ーチに導入して発光させ、この光を分光測定して試料成
分を分析する装置であり、一般に溶液状の試料は試料霧
化チェンバにより霧化し、キャリヤガス（アルゴンガス
）とともにプラズマトーチに導入する。プラズマトーチ
には誘導コイルが周回され、プラズマガス、冷却ガス（
通常は共にアルゴンガス）が供給されており、プラズマ
トーチ先端にプラズマ炎が形成される。
ところでプラズマ炎の点灯時には大きな電力を要すると
ともにインピーダンスの整合などの複雑な操作を要する
ので、試料を断続的に分析する場合にはプラズマを点灯
したままの状態を維持する。
ともにインピーダンスの整合などの複雑な操作を要する
ので、試料を断続的に分析する場合にはプラズマを点灯
したままの状態を維持する。
このような場合、プラズマの安定性を保ち分析条件を一
定にするためにプラズマトーチへ供給するガスの量や誘
導コイルへ供給する高周波電力を一定にしていた。
定にするためにプラズマトーチへ供給するガスの量や誘
導コイルへ供給する高周波電力を一定にしていた。
ところが１つの試料を導入して分析するのに要する時間
は１０〜２０秒程度であるので、大部分が待機時間とな
り、高価なアルゴンガスの消費が、多くなって分析コス
トを増大させる問題があった。
は１０〜２０秒程度であるので、大部分が待機時間とな
り、高価なアルゴンガスの消費が、多くなって分析コス
トを増大させる問題があった。
この問題を解決するため特願昭６１−６１５５５号の発
明においては試料霧化チェンバと１ラズマトーチとの間
に切換えバルブを設け、霧化した試料を測定時のみプラ
ズマトーチに導入し、それ以外の時は試料霧化チェンバ
を通ったキャリヤガスを切換えバルブから排出している
。このようにすると測定時以外はアルゴンガスだけがプ
ラズマトーチに導入されるから、最少限の口火プラズマ
を維持するために必要なガス量と誘導コイルへ供給する
電力とが予測でき、ガスの量を少なくして分析コストを
下げることが可能となる。また分析時以外は試料霧化チ
ェンバがキャリヤガスによって洗浄され、次の試料導入
に備えることができる。
明においては試料霧化チェンバと１ラズマトーチとの間
に切換えバルブを設け、霧化した試料を測定時のみプラ
ズマトーチに導入し、それ以外の時は試料霧化チェンバ
を通ったキャリヤガスを切換えバルブから排出している
。このようにすると測定時以外はアルゴンガスだけがプ
ラズマトーチに導入されるから、最少限の口火プラズマ
を維持するために必要なガス量と誘導コイルへ供給する
電力とが予測でき、ガスの量を少なくして分析コストを
下げることが可能となる。また分析時以外は試料霧化チ
ェンバがキャリヤガスによって洗浄され、次の試料導入
に備えることができる。
（ハ）解決すべき課題
以上のような特願昭６１−６１５５５号の発明では、試
料霧化チェンバとプラズマトーチとの間に設けた切換え
バルブがスタンド内雰囲気により錆びてその作動精度が
悪化し、分析に支障を来たすという問題があった。また
切換えバルブの気密性が悪化するとプラズマが不安定に
なったり消えたりする問題が発生した。（切換えバルブ
は正確な動作を要し複雑な構成となり加工性などの理由
で金属部材も使用されていた。） （ニ）課題を解決するための手段 本発明においては、上記の課題を解決するため、試料霧
化チェンバとプラズマトーチとの間に設けた切換えバル
ブをなくし、キャリヤガスを試料霧化チェンバに供給す
る前の経路上でオン／オフするようにした。
料霧化チェンバとプラズマトーチとの間に設けた切換え
バルブがスタンド内雰囲気により錆びてその作動精度が
悪化し、分析に支障を来たすという問題があった。また
切換えバルブの気密性が悪化するとプラズマが不安定に
なったり消えたりする問題が発生した。（切換えバルブ
は正確な動作を要し複雑な構成となり加工性などの理由
で金属部材も使用されていた。） （ニ）課題を解決するための手段 本発明においては、上記の課題を解決するため、試料霧
化チェンバとプラズマトーチとの間に設けた切換えバル
ブをなくし、キャリヤガスを試料霧化チェンバに供給す
る前の経路上でオン／オフするようにした。
（ホ）作用
試料霧化チェンバに供給する前のキャリヤガス経路を通
るのは不活性のアルゴンガスだけとなり、また腐蝕性の
雰囲気外に置いた簡単な構造のバルブでキャリヤガスを
オン／オフできるので、腐蝕による劣化がない。
るのは不活性のアルゴンガスだけとなり、また腐蝕性の
雰囲気外に置いた簡単な構造のバルブでキャリヤガスを
オン／オフできるので、腐蝕による劣化がない。
試料霧化チェンバとプラズマトーチとの間に設けた切換
えバルブをなくしたため、待機時間中の試料導入系のク
リーニング作用がなくなるため、キャリヤガスが試料霧
化チェンバからプラズマトーチを介して流れる時間を延
長し、これによって試料導入系のクリーニング作用を行
なわせる。
えバルブをなくしたため、待機時間中の試料導入系のク
リーニング作用がなくなるため、キャリヤガスが試料霧
化チェンバからプラズマトーチを介して流れる時間を延
長し、これによって試料導入系のクリーニング作用を行
なわせる。
（このクリーニング時間中、ガス流量やプラズマ出力を
下げるとキャリヤガスに混入した残留試料ガスによって
プラズマが消える恐れがあるので、出力は上昇した状態
を保持する。） （へ）実施例 第１図は本発明の一実施例を示すＴＣＰ分析装置の要部
構成図である０本図において、１はアルゴンガスを供給
するボンベ、２はプラズマトーチ、６．８は夫々プラズ
マトーチ２へ供給する冷却ガス、プラズマガスの供給管
、１０は誘導コイル、１２は高周波電源１４と誘導コイ
ルとのインピーダンスマツチングをとるためのマツチン
グボックス、１６は冷却ガス、プラズマガスの供給量を
制御するためのガスコントローラ（プラズマトーチへ供
給するガスの量を制御する手段）、１８は試料霧化チェ
ンバ、２０は溶液試料、２２はキャリヤガス供給管、２
６は試料霧化チェンバに供給するキャリヤガスをオン／
オフするバルブ、３２はガスコントローラ１６及び高周
波電源（高周波電力供給手段）１４及びバルブ２６の動
作をコントロールする制御装置（シーケンスコントロー
ラ）である、（分光、測定部は省略する） 次に第１図の装置を用いたＩＣＰ分析方法（分析動作の
シーケンス）を説明する。第２図は誘導コイルに供給す
る高周波電力とプラズマトーチへ供給するガス（冷却ガ
ス、プラズマガス、キャリヤガス）の量を分析における
シーケンスに対応して表したグラフであり、第２図は第
１図の装置の場合、第３図は特願昭６１−６１５５５号
の発明の場合を表わす。
下げるとキャリヤガスに混入した残留試料ガスによって
プラズマが消える恐れがあるので、出力は上昇した状態
を保持する。） （へ）実施例 第１図は本発明の一実施例を示すＴＣＰ分析装置の要部
構成図である０本図において、１はアルゴンガスを供給
するボンベ、２はプラズマトーチ、６．８は夫々プラズ
マトーチ２へ供給する冷却ガス、プラズマガスの供給管
、１０は誘導コイル、１２は高周波電源１４と誘導コイ
ルとのインピーダンスマツチングをとるためのマツチン
グボックス、１６は冷却ガス、プラズマガスの供給量を
制御するためのガスコントローラ（プラズマトーチへ供
給するガスの量を制御する手段）、１８は試料霧化チェ
ンバ、２０は溶液試料、２２はキャリヤガス供給管、２
６は試料霧化チェンバに供給するキャリヤガスをオン／
オフするバルブ、３２はガスコントローラ１６及び高周
波電源（高周波電力供給手段）１４及びバルブ２６の動
作をコントロールする制御装置（シーケンスコントロー
ラ）である、（分光、測定部は省略する） 次に第１図の装置を用いたＩＣＰ分析方法（分析動作の
シーケンス）を説明する。第２図は誘導コイルに供給す
る高周波電力とプラズマトーチへ供給するガス（冷却ガ
ス、プラズマガス、キャリヤガス）の量を分析における
シーケンスに対応して表したグラフであり、第２図は第
１図の装置の場合、第３図は特願昭６１−６１５５５号
の発明の場合を表わす。
第１図の装置を用いたＩＣＰ分析方法（分析動作のシー
ケンス）を第２図によって説明すると、（１）待機時に
はプラズマトーチへ供給する冷却ガス及びプラズマガス
の総量を毎分６リツトルに制御し、試料霧化チェンバ１
８に供給するキャリヤガスの流量は零にする。（オン／
オフバルブ２６はオフの状態） この時誘導コイルへ供給する高周波電力（プラズマ出力
）は約０．２ｋＷに制御して口火プラズマを維持する。
ケンス）を第２図によって説明すると、（１）待機時に
はプラズマトーチへ供給する冷却ガス及びプラズマガス
の総量を毎分６リツトルに制御し、試料霧化チェンバ１
８に供給するキャリヤガスの流量は零にする。（オン／
オフバルブ２６はオフの状態） この時誘導コイルへ供給する高周波電力（プラズマ出力
）は約０．２ｋＷに制御して口火プラズマを維持する。
（２）分析に際しては溶液試料２０を導入（設定）し、
プラズマトーチへ供給する冷却ガス及びプラズマガスの
総量を毎分１３リツトルに、誘導コイルへ供給する高周
波電力を約１．２ｋＷに増加させてプラズマ出力を上昇
させるとともに、バルブ２６をオンにして試料霧化チェ
ンバにキャリヤガスを供給（毎分１リツトル）し、試料
を霧化してプラズマトーチ２に導入して測定を行ない、
（３）測定終了後プラズマ出力を上昇させた状態に保つ
とともに試料霧化チェンバ１８にキャリヤガスと供給し
て約１０秒間試料霧化チェンバの洗浄を行ない、 （４）試料霧化チェンバの洗浄終了後前記待機時の状態
（１）に戻る。
プラズマトーチへ供給する冷却ガス及びプラズマガスの
総量を毎分１３リツトルに、誘導コイルへ供給する高周
波電力を約１．２ｋＷに増加させてプラズマ出力を上昇
させるとともに、バルブ２６をオンにして試料霧化チェ
ンバにキャリヤガスを供給（毎分１リツトル）し、試料
を霧化してプラズマトーチ２に導入して測定を行ない、
（３）測定終了後プラズマ出力を上昇させた状態に保つ
とともに試料霧化チェンバ１８にキャリヤガスと供給し
て約１０秒間試料霧化チェンバの洗浄を行ない、 （４）試料霧化チェンバの洗浄終了後前記待機時の状態
（１）に戻る。
これに対して従来の特願昭６１−６１５５５号の発明の
場合は、第３図のように試料霧化チェンバに常にキャリ
ヤガスを供給しており、プラズマトーチへ供給するガス
の量及び誘導コイルへ供給する高周波電力は測定時のみ
増加させている。
場合は、第３図のように試料霧化チェンバに常にキャリ
ヤガスを供給しており、プラズマトーチへ供給するガス
の量及び誘導コイルへ供給する高周波電力は測定時のみ
増加させている。
（ト）効果
本発明によると高価なアルゴンガスの消費が少なくなっ
て分析コストを減少させることができるとともに、特願
昭６１−６１５５５号の発明のように試料霧化チェンバ
とプラズマトーチとの間に設けた切換えバルブがスタン
ド内雰囲気により錆びて動作の精度が悪化し分析に支障
を来たすという問題が解消され、分析の信頼度が向上す
るという優れた効果を奏する。
て分析コストを減少させることができるとともに、特願
昭６１−６１５５５号の発明のように試料霧化チェンバ
とプラズマトーチとの間に設けた切換えバルブがスタン
ド内雰囲気により錆びて動作の精度が悪化し分析に支障
を来たすという問題が解消され、分析の信頼度が向上す
るという優れた効果を奏する。
第１図は本発明のＩＣＰ分析装置の一実施例を示す要部
構成図であり、第２図は本発明の分析方法を説明する図
、第３図は従来の分析方法を説明する図である。 第 ２ 凹 第 ３ 図 １・・・アルゴンガスボンベ １０・・・誘導コイル２
・・・プラズマトーチ １８・・・試料霧化チェンバ６
．８・・・ガス供給管 １４・・・高周波電源１６・・
・ガスコントローラ ２０・・・試料２２・・・キャリ
ヤガス供給管 ２６・・・オン／オフバルブ
構成図であり、第２図は本発明の分析方法を説明する図
、第３図は従来の分析方法を説明する図である。 第 ２ 凹 第 ３ 図 １・・・アルゴンガスボンベ １０・・・誘導コイル２
・・・プラズマトーチ １８・・・試料霧化チェンバ６
．８・・・ガス供給管 １４・・・高周波電源１６・・
・ガスコントローラ ２０・・・試料２２・・・キャリ
ヤガス供給管 ２６・・・オン／オフバルブ
Claims (2)
- （１）試料霧化チェンバにより霧化した試料をプラズマ
トーチに導入して発光させ、この光を分光測定して試料
成分を分析する装置において、プラズマトーチへ供給す
るガスの量を制御する手段と、誘導コイルへ高周波電力
を供給する手段と、試料霧化チェンバに供給するキャリ
ヤガスをオン／オフする手段と、前記ガス量制御手段及
び高周波電力供給手段及びキャリヤガスオン／オフ手段
の動作をコントロールする制御装置とを備えたことを特
徴とするＩＣＰ分析装置。 - （２）試料霧化チェンバにより霧化した試料をプラズマ
トーチに導入して発光させ、この光を分光測定して試料
成分を分析する方法において、待機時にはプラズマトー
チへ供給するガスの量及び誘導コイルへ供給する高周波
電力を制御して口火プラズマを維持するとともに試料霧
化チェンバに供給するキャリヤガスを遮断しておき、分
析に際してはプラズマトーチへ供給するガスの量及び誘
導コイルへ供給する高周波電力を増加させてプラズマ出
力を上昇させるとともに、試料霧化チェンバにキャリヤ
ガスを供給して試料を霧化しプラズマトーチに導入して
測定を行ない、プラズマ出力を上昇させた状態に保つと
ともに試料霧化チェンバにキャリヤガスを供給して試料
霧化チェンバの洗浄を行ない、 試料霧化チェンバの洗浄終了後前記待機時の状態に戻る
ことを特徴とするＩＣＰ分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63217656A JPH0737945B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Ｉｃｐ分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63217656A JPH0737945B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Ｉｃｐ分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264438A true JPH0264438A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH0737945B2 JPH0737945B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=16707667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63217656A Expired - Lifetime JPH0737945B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Ｉｃｐ分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737945B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5355214A (en) * | 1990-08-31 | 1994-10-11 | Varian Associates, Inc. | Flow control device |
| US6222186B1 (en) | 1998-06-25 | 2001-04-24 | Agilent Technologies, Inc. | Power-modulated inductively coupled plasma spectrometry |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6275334A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-07 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 |
| JPS63196841A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-15 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ発光分析装置 |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP63217656A patent/JPH0737945B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6275334A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-07 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 |
| JPS63196841A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-15 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ発光分析装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5355214A (en) * | 1990-08-31 | 1994-10-11 | Varian Associates, Inc. | Flow control device |
| US6222186B1 (en) | 1998-06-25 | 2001-04-24 | Agilent Technologies, Inc. | Power-modulated inductively coupled plasma spectrometry |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0737945B2 (ja) | 1995-04-26 |
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