JPS6275334A - 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ発光分光装置Info
- Publication number
- JPS6275334A JPS6275334A JP21725185A JP21725185A JPS6275334A JP S6275334 A JPS6275334 A JP S6275334A JP 21725185 A JP21725185 A JP 21725185A JP 21725185 A JP21725185 A JP 21725185A JP S6275334 A JPS6275334 A JP S6275334A
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- Japan
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- flow rate
- sample
- gas
- pressure
- plasma
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起
させ発光したスペクトル線の位置や強度を分光器で検出
して試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ発光分光装置（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐ
ｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏ
ｎＳｐｅｃｔｒｏ−ｍｅｔｅｒ、以下ｒｌｃＰＪと略す
）に関する。
させ発光したスペクトル線の位置や強度を分光器で検出
して試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ発光分光装置（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐ
ｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏ
ｎＳｐｅｃｔｒｏ−ｍｅｔｅｒ、以下ｒｌｃＰＪと略す
）に関する。
〈従来の技術〉
一般に、ＩＣＰのトーチは石英材料で三重管構造に構成
されており、最外室にはプラズマガスが流され外室には
補助ガスが流され内室にはキャリアガスが流されるよう
になっている。これらのガスは適宜圧力調整や流量調整
を行なう必要があるため、手動若しくは電磁弁の組合せ
等によって圧力調整や流量調整が行なわれていた。
されており、最外室にはプラズマガスが流され外室には
補助ガスが流され内室にはキャリアガスが流されるよう
になっている。これらのガスは適宜圧力調整や流量調整
を行なう必要があるため、手動若しくは電磁弁の組合せ
等によって圧力調整や流量調整が行なわれていた。
然し、複数の電磁弁を用いて上述のような圧力調整等を
自動的に行なわせようとすると、次のような不都合が生
じていた。即ち、上記ガスを低圧（若しくは小流量）か
ら高圧（若しくは大流量）に切り換える場合は圧力（若
しくは流量）変化によってプラズマが消えたりすること
がないが、高圧（若しくは大流量）から低圧（若しくは
小流量）に切り換える場合はプラズマが消え易いという
不都合があった。このため、上記ガスの流路にリークバ
ルブを設け、高圧（若しくは大流量）から圧力（若しく
は流量）を一旦零まで降下させ、その後、所望の低圧（
若しくは小流量）まで圧力（若しくは流量）を上昇させ
るような方法がとられて本発明は、かかる状況に鑑みて
なされたものであり、その目的は、トーチに供給される
ガスの圧いようなＩＣＰを提供することにある。
自動的に行なわせようとすると、次のような不都合が生
じていた。即ち、上記ガスを低圧（若しくは小流量）か
ら高圧（若しくは大流量）に切り換える場合は圧力（若
しくは流量）変化によってプラズマが消えたりすること
がないが、高圧（若しくは大流量）から低圧（若しくは
小流量）に切り換える場合はプラズマが消え易いという
不都合があった。このため、上記ガスの流路にリークバ
ルブを設け、高圧（若しくは大流量）から圧力（若しく
は流量）を一旦零まで降下させ、その後、所望の低圧（
若しくは小流量）まで圧力（若しくは流量）を上昇させ
るような方法がとられて本発明は、かかる状況に鑑みて
なされたものであり、その目的は、トーチに供給される
ガスの圧いようなＩＣＰを提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、ＩＣＰ
において、圧縮ガス供給源から減圧弁を介して供給され
るガスが第１〜第３の流れに分流されて供給されるとこ
れら分流の各流量を調節する第１〜第３の調節機構を設
け、マイクロコンピュータに設定される各設定流量値に
上記第１〜第３の流れの各流量値が一致するように自動
制御するような構成にしたことにある。
において、圧縮ガス供給源から減圧弁を介して供給され
るガスが第１〜第３の流れに分流されて供給されるとこ
れら分流の各流量を調節する第１〜第３の調節機構を設
け、マイクロコンピュータに設定される各設定流量値に
上記第１〜第３の流れの各流量値が一致するように自動
制御するような構成にしたことにある。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本発明実施例の構成説明図であり、図中、１は例え
ばアルゴンガスが加圧充填されているガスボンベなどで
なる圧縮ガス供給源、２ａ〜２ｂは減圧弁、３ａ〜３ｃ
は流路開閉用の電磁弁、４ａ〜４ｃは下部に流量調整用
のニードル弁が付設されてなる流量計、５は流体の圧力
を検出する圧力センサ、６ａ〜６ｃは流体の流量を検出
する流量センサ、７３〜７ｄは例えば組合せギア構造で
なる結合部、８ａ〜８ｄはモータ、９ａ〜９ｇは電源、
ｌＯはネプライザＣＷ＆化器）、１１はプラズマトーチ
、１２は試料を貯留してなる槽、１３は廃液を貯留して
なる槽、１４は例えばマイクロコンピュータでなる中央
処理装置（ＣＰＵ）である。また、プラズマトーチ１１
は、内室１１ａ 、外室１１ｂ、および最外室１１ｃを
有する三重管構造となっており、高周波コイルＩｌｄに
高周波電力が供給されてプラズマｌｌｅを生ずるような
構造になっている。
図は本発明実施例の構成説明図であり、図中、１は例え
ばアルゴンガスが加圧充填されているガスボンベなどで
なる圧縮ガス供給源、２ａ〜２ｂは減圧弁、３ａ〜３ｃ
は流路開閉用の電磁弁、４ａ〜４ｃは下部に流量調整用
のニードル弁が付設されてなる流量計、５は流体の圧力
を検出する圧力センサ、６ａ〜６ｃは流体の流量を検出
する流量センサ、７３〜７ｄは例えば組合せギア構造で
なる結合部、８ａ〜８ｄはモータ、９ａ〜９ｇは電源、
ｌＯはネプライザＣＷ＆化器）、１１はプラズマトーチ
、１２は試料を貯留してなる槽、１３は廃液を貯留して
なる槽、１４は例えばマイクロコンピュータでなる中央
処理装置（ＣＰＵ）である。また、プラズマトーチ１１
は、内室１１ａ 、外室１１ｂ、および最外室１１ｃを
有する三重管構造となっており、高周波コイルＩｌｄに
高周波電力が供給されてプラズマｌｌｅを生ずるような
構造になっている。
第２図は本発明実施例の動作を説明するためのフローチ
ャートである。以下、このフローチャートを参照しなが
ら本発明実施例の動作について説明する。第１図におい
て、ＣＰＵＩ４にプラズマガス流量と補助ガス流量が設
定される（第２図の「プラズマガスおよび補助ガスの各
流量指定」に相当する）と、該設定値に対応して出力さ
れるＣＰＵＩ４の指令により、電１１１ｍ９ａ〜９ｄが
オンオフ制御される。該電源９ａ、 ９ｃがオンにされ
ると、流路電源９ｂ、 ９ｄがオンにされると、モータ
８ａ、 ８ｂが駆動され（第２図の「モータ駆動」に相
当する）結合部７ａ、 ７ｂを介して夫々流量計４ａ、
４ｂの下部に設けられているニードル弁が調節される
。従って、圧縮ガス供給源１から供給され減圧弁２ａに
よって減圧されたガス（例えばアルゴンガス）は、電磁
弁３ａ、 ３ｂを通過する各分流が、流量計４ａ、 ４
ｂを通って流量調節されるようになる。こうして流量調
節された各分流は流量センサ６ａ、 ６ｂで夫々の流量
が検出され、該ｉ量検出信号がＣＰＵＩ４に送出される
。ＣＰＵＩ４においてこれらの検出信号から算出される
流量値と前記設定流量値が比較され（第２図の「流量セ
ンサー値と比較ＯＫ？Ｊに相当する）、両者が異なる場
合には両者が等しくなるまで上述の流量調節が繰り返さ
れる。こうして両者が等しくなったら、ＣＰＵ１４に分
析波長とキャリアガス圧（若しくは流量）が設定される
（第２図の「分析波長及びネプライザガス圧（又は流量
）の指定」に相当する）。該設定値に対応して従って電
源９ｃがオンオフ制御される。この電源９Ｃがオンにさ
れると、モータ８Ｃが駆動され（第２図の「減圧弁モー
タ駆動」に相当する）、結合部７Ｃを介して減圧弁２ｂ
が調節されるようになる。このため、圧縮ガス供給源１
から供給され減圧弁２ａで減圧された上記ガスの他の分
流は、減圧弁２ｂで更に減圧される。こうして減圧され
たガス圧は圧力センサ５で検出され、該検出信号がＣＰ
ＵＩ４に送出される。ＣＰＵＩ４において該検出信号か
ら算出される圧力値と上記設定圧力値とが比較され（第
２図の［圧力センサーと比較ＯＫ？Ｊに相当する）、両
者が異なる場合には両者が等しくなる迄上述の圧力調節
が繰り返される。こうして両者が等しくなったらＣＰＵ
Ｉ４の指令によって電源９ｆ。
ャートである。以下、このフローチャートを参照しなが
ら本発明実施例の動作について説明する。第１図におい
て、ＣＰＵＩ４にプラズマガス流量と補助ガス流量が設
定される（第２図の「プラズマガスおよび補助ガスの各
流量指定」に相当する）と、該設定値に対応して出力さ
れるＣＰＵＩ４の指令により、電１１１ｍ９ａ〜９ｄが
オンオフ制御される。該電源９ａ、 ９ｃがオンにされ
ると、流路電源９ｂ、 ９ｄがオンにされると、モータ
８ａ、 ８ｂが駆動され（第２図の「モータ駆動」に相
当する）結合部７ａ、 ７ｂを介して夫々流量計４ａ、
４ｂの下部に設けられているニードル弁が調節される
。従って、圧縮ガス供給源１から供給され減圧弁２ａに
よって減圧されたガス（例えばアルゴンガス）は、電磁
弁３ａ、 ３ｂを通過する各分流が、流量計４ａ、 ４
ｂを通って流量調節されるようになる。こうして流量調
節された各分流は流量センサ６ａ、 ６ｂで夫々の流量
が検出され、該ｉ量検出信号がＣＰＵＩ４に送出される
。ＣＰＵＩ４においてこれらの検出信号から算出される
流量値と前記設定流量値が比較され（第２図の「流量セ
ンサー値と比較ＯＫ？Ｊに相当する）、両者が異なる場
合には両者が等しくなるまで上述の流量調節が繰り返さ
れる。こうして両者が等しくなったら、ＣＰＵ１４に分
析波長とキャリアガス圧（若しくは流量）が設定される
（第２図の「分析波長及びネプライザガス圧（又は流量
）の指定」に相当する）。該設定値に対応して従って電
源９ｃがオンオフ制御される。この電源９Ｃがオンにさ
れると、モータ８Ｃが駆動され（第２図の「減圧弁モー
タ駆動」に相当する）、結合部７Ｃを介して減圧弁２ｂ
が調節されるようになる。このため、圧縮ガス供給源１
から供給され減圧弁２ａで減圧された上記ガスの他の分
流は、減圧弁２ｂで更に減圧される。こうして減圧され
たガス圧は圧力センサ５で検出され、該検出信号がＣＰ
ＵＩ４に送出される。ＣＰＵＩ４において該検出信号か
ら算出される圧力値と上記設定圧力値とが比較され（第
２図の［圧力センサーと比較ＯＫ？Ｊに相当する）、両
者が異なる場合には両者が等しくなる迄上述の圧力調節
が繰り返される。こうして両者が等しくなったらＣＰＵ
Ｉ４の指令によって電源９ｆ。
９ｇがオンオフ制御される。該電源９ｆがオンにされる
と、電磁弁３ｃが通電されて開になる。また、電源９ｇ
がオンにされると、モータ８ｄが駆動され（第２図の「
ニードル弁モータ駆動」に相当する）結合部７ｄを介し
て流量計４０下部のニードル弁が調節される。このため
、圧力センサ５を通過した流体を通って流量調節される
ようになる。こうして流量調節された流体の流量は流量
センサ６Ｃで検出され、該検出信号がＣＰＵＩ４に送出
される。ＣＰＵ １４において該検出信号から算出され
る流量値と上記設定流量値とが比較され（第２図の「流
量センサ値との比較ＯＫ？」に相当する）、両者が異な
る場合には両者が等しくなる迄上述の流ｉ調節が繰り返
される。こうして両者が等しくなった時点で、ネプライ
ザ１０へのガス流量調節が完了し、該ネプライザへ導入
される試料が霧化されるようになる。
と、電磁弁３ｃが通電されて開になる。また、電源９ｇ
がオンにされると、モータ８ｄが駆動され（第２図の「
ニードル弁モータ駆動」に相当する）結合部７ｄを介し
て流量計４０下部のニードル弁が調節される。このため
、圧力センサ５を通過した流体を通って流量調節される
ようになる。こうして流量調節された流体の流量は流量
センサ６Ｃで検出され、該検出信号がＣＰＵＩ４に送出
される。ＣＰＵ １４において該検出信号から算出され
る流量値と上記設定流量値とが比較され（第２図の「流
量センサ値との比較ＯＫ？」に相当する）、両者が異な
る場合には両者が等しくなる迄上述の流ｉ調節が繰り返
される。こうして両者が等しくなった時点で、ネプライ
ザ１０へのガス流量調節が完了し、該ネプライザへ導入
される試料が霧化されるようになる。
霧化された試料のうち大粒のものは落下して廃液槽１３
へ導びかれるが、小粒のもの（全体の約１％の量）は、
トーチ１１の内室１１ａ内に導びかれ、究極的にプラズ
マＩｌｅを生じさせて該試料中の被測定元素が前記ＣＰ
ｔＪ！４に設定された分析波長で分析される。この分析
波長における分析が終了すると、分析すべき全ての分析
波長における分析が終了したか否か判断される（第２図
の「分析終了？」に相当する）。全分析波長での分析が
終了していない場合には、第２図の「プラズマガスおよ
び補助ガスの各流量指定」から「流量センサー値と比較
？」までの操作に相当する上述の一連の操作が繰り返さ
れる。また、上記全分析波長での分析が終了すると、本
発明実施例の動作が完了する（第２図のｒＥＮＤＪとな
る）。
へ導びかれるが、小粒のもの（全体の約１％の量）は、
トーチ１１の内室１１ａ内に導びかれ、究極的にプラズ
マＩｌｅを生じさせて該試料中の被測定元素が前記ＣＰ
ｔＪ！４に設定された分析波長で分析される。この分析
波長における分析が終了すると、分析すべき全ての分析
波長における分析が終了したか否か判断される（第２図
の「分析終了？」に相当する）。全分析波長での分析が
終了していない場合には、第２図の「プラズマガスおよ
び補助ガスの各流量指定」から「流量センサー値と比較
？」までの操作に相当する上述の一連の操作が繰り返さ
れる。また、上記全分析波長での分析が終了すると、本
発明実施例の動作が完了する（第２図のｒＥＮＤＪとな
る）。
ＣＰＵ１４に設定された各流量値にトーチ１１に供給さ
れる３種類のガスの流量値が自動的に調節されるような
構成であるため、試料中の被測定元素の分析が最適測定
条件で行なえるようになる。
れる３種類のガスの流量値が自動的に調節されるような
構成であるため、試料中の被測定元素の分析が最適測定
条件で行なえるようになる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明実施例の構成説明図、第２図は本発明実
施例の動作を説明するフローチャートである。 １・・・ガス供給源、２ａ、 ２ｂ・・・減圧弁、３ａ
〜３ｃ・・・流路開閉用電磁弁、４ａ〜４ｃ・・・ニー
ドル弁付流量計、５・・・圧力センサ、６ａ〜６ｃ・・
・流量センサ、８ａ〜８ｄ・・・ラズマトーチ、１２・
・・試料槽。
施例の動作を説明するフローチャートである。 １・・・ガス供給源、２ａ、 ２ｂ・・・減圧弁、３ａ
〜３ｃ・・・流路開閉用電磁弁、４ａ〜４ｃ・・・ニー
ドル弁付流量計、５・・・圧力センサ、６ａ〜６ｃ・・
・流量センサ、８ａ〜８ｄ・・・ラズマトーチ、１２・
・・試料槽。
Claims (2)
- （１）高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起させ
発光したスペクトル線の位置や強度を分光器で分析して
試料中の被測定元素を分析する装置において、圧縮ガス
供給源と、該圧縮ガスを減圧する減圧弁と、該減圧され
たガスが第１〜第３の流れに分流されるとこれら分流の
各流量を調節する第１〜第３の調節機構と、これら調節
機構を制御するマイクロコンピュータと、前記流量調節
されたのちの第１〜第３の流れが夫々導びかれる最外室
、外室、および内室を有し前記プラズマを生じさせる三
重管構造のプラズマトーチとを具備し、前記マイクロコ
ンピュータに設定される各設定流量値に前記第１〜第３
の流れの各流量値が一致するように自動的に制御される
ことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ発光分光装置
。 - （２）前記第１および第２の調節機構は、流路開閉用電
磁弁、ニードル弁付流量計、および流量センサで構成さ
れ、前記第３調節機構は、減圧弁、圧力センサ、流路開
閉用電磁弁、ニードル弁付流量計、および流量センサで
構成されてなる特許請求範囲第（１）項記載の高周波誘
導結合プラズマ発光分光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21725185A JPS6275334A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21725185A JPS6275334A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275334A true JPS6275334A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16701218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21725185A Pending JPS6275334A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 高周波誘導結合プラズマ発光分光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275334A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264438A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ分析方法 |
| JP2007316039A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ発光分光分析装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660334A (en) * | 1979-10-20 | 1981-05-25 | Shimadzu Corp | Spectral analyzer for plasma light source light emission |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21725185A patent/JPS6275334A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660334A (en) * | 1979-10-20 | 1981-05-25 | Shimadzu Corp | Spectral analyzer for plasma light source light emission |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264438A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ分析方法 |
| JP2007316039A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Shimadzu Corp | Ｉｃｐ発光分光分析装置 |
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