JPH0268747A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0268747A JPH0268747A JP63220952A JP22095288A JPH0268747A JP H0268747 A JPH0268747 A JP H0268747A JP 63220952 A JP63220952 A JP 63220952A JP 22095288 A JP22095288 A JP 22095288A JP H0268747 A JPH0268747 A JP H0268747A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- recording medium
- optical recording
- substrate
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光により情報の記録、再生および消去
が行われる光磁気記録媒体に係り、特に、その基板とし
て透明なプラスチック基板を用しまた光磁気記録媒体で
ある。
が行われる光磁気記録媒体に係り、特に、その基板とし
て透明なプラスチック基板を用しまた光磁気記録媒体で
ある。
従来の技術
レーザ光等の光ビームの照射により情報の記録。
再生および消去が可能な光ディスクとして極力−効果を
利用した光磁気記録媒体が注目されて（する。
利用した光磁気記録媒体が注目されて（する。
この光磁気記録媒体は、膜面に垂直方向に磁化容易軸を
有する磁性薄膜からなる記録層を基板上Ｇこ形成した構
造を有し、情報信号に応じて変調された光ビームの照射
により記録層が局部的にキュＩＪ−点近傍にまで加熱さ
れることによって、情報を磁化反転の形で記録する。こ
の際、記録層に番よ垂直方向に磁界が印加される。一方
、記録された情報の再生は磁化反転が局部的に生じてし
する記録層に光ビームを照射し、その際に記録層表面か
ら反射される偏光面の回転、すなわち極力−効果を１１
１用して行われる。
有する磁性薄膜からなる記録層を基板上Ｇこ形成した構
造を有し、情報信号に応じて変調された光ビームの照射
により記録層が局部的にキュＩＪ−点近傍にまで加熱さ
れることによって、情報を磁化反転の形で記録する。こ
の際、記録層に番よ垂直方向に磁界が印加される。一方
、記録された情報の再生は磁化反転が局部的に生じてし
する記録層に光ビームを照射し、その際に記録層表面か
ら反射される偏光面の回転、すなわち極力−効果を１１
１用して行われる。
このような光磁気記録媒体の基板としては、加工性、取
扱性、コスト等の面から一般にアクリル。
扱性、コスト等の面から一般にアクリル。
ポリカーボネートエポキシ樹脂等のプラスチ・ンク基板
が用いられている。
が用いられている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来のアクリル、ポリカーボネート
エポキシ樹脂等のプラスチック基板では、環境温度や温
度の変化により内部応力の大きさが変動し、複屈折率等
が変化するためにＣ／Ｎが低下するという問題点を有し
ていた。また、真空中あるいは気体中での熱処理ではプ
ラスチック基板の安定には長時間の熱処理を必要として
いた。
エポキシ樹脂等のプラスチック基板では、環境温度や温
度の変化により内部応力の大きさが変動し、複屈折率等
が変化するためにＣ／Ｎが低下するという問題点を有し
ていた。また、真空中あるいは気体中での熱処理ではプ
ラスチック基板の安定には長時間の熱処理を必要として
いた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので短時間でプ
ラスチック基板の熱処理が可能であり、さらに環境温度
、湿度に対して安定して高いＣ／Ｎを保持できることを
実現できる光磁気記録媒体を提供することを目的とする
。
ラスチック基板の熱処理が可能であり、さらに環境温度
、湿度に対して安定して高いＣ／Ｎを保持できることを
実現できる光磁気記録媒体を提供することを目的とする
。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明の光磁気記録媒体とし
て透明なプラスチック基板を８０℃以上の不活性溶液中
で熱処理したプラスチック基板から構成されている。
て透明なプラスチック基板を８０℃以上の不活性溶液中
で熱処理したプラスチック基板から構成されている。
作泪
この構成によって短時間でプラスチック基板の熱処理が
可能でありさらに環境温度、湿度の変化によるプラスチ
ック基板の内部応力の変動を防止することができ、Ｃ／
Ｎが安定した光磁気記録媒体を実現できるものである。
可能でありさらに環境温度、湿度の変化によるプラスチ
ック基板の内部応力の変動を防止することができ、Ｃ／
Ｎが安定した光磁気記録媒体を実現できるものである。
実施例
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
本発明においては、ディスク状の透明プラスチック基板
が用いられ、基板の厚さは一般に１，０〜１．５調程度
のものが用いられる。１実施例としてポリカーボネート
は一礒式 で表わされる炭酸エステル型構造を有する熱可塑性ポリ
マーの総称であり、一般にはＸが芳香族である芳香族ポ
リカーボネートが用いられる。このポリカーボネートの
平均分子量１５０００程度のものを用いることにより、
耐熱性、耐衝撃性、難燃性、低吸湿性の優れたディスク
基板が作製できる。ポリカーボネート基板は射出成形に
より作製するが、その時の金型温度、射出圧力、冷却速
度等の作製条件により残留応力が生ずる。
が用いられ、基板の厚さは一般に１，０〜１．５調程度
のものが用いられる。１実施例としてポリカーボネート
は一礒式 で表わされる炭酸エステル型構造を有する熱可塑性ポリ
マーの総称であり、一般にはＸが芳香族である芳香族ポ
リカーボネートが用いられる。このポリカーボネートの
平均分子量１５０００程度のものを用いることにより、
耐熱性、耐衝撃性、難燃性、低吸湿性の優れたディスク
基板が作製できる。ポリカーボネート基板は射出成形に
より作製するが、その時の金型温度、射出圧力、冷却速
度等の作製条件により残留応力が生ずる。
第１図に示すように作製したポリカーボネート基板を１
００℃のフン化炭素系不活性溶液中で２時間熱処理した
後の複屈折率の時間変化を示したものが第２図である。
００℃のフン化炭素系不活性溶液中で２時間熱処理した
後の複屈折率の時間変化を示したものが第２図である。
第３図は、作製後そのまま放置したポリカーボネート基
板の複屈折率の時間変化であるが、時間が経過するとと
もに変化していることがわかる。これに対し第２図のフ
ン化炭素系不活性溶液中での熱処理後では複屈折率が一
定となり、安定していることがわかる。これはポリカー
ボネート基板の残留応力が緩和されたものと考えられ、
第４図に示すように、この熱処理をした基板を用いて作
製した光磁気記録媒体のＣ／Ｎも一定の値が得られた。
板の複屈折率の時間変化であるが、時間が経過するとと
もに変化していることがわかる。これに対し第２図のフ
ン化炭素系不活性溶液中での熱処理後では複屈折率が一
定となり、安定していることがわかる。これはポリカー
ボネート基板の残留応力が緩和されたものと考えられ、
第４図に示すように、この熱処理をした基板を用いて作
製した光磁気記録媒体のＣ／Ｎも一定の値が得られた。
熱処理する不活性溶液の温度は、基板の特性に依存する
。ポリカーボネート基板で８０℃以下では、？Ｊ［屈折
率が安定しない。また熱変形温度が１４０℃程度のポリ
カーボネート基板では１３０℃以上では基板の溝形状等
が変形するために、８０′Ｃ〜１３０″Ｃの温度の不活
性溶液で熱処理するのが望ましい。
。ポリカーボネート基板で８０℃以下では、？Ｊ［屈折
率が安定しない。また熱変形温度が１４０℃程度のポリ
カーボネート基板では１３０℃以上では基板の溝形状等
が変形するために、８０′Ｃ〜１３０″Ｃの温度の不活
性溶液で熱処理するのが望ましい。
熱処理時間は熱処理のときの不活性溶液の温度によって
変える必要があり、真空中あるいは気体中で熱処理する
場合に比べて半分以下に短縮できる。また高温度で熱処
理するほど短時間でよい。
変える必要があり、真空中あるいは気体中で熱処理する
場合に比べて半分以下に短縮できる。また高温度で熱処
理するほど短時間でよい。
ここで用いたフッ化炭素系不活性溶液は例えば住人スリ
ーエム社製、ＦＣ−４０である。
ーエム社製、ＦＣ−４０である。
以上のように本実施例によれば、８０℃以上のフン化炭
素系不活性溶液中で基板を熱処理することにより、環境
温度、湿度の変化に対して安定して高いＣ／Ｎの光磁気
記録媒体を実現できる。
素系不活性溶液中で基板を熱処理することにより、環境
温度、湿度の変化に対して安定して高いＣ／Ｎの光磁気
記録媒体を実現できる。
なお、本実施例ではポリカーボネート基板についてのみ
述べてきたが、アクリル、エポキシ樹脂等信のプラスチ
ック基板についても同等の効果が得られる。
述べてきたが、アクリル、エポキシ樹脂等信のプラスチ
ック基板についても同等の効果が得られる。
発明の詳細
な説明したように、本発明は８０ ’Ｃ以上の不活性溶
液中で熱処理したプラスチック基板を用いることにより
、安定して高いＣ／Ｈの光磁気記録媒体を実現できる。
液中で熱処理したプラスチック基板を用いることにより
、安定して高いＣ／Ｈの光磁気記録媒体を実現できる。
また、不活性溶液を用いることにより、真空中あるいは
気体中でプラスチック基板を熱処理した場合に比べて時
間を半分以下に短縮することが可能となり、不活性溶液
を使うことにより基板全面にわたって均一に応力を緩和
することができる。
気体中でプラスチック基板を熱処理した場合に比べて時
間を半分以下に短縮することが可能となり、不活性溶液
を使うことにより基板全面にわたって均一に応力を緩和
することができる。
さらに内部応力の緩和とともに形状も安定となり、そり
５収縮等を防ぐことができる優れた光磁気記録媒体を実
現できるものである。
５収縮等を防ぐことができる優れた光磁気記録媒体を実
現できるものである。
第１図は不活性溶液中での熱処理の手順を示すブロック
図、第２図は熱処理後の複屈折の時間変化を示すグラフ
、第３図は熱処理のない場合の複屈折の時間変化を示す
グラフ、第４図は熱処理後のＣ／Ｎの変化を示すグラフ
である。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１泡径１時間 （ｈＩ−）
図、第２図は熱処理後の複屈折の時間変化を示すグラフ
、第３図は熱処理のない場合の複屈折の時間変化を示す
グラフ、第４図は熱処理後のＣ／Ｎの変化を示すグラフ
である。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１泡径１時間 （ｈＩ−）
Claims (3)
- （１）透明なプラスチック基板上に非晶質磁性膜の記録
層を有する光磁気記録媒体において前記プラスチック基
板が８０℃以上の不活性溶液中で熱処理した基板である
ことを特徴とする光磁気記録媒体。 - （２）不活性溶液がフッ化炭素系溶液であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体。 - （３）透明なプラスチック基板がアクリル、ポリカーボ
ネート又はエポキシ樹脂であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220952A JPH0268747A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220952A JPH0268747A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0268747A true JPH0268747A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16759122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63220952A Pending JPH0268747A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0268747A (ja) |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63220952A patent/JPH0268747A/ja active Pending
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