JPH0274590A - 気相法透明ダイヤモンドの合成法 - Google Patents

気相法透明ダイヤモンドの合成法

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JPH0274590A
JPH0274590A JP22508488A JP22508488A JPH0274590A JP H0274590 A JPH0274590 A JP H0274590A JP 22508488 A JP22508488 A JP 22508488A JP 22508488 A JP22508488 A JP 22508488A JP H0274590 A JPH0274590 A JP H0274590A
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JP
Japan
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diamond
plasma
arc
gas
synthesis
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Application number
JP22508488A
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English (en)
Inventor
Kunio Komaki
小巻 邦雄
Isamu Yamamoto
勇 山本
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光学用、各種精密部材用あるいは研削、研磨用
として有用なダイヤモンドの低圧気相法透明ダイヤモン
ドの合成法に関し、とくにアーク放電によるダイヤモン
ド合成状態へのプラズマのコントロール手段に関する。
[従来の技術] 低圧気相ダイヤモンド合成法は、炭化水素または酸素、
窒素等を含む有機化合物と水素とを混合し、熱フィラメ
ント、マイクロ波プラズマ、高周波プラズマ、直流アー
ク放電等により励起して基材の上にダイヤモンドを析出
する方法である。
このうちアーク放電によるものは、アーク放電は高温で
あり、しかも放電自体の持続性を維持するためには基板
とアークとは直線的に・14行で、かつアークと基板間
はある程度離れていることが必要とされていた。この場
合ダイヤモンドの析出はアークの中央直下及びその付近
に限られ、しかもダイヤモンドの析出速度のコントロー
ル、析出ダイヤモンドの形態、組織、結晶性のコントロ
ールが非常に困難ときれていた。
[発明が解決しようとする課m] 対向アーク放電による低圧気相法ダイヤモンドの実用化
のためには析出速度の高速化、析出面積を増大すること
が必要であるが、この目的のために基板とアーク間の距
離の短縮を行うと析出ダイヤモンドの結晶にエツチング
を生じかつ黒鉛相が混入する。従って上述の様な現象を
生じないでダイヤモンド速度の高速化および)バ出面積
の増大化をはかり、なお汀つ析出ダイヤモンドの形悪結
品性、すなオ〕ち透明な自形の発達したダイヤモンド粒
および膜状物の開発が実用面から強く要求されている。
[課題を解決するための手段] 前記要求に応する方法を開発する目的で、本発明者らは
アーク放電の高温、高密度エネルギーの制御法について
種々研究の結果、原料ガス、水素ガス、アルゴンガス等
を一定割合で噴射することによりプラズマエネルギーを
コントロールしながらこのプラズマ空間にタングステン
等の高融点炭化物を形成する金属の蒸気を導入して、こ
の金属のプラズマ化に伴うイオン化密度の増加とプラズ
マ空間の広がりにより原料のラジカル化が促進され基体
上に透明自形ダイヤモンドが効果的に合成されることを
発見し本件発明を完成するに至った。
すなわち本件発明の要旨は対向アーク放電によりダイヤ
モンド合成可能状態に励起し、基体上にダイヤモンドを
析出させる気相法ダイヤモンドの合成方法において、対
向する電極間にアーク放電柱を生ぜしめ、該アーク放電
柱内に原料ガスを通過せしめてプラズマとなし、このプ
ラズマ内に高融点炭化物を形成する金属蒸気を導入する
ことにより透明なダイヤモンドを析出させることを特徴
とする気相法透明ダイヤモンドの合成法にある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられる原料ガスは炭化水素ガスや酸素、窒
素等を含む有機化合物等、気+11法ダイヤモンドの合
成に用いられるすべての公知の原料ガスが用いられる。
又、ダイヤモンドの合成原料をアークに対して直交させ
、アークに・11−行におかれた基体の反対側より基体
方向に吹きつけることが望ましい。この場合、雰囲気ガ
スの水素濃度はlO〜80体積%が好ましく、より好ま
しくは40〜60体積%である。例えば水素40体積9
6とはArH2雰囲気でH2/ (H2+Ar)−40
/100のことである。
アークは開始時、電極間電位により電離した気体部分を
通じて、陰極から大量の電子の流れを生じ、これが気体
分子イオンと衝突し、プラズマ化し、アークが持続する
。この場合ダイヤモンド生成可能なプラズマエネルギー
領域はキャリアガス組成と原料からなる気体分子のイオ
ン化に大きく依存する。
さらに、このプラズマ中に高融点炭化物を形成する金属
蒸気を導入することにより一定の金属原子のイオン化に
よりプラズマ内の電流密度の増加がはかられ、炭素原子
の化合物である各種原料の分解、ラジカル化が促進され
る。また高融点炭化物を形成する金属としては具体的に
はタングステン、ホウ素、タンタル、チタン、ジルコニ
ウム、トリウム、シリコン、バナジウム、モリブデン、
ニオブが好ましい。
アーク柱に添加する金属蒸気は金属または化合物の微粉
体として、あるいは化合物蒸気としてアーク柱に直接導
入することができるし、また本発明方法によるアークの
放電電極は、C,W。
W−Th、W−Mo合金等の通常のアーク発生電極を用
いることができるので、金属蒸気の導入には適切な大き
さのタングステンなどの電極を近接させて通電電流によ
って電極金属の部分的溶融を起こさせ、さらにこれを蒸
発させて利用することもできる。
本発明において原料ガスの噴出はアーク発生帯域におい
てガスの流出速度は0、旧〜BOOm/seeが好まし
く、より好ましくは0.2〜100m / seeであ
る。又混合ガスはアルゴンの代りにHe。
Ne、Kr、Xeと水素との混合ガスも使用可能である
ダイヤモンド合成用炭素源としては前記したようにメタ
ン、エタン、プロパン等の飽和炭化水素、エチレン、プ
ロピレン、ブチレン、アセチレン等の不飽和炭化水素、
ベンゼン等の芳谷族炭化水素、アルコール類、アセトン
等のケトン基を含む化合物、その他C,H,O化合物、
含窒素化合物、酸化炭素等、およびこれらの複数混合物
を用いることが可能である。
本発明方法においては直流放電アーク内にタングステン
等の金属蒸気の導入によりプラズマ内のイオン化電流を
高めることができ、且つ析出基板に励起された化学種、
メチルラジカル等のカーボン含有ラジカルと原子状水素
がそれらの活性を失う前により多く基板に到達できるこ
とにより、基板上に析出するダイヤモンド以外のi−カ
ーボンやグラファイトを除去することにより、透明な自
形の発達したダイヤモンドの同速成長と広域成長が実現
したものと考えられる。
[実 施 例] 内容債約5リットルの装置内に10mn角のSi鏡而面
磨基板を水冷基板支持台にとりつけて水゛1とに設置し
た。該Sl基板の上方3III11に電極間圧11i1
5市を保つようにタングステン製陽極、トリウム入りタ
ングステン製陰極をとりつけ、さらに基板上10m+s
の位置の極間中心の真上に下方向を向いている1/16
インチSUS製ダイヤモンド合成原料導入ノズルをとり
つけた。
装置内をAr =700cc/分、H2−500cc/
分の混合気体にエチルアルコール1体積26を添加した
雰囲気とし、装置内圧力を200Torrとし、通電時
にWとW−Thの画電極を近ずけ電極表面の金属を部分
的に溶融させた。その後電極間距離を広げ極間電力を3
5V、15Aに印加し、アークを形成させ、前記ノズル
から組成がH242体積%、A「58体積%であるガス
を1,2リットル/分の流速で導入したところ、プラズ
マ生成域が広がり、アークは黄白色を呈した。
15分間連続して反応させた後、基体析出物を観察した
ところ、析出物は基体仝而を覆い、また析出物の表面は
ダイヤモンド自形を白゛する透明な結晶性の高い粒が密
集状態を呈していた。又、自形粒径は50〜60μであ
った。さらに表面のラマン分光を測定したところ133
3Lrn−’にダイヤモンド特許“の鋭いピーク1本の
みを認めた。
[発明の効果] アーク放電による気相法ダイヤモンド合成において本発
明方法によるタングステン等の高融点炭化物を形成する
金属蒸気を導入することによって粒状の透明な自形ダイ
ヤモンドを高速で広範囲に生成することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、対向アーク放電によりダイヤモンド合成可能状態に
    励起し、基体上にダイヤモンドを析出させる気相法ダイ
    ヤモンドの合成方法において、対向する電極間にアーク
    放電柱を生ぜしめ、該アーク放電柱内に原料ガスを通過
    せしめてプラズマとなし、このプラズマ内に高融点炭化
    物を形成する金属蒸気を導入することにより透明なダイ
    ヤモンドを析出させることを特徴とする気相法透明ダイ
    ヤモンドの合成法。
JP22508488A 1988-09-08 1988-09-08 気相法透明ダイヤモンドの合成法 Pending JPH0274590A (ja)

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JP (1) JPH0274590A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02307899A (ja) * 1989-05-19 1990-12-21 Fujitsu Ltd ダイヤモンド膜の合成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02307899A (ja) * 1989-05-19 1990-12-21 Fujitsu Ltd ダイヤモンド膜の合成方法

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