JPH01197391A - ダイヤモンドの合成方法 - Google Patents

ダイヤモンドの合成方法

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JPH01197391A
JPH01197391A JP2166088A JP2166088A JPH01197391A JP H01197391 A JPH01197391 A JP H01197391A JP 2166088 A JP2166088 A JP 2166088A JP 2166088 A JP2166088 A JP 2166088A JP H01197391 A JPH01197391 A JP H01197391A
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JP
Japan
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gas
oxygen
diamond
carbon monoxide
compds
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Application number
JP2166088A
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English (en)
Inventor
Toshimichi Ito
伊藤 利通
Atsuhiko Masuda
増田 敦彦
Yuji Eto
江藤 祐士
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はダイヤモンドの合成方法に関し、さらに詳し
く言うと、基材上に速い堆積速度で効率良く、しかも不
純物の少ないダイヤモンドを製造することのできるダイ
ヤモンドの合成方法に関する。
[従来の技術およびその問題点] 近年、ダイヤモンドの合成技術は著しい発展を遂げ、た
とえば工具用各種保護膜、光学用材料。
電子材料、化学工婁材料などにダイヤモンドが広く用い
られるに至っている。
このようなダイヤモンドを合成する方法としては、炭化
水素ガスをフィラメントにより熱分解して種結晶の表面
にダイヤモンドを析出させる熱分解型合成法、不均等化
学反応を利用して基板表面にダイヤモンド膜を得る化学
輸送型合成法、炭化水素ガスをプラズマ分解して基板上
にダイヤモンドの析出を図るプラズマ分解型合成法、あ
るいは熱陰極PIGガン、冷陰極PIGガン、スパッタ
ーガンなどを用いて炭素をたたき出し、この炭素をアー
ク放電空間でイオン化させてから基板上に堆積させるイ
オン化蒸着法なζが知られている。
ところで、従来、提案されていた方法は、jX料ガスと
して、炭化水素または炭化水素と水素との混合ガスを用
いるものであるが、(特開昭58−91100号公報、
特開昭58−110494号公報、特開昭58−135
117号公報、特開昭59− fi3732号公報、特
開昭60−103099号公報等参照)、これらの方法
においては、ダイヤモンドの堆積速度の向上を図るため
には、たとえば炭化水素と水素との混合ガスを原料ガス
として用いる場合には、炭化水素の量を増加させる必要
がある。
そのように炭化水素の量を増加させることによってダイ
ヤモンドの堆積速度は向上するのであるが、一方では、
得られるダイヤモンド膜にグラファイトなどのダイヤモ
ンド以外の不純物が混入してしまう問題がある。
この発明の目的は、前記問題点を解消し、基材上に、速
い堆積速度で効率良く、しかも不純物の少ないダイヤモ
ンドを得ることのできるダイヤモンドの合成方法を提供
することにある。
[問題点を解決するための手段] 前記問題点i解決するために、この発明者が鋭意検討を
重ねた結果、気相中でダイヤモンドを合成する方法にお
いては、炭素源として従来のような炭化水素ガスを使用
せずに一酸化炭素ガスと水素ガスと含酸素化合物とを使
用した場合には、基材上に、従来法に比較して速い堆積
速度で効率良く、シかも不純物の少ないダイヤモンド膜
を得ることができることを見い出してこの発明に到達し
た。
すなわち、この発明の構成は、一酸化炭素ガスと水素ガ
スと一酸化炭素および二酸化炭素以外の含酸素化合物と
からなる原料ガスを励起して得られるガスを、基材上に
接触させることにより、ダイヤモンドを析出させること
を特徴とするダイヤモンドの合成方法である。
この発明の方法において、原料ガスとして、一酸化炭素
ガスと水素ガスと一酸化炭素および二酸化炭素以外の含
酸素化合物とからなる原料ガスあるいはこれらを含む混
合ガスを使用することができる。
前記一酸化炭素ガスについては、特に制限がなく、たと
えば石炭、コークスなどと空気または水蒸気とを熱時反
応させて得られる発生炉ガスや水性ガスを充分に精製し
たもの1通常に重版されているボンベ入り一酸化炭素ガ
スあるいはメタノールを分解して得られる分解ガスを用
いることができる。
メタノールの分解ガスは水素ガスを含んでいるので、こ
の分解ガスに水素ガスを−さらに添加するだけでこの発
明における原料ガスにおける一酸化炭素ガスと水素ガス
とを調製することができる場合もあり、この分解ガスを
使用すると、ボンベ入りの一酸化炭素ガスを使用する際
の危険性を回避することができる。
前記水素ガスは一酸化炭素ガスと混合して用いることが
でき1.!8または放電によって原子状水素等を形成す
る。この原子状水素等は、ダイヤモンドと同時に析出す
る黒鉛構造の炭素を除去する作用と析出したダイヤモン
ド結晶中の炭素原子の5p3構造を高温においても維持
する作用とを有するものと考えられる。
使用に供される水素ガスとしては、たとえば水の電解、
水性ガスの変性、鉄と水蒸気との反応、石油類のガス化
、天然ガスの変性、石炭のガス化などによって得られる
ものを充分に精製して用いることができる。
本発明の方法において、一酸化炭素および二酸化炭素以
外の含酸素化合物としては、酸素それ自体、あるいは高
温で分解して酸素を発生するものであれば特に制限はな
い。
高温で分解して酸素を発生するものとしては。
たとえば、水、過酸化水素水、あるいはメタノール、エ
タノール、プロパツール、イソプロピルアルコール、ブ
タノール、イソブチルアルコール。
S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコールなどの脂
肪族アルコール類、シクロペンタノール、シクロヘキサ
ノールなどの脂環式アルコール類、フェノール、ナフト
ールなどの芳香族アルコール類、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、グリセリンなどの多価アルコール類
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン
などのアルデヒド類、アセトン、エチルメチルケトン、
インブチルケト、ンなどのケトン類、酢酸、アクリル酸
、メタクリル酸、マレイン酸、無−水マレイン酸などの
脂肪族カルボン酸およびその無水物、ならびに安息香酸
、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、無水フタル
酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリッ
ト酸、無水ピロメリー2ト酸などの芳香族カルボン酸お
よびその無水物などを挙げることができる。
含酸素化合物の中でも、酸素、水および過酸化水素が好
ましい。
本発明の方法において、前記原料ガスとともに不活性ガ
スを用いてもよい。
前記不活性ガスは前記原料ガスのキャリヤーガスとして
の作用を有するとともに前記水素ガスと混合して反応管
壁面に流すことによりプラズマ発生用石英管を保護する
作用を有する。さらにプラズマガスとしてプラズマを安
定化させる作用をも有する。  ゛ 使用に供される不活性ガスとしては、たとえばアルゴン
ガス、ネオンガス、キセノンガス、窒素ガスなどが挙げ
られる。これらの中でも、特に好ましいのはアルゴンガ
スである。
この発明の方法においては、前記一酸化炭素ガスと水素
ガスと一酸化炭素および二酸化炭素以外の含酸素化合物
とからなる原料ガスとして用いる。
前記原料ガスにおける一酸化炭素ガスと水素ガスと前記
含酸素化合物との使用割合をモル%で表すと以下のごと
くである。
すなわち、一酸化炭素ガスは水素ガスに対し、0.05
モル%以上、好ましくは、0.1モル%であり、含酸素
化合物は、全ガス量に対し、0.05〜10モル%、好
ましくは、0.1〜10モル%である。
前記含酸素化合物の量が0.05モル%未満の場合およ
び10モル%を超える場合には、ダイヤモンドの堆積速
度の向上が見られない場合があり、またグラファイトな
どの不純物の混入が見られる場合がある。
本発明においては、大村上にダイヤモンド膜が形成され
る。
前記基材としては、たとえば、円板状、角板状などの板
状のもの、棒状のもの、管状のものなど種々の形状のも
のを用いることができる。
また、前記基材の素材としては、たとえば、シリコン、
アルミニウム、チタン、タングステン、モリブデン、コ
バルト、およびクロムなどの金属、これらの酸化物、窒
化物および炭化物、たとえばWC−Co系合金、WC−
TiC−Go系合金JC−TiC−TaC−Co系合金
などの超硬合金、^l zOs−Fe系4iC−Xi系
、Tic−Co系、 84C−Fe系、TiN系、Ti
C−TiN系等のサーメットならびに各種セラミックス
からなるもののいずれをも使用することができる。
前記原料ガスを分解して励起状態の炭素を含有するガス
を得る手段としては、熱電子放射材たとえば熱フィラメ
ントを使用することによるプラズマ発生法、直流または
交流アーク放電方式によるプラズマ発生法、高周波誘導
方式あるいはマイクロ波放電方式によるプラズマ発生法
などのいずれをも採用することができるし、スパッタ法
、イオン化蒸着法、イオンビーム蒸着法、熱フイラメン
ト法、化学輸送法などの従来より公知の方法を用いるこ
とができる。
この発明の方法においては、以下の条件下に反応が進行
して、気相中でダイヤモンドが析出する。
反応圧力は通常10−’ 〜103Torr、好ましく
は。
1〜800Torr テある。
反応温度は、400〜1,200℃、好ましくは、45
0〜1,100℃である 前記反応温度が、400℃未満の場合には、ダイヤモン
ドの堆積速度の向上が見られなかったり、ダイヤモンド
が析出しないことがあり、また。
1.200℃を超える場合には、ダイヤモンドがエツチ
ングにより削られ、ダイヤモンドの堆積速度の向上が見
られないことがある。
以上の条件下での反応は、たとえば第1図に示したよう
な反応装置を用いて行なうことができる。
第1図は、この発明の方法に使用することのできる反応
装置の概念図である。
すなわち、一酸化炭素ガス、水素ガスおよび含酸素化合
物を含む原料ガスは、原料ガス導入口1から、反応容器
2内へ導入される。この反応容器2内へ導入された原料
ガスは導波管3により導出されるマイクロ波あるいは高
周波によりプラズマ分解されて活性化し、この活性化し
たガスに含まれる励起状態の炭素が、基材4上、あるい
は要すれば表面を清すにした基材4上に堆積してダイヤ
モンド膜を形成する。
この発明の方法により得ることができるダイヤモンドは
、たとえば工具の表面保護膜などの各種保SS、光学用
材料、 ’fit子材料、化学工業材料などに好適に利
用することができ、特に切削工具および研磨工具の表面
保護膜として好適に利用することができる。
[実施例] 次いで、この発明の実施例および比較例を示し、この発
明についてさらに具体的に説明する。
(実施例1) 周波数2−45GHzのマイクロ波電源を使用し、基材
として、シリコンウェハを用い、ガスとして、一酸化炭
素と水素と酸素を用いた。一酸化炭素の流170scc
m (66,7モル%)、水素の流量30sccm(2
8,6モル%)、酸素の流ii 5 sccm (4,
7−Fニル%)で圧力50torrの下に1時間かけて
、ダイヤモンドの合成を行なって、900℃に制御した
基板上に厚み20IL厘の堆植物を得た。得られた堆植
物について、ラマン分校分析を行なったところ。
不純物のないダイヤモンドであることを確認し・た。
(実施例2) 実施例1において、基材としてWC−Co(Coa11
2%)を用いるとともに酸素の代りに水を8 sccm
 (5,7モル%)のNt縫で用いて1時tmダイヤモ
ンドの合成を行なったところ、基板上に厚さ15ILm
の堆植物を得た。得られた堆植物について、ラマン分光
分析を行なったところ、不純物の存在しないダイヤモン
ドであることを確認した。
[発明の効果] この発明によると、一酸化炭素と水素と含酸素化合物と
の混合ガスを原料として、ダイヤモンドを合成すること
ができるので、大きい析出速度で1.シかも不純物のな
いダイヤモンドを大村上に形成することができるなどの
効果を有する工業的に有利なダイヤモンドの合成方法を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の方法において使用することのできる
反応装置の一例を示す概略図である。 1・・−原料ガス導入口、2・φ・反応容器、3・・・
導波管、4・・基材。 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一酸化炭素ガスと水素ガスと一酸化炭素および二
    酸化炭素以外の含酸素化合物とからなる原料ガスを励起
    して得られるガスを、基材上に接触させることにより、
    ダイヤモンドを析出させることを特徴とするダイヤモン
    ドの合成方法。
JP2166088A 1988-02-01 1988-02-01 ダイヤモンドの合成方法 Pending JPH01197391A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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