JPH0276143A

JPH0276143A - 光磁気再生装置

Info

Publication number: JPH0276143A
Application number: JP22664388A
Authority: JP
Inventors: Toru Sasaki; 徹佐々木; Yasuo Otsuka; 康男大塚; Yoshihiro Katase; 片瀬　順弘
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1988-09-12
Filing date: 1988-09-12
Publication date: 1990-03-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は光磁気再生装置に係り、特にディスク基板の複
屈折による分布を有する位相差を相殺するのに好適な光
学ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

従来の光磁気再生装置は１％開昭６０−２２６０４５丹
公報忙記載のように、対物レンズと検光子の間に。

ディスク単独又はそれと該再生装債の光学部品で生ずる
偏光の乱れを補正する位相差補正手段が設けられている
。

〔発明が解決しようとする課題〕

最初に、上記従来技術と本発明が補正しようとする偏光
の乱れ特に、ディスクで生ずる偏光の乱れについて説明
する。

ｍ２図は、記碌膜１とディスク基板１を有するディスク
１に対物レンズＩＩＪＣより平行光束３００が。

絞り込まれる様子を表したものである。また、第３南は
、平行光束３００の各部分光束の偏光状態を示したもの
でい。この図における各部分光束の偏光状態は偏光方向
が一定の直線偏光である。第３図で示される平行光束３
００が、対物レンズ１１によりディスク１に絞り込まれ
、記録膜１で反射した後、再たび、対物レンズ１１Ｖｃ
より平行光束となったときの偏光の乱れは次のように解
析できる。

まず、光が屈折率の異なる媒体に入射する際に。

Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の透過率の違いで行こる偏光面
の回転が、対物レンズＩＩＫより、基板３に絞り込まれ
る収束光３０１中の各部分光束毎に異なるため、ディス
ク入射直後の収束光Ｙ３０１とすると第４図（１）で示
すように、収束光３０１中における各部分光束の偏光方
向の違いによる偏光の乱れが生ずる０次に、光学異方性
を有するディスク基板（例えば、ポリカーボネート基板
）Ｋ、収束光が透過するために、各部分光束に異なった
位相差δが生じ偏光の乱れが生じる。その結果、記録膜
で反射し再たび、対物レンズ１１で平行光とされた光束
３００は、第４図（■）で示されるように、各部分光束
の偏光方向と位相差δが異なった偏光の乱れを生ずる。

以上のように、ディスク１で生ずる偏光の乱れは、２種
類の偏光の乱れが重なった結果と言える。

しかし、上記従来技術では、ディスク基板３に収束光３
０１が入射する際に生ずる偏光の乱れについては述べら
れているものの１元学的異方性を有するディスク基板に
収束光が透過する過程で生ずる偏光の乱れＫついては配
慮されていなかった。

その結果、実際に光学的異方性を有する基板を用いたデ
ィスク１を反射した元の偏光の乱れを十分に補正できな
いといった問題があった。

そこで２本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を
解決し、ディスク１で生ずる光束中の偏光の乱れｔ補正
することのできる位相差補正手段を有する光磁気再生装
置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は１例えば電界を印加すると、その媒体の光学
的異方性を表す屈折率楕円体の形状が変化する透明基板
１例えばＬｉＮｂＯ３基板と、該基板表面と側面に、電
界を印加出来るように電極を設けて構成された位相差補
正手段を、レーザ元が光学的情報記録媒体に入射する収
束光中に設は該光学的情報記録媒体からの反射光を光検
出器に導き、該位相差補正手段で生ずる位相差と、該光
学的情報記録媒体で生ずる位相差が相殺するように、前
記制御手段を用いて該位相差補正手段を制御することに
より達成される。

〔作用〕

上記Ｌ　１Ｎｂ０３等の電気光学結晶は、電界が印加さ
れると、その結晶の光学的異方性を表す屈折率楕円体が
電界の強弱に応じて変化する。よってＩＪｂＯｓ基板の
表面に、電界が印加されるように電極群を構成した位相
差補正手段を対物レンズとディスク基板間の収束光中に
設ける。そして１位相差補正手段のＬ　１Ｎｂｏ３基板
の光学的異方性を表す屈折率楕円体ｔ、該位相差補正手
段に印加する電圧を制御することＫより、元ディスクに
収束光が入射することによって生ずる偏光の乱れ（位相
差分布）とほぼしい位相差分布を発生させることができ
る。

また、前記制御手段は、光学的情報記録媒体から反射さ
れたレーザ元の一部を、ビームスプリッタによって光検
出器へ導き、光電変換された検出信号から１位相差補正
手段で生ずる位相差を制御するための制御信号を、以下
の制御方法によって。

位相差補正手段に供給する。

位相差補正手段で生ずる位相差が変化する方向に、一定
周波数でウオブリングし、一方、該検出信号から、バン
ドパスフィルタにより、前記ウオブリング周波数成分を
検出し、この信号と該ウオブリング信号の乗算結果を、
ローパスフィルタを通して得た信号レベルが零となるよ
うに１位相差補正手段で生ずる位相差を制御する。

上記制御方法により得た該制御信号によって。

該ディスクで生ずる位相差と、該位相差補正手段で生ず
る位相差が相殺されるように制御され、その結果、ノイ
ズの原因となるＤＣ光量の変動、及びＡＣ党量の減少を
防止し、ＣＮ比を向上することから出来る。

〔実施例〕

以下１図面な参照して本発明の実施例につぎ説明する。

第１゛図は１本発明の一実施例としての元磁気再生装置
を示したブロック図である。本実施例ではディスクにお
いて元が反射される場合を例にとり説明する。

この図において、１は１元反射性の磁性記録膜２、およ
びカバーガラス３を有する光磁気ディスクであり、モー
タ４によって回転する。記録信号の再生は、直線偏光光
源である半導体レーザ５から出るレーザ光が、コリメー
トレンズ６により平行光とされ、ビーム整形プリズム７
ではほぼ円形の光強度分布に整形されたのち、ビームス
プリッタ（偏光子）８に入射する。ここで、偏光子８は
。

レーザ光源５から出射される直線偏光の偏光方向をＰ（
またはＳ）偏光とすると、入射する元のＳ（またはＰ）
偏光成分はほぼ全反射するように配置してるる。このた
めＰ（またはＳ）偏光成分の一部を反射し、残りを透過
する。このうちの透過レーザ光は、さらにミラー１０ヲ
介して、対物レンズ１１により集光され１位相差補正手
段９およびディスク基板３を透過して記録膜２とに照射
される。

このとぎ、記録膜２に照射されたレーザ光は、カー効果
によって、記録膜２の記録部および未記録部の磁気モー
メントの配向状態により偏光面が角度θｋ（または−θ
ｋ）だけ変化する。

さらに、記録膜２かもの反射光は、再び、ディスク基板
３２位相差補正手段９を透過したのち。

対物レンズ１１で平行光に戻り、ミラー１０’に介して
。

第１の偏光子８で、Ｓ（またはＰ）偏光成分は全反射さ
れ、Ｐ（またはＳ）偏光成分は一部は反射され、残りは
透過される。この反射光は、さらに、第２のビームスプ
リッタ（偏光子）１２より、偏光子８と同様にＳ（また
はＰ）偏光成分はほぼ全て反射され、Ｐ（またはＳ）偏
光成分は一部は反射され、残りは透過される。

ここで、透過したレーザ光は、凸レンズ１３で集光され
１円柱レンズ１４を介してサーボ用検出器１５に入射す
る。このサーボ用光検出器１５は、その検出方法に応じ
て複数に分割されており、プリアンプ２９　、３０５−
介してそれらの出力信号７０′Ｉｋ処理して。

フォーカス誤差信号およびトラック誤差信号を得【、デ
ィスクｌ上にレーザ光が正確に位置決めされるように、
対物レンズｔｔＶ制御する。

一方、第２の偏光子１２で反射したレーザ光は。

１／２波長板１６．凸レンズ１７ヲ介して、偏光ビーム
スプリッタ（検光子）１８に入射して２分岐される。

２分岐されたレーザ光のうち、一方の光は第１の光検出
器１９ａ　Ｋ、入射し、また、もう一方の光は第２の光
検出器１９ｂに入射し、それぞれの光電変換系２０　、
２１を経て電気信号へ変換される。さらに。

これらの光検出器１９ａ　、　１９ｂで検出された信号
は。

プリアンプ２２および２３で増幅され、差動回路２４に
入力される。差動回路２４では、プリアンプ２２または
２３により入力された各信号の同位相の成分が差し引か
れ、同時に逆位相の成分が加算されることから、再生信
号の振幅はプリアンプ２２により入力される信号の振幅
と、プリアンプ２３により人力される信号の振幅との和
として出力２５される。

次に、この光磁気ディスク１上に記録された情報がいか
にして検出されるかについて、第２図を用いて説明する
。

第５図（ａｔは１元磁気ディスク１の記録膜２．および
偏光ビームスプリッタ１８に入射するレーザ光が直線偏
光である場合（ディスク基板や光学部品等に複屈折が無
い場合）の再生信号の光量振幅を示したものである。

この図において、　　１０１および１０２は、レーザ光
のＰ（またはＳ）偏光およびＳ（またはＰ）偏光方向を
示している。又、１０３および１０４は、第１図の偏光
ビームスプリッタ１８におけるＰ（またはＳ）偏光およ
びＳ（またはＰ）偏光方向を示しており、即ち、１０３
および１０４の一方が偏光ビームスプリッタ１８の透過
軸である。

図に示すように、直線偏光１０５としてレーザ光が記録
膜上２に照射されると、その反射レーザ光は、磁気モー
メントの配向状態にて、角度θにおよび一部にの偏光面
の回転を生じ２直線偏光１０６ａ　。

１０６ｂとして反射される。この現象がカー効果であり
、この回転角θにはカー回転角と呼ばれる。さらに１本
実施例では、第１図に示すように差動検出の構成をとっ
ているため、偏光子１８のＰ（またはＳ）偏光およびＳ
（またはＰ）偏光面に、同−振幅の再生信号が得られる
よう和、その偏光方向１０３および１０４は、レーザ光
の偏光方向１０１および１０２　Ｋ対し−ｃ、約４ｆ傾
ｔｊ＜よ５Ｋｌ／２波長板１６は配意されている。従っ
て、直線偏光１０６ａ　ｅ１０６ｂとして反射された反
射レーザ光は、検光子１Ｂで２分岐されることにより、
直線偏光１０６ａは光量耐と光量ａｌ図に示すように光
量振幅がａｌ　ｅ　ａｔのとぎ、光量すなわち光強度は
その２乗で４．ａｌとなるとして得られ、直線偏光１０
６ｂは元量ｂＦと元量りとして得られる。°従って１元
検出器１９ａ　、　１９ｂで検出される光量としては、
一方は　、Ｆからｂでまでの光量変化として検出され、
他方は、ｂ；からａ；までの光量変化として検出される
。ここで、直線偏光１０６ａ　、　１０６ｂとして反射
された反射レーザ光が検光子１８で検波されるまで、直
線偏光のまま偏光が保持されたとすれば、再生信号は光
量ｄ饗およびｄ：にて検出され、ＤＣ元光量でおよびｃ
：が等しい。

次に１元磁気ディスク１に複屈折が存在し光磁気ディス
クｌの記録膜２．および偏光ビームスプリッタ１８に入
射するレーザ光が楕円偏光である場合について、＠５図
（ｂ）ｔ’用いて説明する。

第３図（５）はその様な場合の再生信号の光量振幅を示
したものである。この図において、第３図（ａ）と同一
番号を付したものは、同一部である。

図のように、レーザ光が楕円偏光１０７ｇおよび１０７
ｂの場合は第５図（ａ）に示される直線偏光１０６ａお
よび１０６ｂに比べ、Ｐ（またはＳ）偏光成分が減り。

その分、新た［８（またはＰ）偏光成分が生じ、さらに
偏光面の回転を生ずる。このため検出される信号光量ｄ
：′およびｄｒは、第５図（ａ）の直線偏光のとぎに検
出される信号振幅ｄ饗およびｄ：ＰＣ比べて小さ（なり
、かつ、このときのＤＣ元量Ｃ１およびＣ２は等しくな
らない、よってキャリア成分が減少し。

ノイズ成分であるＤＣ元量差が生じ、ＣＮ比を低下させ
てしまう。この楕円偏光１０７ａおよび１０７ｂは。

光磁気ディスク１のディスク基板３１Ｃ，レーザ光が入
射および反射する際に生ずる。Ｐ（またはＳ）偏光とＳ
（またはＰ）偏光との位相差によるものか主であり、デ
ィスク基板３の材料として１元弾性定数の大きいポリカ
ーボネート（以後、ＰＣと記す）等のプラスチックを用
いた場合、＊に太き・な位相差を生じる。さらに第３図
で示されるように、この位相差は、レーザ光（平行光３
００）が。

対物レンズ１１により、ディスク１１Ｃ絞り込まれるた
め、つまり、ディスク基板３を透過する光は収束′ｙｔ
、３０１となっているため、第４図（１）で示される偏
光の乱れを有している。

次に、上記位相差分有光ついて１．第６図、第７図、＠
８図を用いてさらに詳細に説明する。

第６図は、平行光束３００が対物レンズ１１によりディ
スクｌに絞り込まれる収束光中のある部分光束Ｕのディ
スク基板に対する入射方向を示したものである。

この図において、Ｘ軸はディスク基板３牛径方向、ｙ軸
はディスク基板３円周方向、２軸は基板厚さ方向である
。また、この図における部分光束Ｕは、Ｘ軸から入射射
影角ψの方向化、２軸から入射角θ傾いて基板３に入射
している。

第７図は、平行光束３００が対物レンズ１１により。

ディスクＩＫ微少スポットとして絞り込まれ、記録膜２
で反射され、再び、対物レンズｌｉｔ経て平行光束３０
０となった時の光束上表し【いる。

この図において、Ｄは元東径、０は光束中心。

ψは、第６図における入射射影角であり、座標は。

第６図と同一の座標系で示している。

第８図は、第７図の光束のＡ−Ａ間とＢ　−Ｂ’間の位
相差Ｊを表したものである。この図中で１曲線ｈ（ψ＝
θ°）はＡ　−Ａ’間１曲線ｖ　（９１＝９０’　）は
Ｂ−８間であり、δ０は光束中心における位相差を示し
ている。この図のように、光束の外周に位置する部分光
束はど１位相差は急激に増加する。

この原因は以下の理由からである。

位相差δは、■式で与えられるよ５に、屈折率差Δｎと
光路長ｄが太き（なると、それぞれに比例して増大する
。よって、第２図、第６図で示されるように、光学的異
方性を有するディスク基板に収束光が入射する場合、■
・・・・・・光路長ｄは、θが増大するに従い長（なる
。■・・・・・・ＰＣ基板のよう虻、その基板の光学的
異方性を表す屈折率楕円体の基板・板厚方向の主屈折率
Ｎｚが２面内方向の主屈折率（Ｎｘ、Ｎｙ）ＩＣ比較し
て大きい、２軸異方性の場合、屈折率差Δｎは、入射角
θに依存しており。

θが大きくなるに従い大ぎ（なる。

よって、θが大きくなる。すなわち光束３００の外周に
位置する部分光束はど１位相差は増大し。

その位相差δは、第８図に示される分布となる。

また、第８図における曲線ｖ、ｈは完全に一致していな
い。この原因は、ＰＣ基板の屈折率楕円体の主屈折率Ｎ
ｘとＮｙが等しくないためである。

本発明は、第４図（１）および、第８図で説明したよう
に１元磁気再生装置において、ＯＮ比の低下をもたらす
レーザ光中の位相差が、分布を有している場合において
も１位相差補正手段９により補正することにより、常に
、第３図に示すような直線偏光とし、良好な再生信号ヲ
侍ようとするものである。

そこで、この位相差補正手段９につぎ、第９図。

第１０図、第１１図を用いて説明する。

本実施例では１位相差補正手段９として、結晶く電界を
加えると、屈折率が変化する電気光学結晶を利用してお
り、その結晶として２三方晶系の一軸性電気元学結晶で
あるＬｉＮｂｏｓ基板を用いた例を示す。

第９図は本実施例の位相差補正手段９の斜視構成図であ
る。４００はＬｉＮｂ０ａ基板である。４０１は。

基板４００の裏面と表面との間に電界を印加するための
透明電極であり、そして透明電極間には電圧Ｅｉｎが印
加されている。ここで、！、圧Ｅｉｎ　’Ｙ可変するこ
とにより、基板４００の光学異方性を表す屈折率楕円体
の形状を変えることができる。

このよ５＆Ｃ構成された位相差補正手段９を第１０図に
示す。対物レンズ１１とディスク基板３との間の収束光
中に設け、印加電圧Ｅｉｎを制御することＫより、ディ
スク１で生ずる位相差分布と符号が逆で１分布状態が同
じ位相差分布を発生させることにより、互いに位相差を
相殺させ、ディスク１で生ずる偏光の乱れを補正する。

すなわち８１１図で示すように、ディスクｌで生ずる位
相差％注（曲線り、ｖ）とは、符号が逆（図１では負ン
の位相差・特性（曲ａｈ、ｖ）ｖ、位相差補正手段９で
発生させることにより８位相差を相殺することができる
。

本実施例では＆ＬｉＮｂＯ３基板を用いたが、他の電気
光学結晶でも同様な効果を得ることができる。

次に第９図、１０図、１１図で説明した１位相差補正手
段９と使用した位相差補正方法を説明する。

第１図において、３６はウオブリング信号発生回路、３
７は加振回路であり１位相差補正手段９で生ずる位相差
が発生する方向に位相差補正手段９の印加電圧Ｅｔ−ウ
オブリングする。３８は包絡線検波器であり、差動回路
２４の出力から再生信号２５の振幅、すなわち信号中の
ＡＣ成分すなわち第５図におけるｄを包絡線検波する。

また、２６はバンドパスフィルタ、３３は乗算器であり
、バンドパスフィルタ２６の出力信号と、ウオブリング
信号発生回路３６より出力されるウオブリング信号をア
ナログ乗′算する。さらに、３４はローパスフィルタ、
２７は位相差補正駆動回路であり１位相差補正手段９の
電圧ＥＹ可変することにより１位相差補正を行う。

これらの動作につぎ、さらに図面ケ用いて説明する。第
１２図は、再生信号振幅ｄ、すなわち信号中のＡＣ成分
と、レーザ光中の位相差δの関係を示したものである。

図の曲線４４に示すように、レーザ光中の位相差δ＝０
．すなわちδ０のときは振幅ｄが最大値となるが１位相
差を生じたとぎ、すなわちδ１またはδ２のとぎには、
振幅ｄが減少する。

曲線４４がこのような軌跡をたどるとき、レーザ光中に
、δ０〜δ２の位相差があると位相差補正手段９がウオ
ブリング信号発生回路３６．および加振回路３７により
発生するウオブリング信号４５にて加振されると、再生
信号振幅中に４６〜４８のごときウオブリング周波数成
分を生ずる。すなわちレーザ光中の位相差が（δ０）の
とぎには、ウオブリング信号４５の振幅中心で再生信号
振幅ｄが最大とな９１位相差δが正、負のいずれに変化
しても、振幅ｄが低下するため、４６のような、ウオブ
リング信号４５の２倍の周波数の信号が検出される。こ
れに対して１位相差がδ１およびδ２のとぎは、４７お
よび４８に示すように、ウオブリング信号４５と同一周
波数で。

振幅および位相が変調された信号が検出される。

との信号４７および４８は１曲線の傾きが異なる位置。

すなわち位相差δの符号が異なるとぎに検出された信号
であるため１周囲に一致しているが位相が逆転している
。

ところで、実際に検出される再生信号振幅ｄの包結線波
形は、第１３図（１）に示されるように、ウオブリング
周波数成分による変調を受ける。この図で１１１は再生
信号振幅である信号中のＡＣ成分を示す。このＡＣ成分
１１１は、包結線検波器３８で包路線検波され、さらに
バンドパスフィルタ２６で再生信号である高周波成分、
およびトラッキング。

フォーカシング等の低周波成分が除去されることによ’
７．（Ｉｌｌに示すような振幅と位相が変調された信号
１１２が検出される。したがって、この信号にはウオブ
リング周波数成分が含まれ【お９１位相差δ＝０（δ０
）でＯとなり、δの符号によって位相か逆転している。

この信号１１２は、さらＩＣ（ＩＩＤに示すウオブリン
グ信号発生回路２５により出力されるウオブリング信号
１１３と１乗算器３３にてアナログ乗算され、その結果
、■に示す乗算出力、すなわち位相検波出力１１４が得
られる。そしてこの乗算出力１１４から、さらにローパ
スフィルタ３４によりウオブリング周波数成分を除去す
ると、　（Ｖ）に示すような信号１１５が得られる。こ
の信号１１５は、出力０で位相差δ＝０（ａｏ）’Ｉｅ
よぎり、且つ位相差δが正または負の場合には極性が異
なり１位相差量に応じて出力が増加することから、この
信号１１５ケ用いて位相補正を行うことができる。ここ
で。

上記したδ０はげとは限らず、　　ｌｓｏ’の整数倍、
すなわちｎ　・１８０’　（ｎ＝ｏ　、±１．±２　、
　・）であればよい。すなわち、この位相制御信号１１
５がＯになるよ５１Ｃ，位相差補正駆動回路２７により
位相差補正手段９を制御すればし一ザ光中の位相差δヲ
１８０゜の整数倍に補正することができる。

このように本発明によれば、光磁気ディスクｌの記録膜
２．および検光子１７へ入射するレーザ光を直線偏光に
補正するため、再生信号振幅ｄを最大に得ることができ
、ＣＮ比を向上することができる。さらに偏光子８にも
ほぼ直線偏光に補正したレー・ザ光が入射するため、偏
光子８および１２において、所定の偏光特性を得ること
ができる。

また、補正する位相差の周波数が低い場合とはバンドパ
スフィルタ２６ヲローパスフイルタとし。

さらに必要に応じ、ローパスフィルタ３４の後に。

さらにもう１個のローパスフィルタを設けてもよい。

°尚１本実施例では、この位相差補正手段を対物レンズ
とディスク基板間に設置する構成としたがこれに限るも
のではない、この位相差補正手段は収束光中に設置する
ことによって効果を発生するから、対物レンズ内の収束
光中和設置してもよい。

たとえば、第１４図のような、３枚レンズ構成の対物レ
ンズの場合には、それらレンズ間に設置すれば良い、さ
らに、第１５図のように、構成するレンズ自体をこの位
相差補正手段としてもよい。

〔発明の効果〕

以上、詳細に説明したように、本発明罠よれば光学的異
方性を有するディスク基板忙、レーザ元が絞り込まれる
際に生ずる。偏光の乱れを補正すること釦より、光学的
情報記録媒体および検光子に入射するレーザ光を均一な
偏光、すなわち、２束内のすべての部分光束の偏光を直
線偏光とし。

再生信号振幅が最大に得られるため、ＣＮ比を向上する
ことが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す光磁気再生装置のブロ
ック図、第２図、第３図、第４図は偏光の乱れについて
の説明図、第５図は位相差が光磁気信号に及ぼす影響の
説明図、第６図、第７図。第８図は絞り込み光忙よる偏光の乱れの贈明図。第９図、第１０図、第１１図は実施例の位相差補正手段
の説明図、第１２図、第１３図は位相補正の制御手段の
説明図、第１４図、第１５図は位相差補正手段の実施例
の説明図である。ｌ・・・光磁気ディスク、２・・・記録膜。３・・・ディスク基板、　９・・・位相差補正手段、１
１・・・対物レンズ、　　　１７・・・検光子。１０５　、１０６・・・直線偏光、１０７　、１０８・・・楕円偏光。３００・・・・平行光束、３０１・・・収束光。４００・・・ＴＪ　Ｉ　ＮｂＯ３基板。第　１　図Ｌ・・九名花気〒４スフ　　　　５−４１体し１２−・
・富乙喀ネ１隨　　　　　　　９・・　イｔＬ漆呂ｉ袖
正つ泥１３−　デースフ某ＫＬ　　　　　　ｒＭ−１卆
貧尤チイヤｉ人年Ｔｉ七　ｄｌ　　用勝刀第２図￥７３０ツ第５図（ｂ）３４６　図Ｚ第７図第　９０　　　　　　　　　第１Ｏい％７１閃第１２図ｆ第１４図叉％１３図第７５図

Claims

【特許請求の範囲】

１、直線偏光光源と、光学的情報記録媒体と、該直線偏
光光源から発射された光束を、該光学的情報記録媒体に
照射する対物レンズと、該光学的情報記録媒体で透過ま
たは反射された光束を、光検出系に分離するビームスプ
リッタと、該ビームスプリッタで分離された光束が入射
する光検出器と、該直線偏光光源から発射された光束の
少なくとも２つ以上の部分光束に、異なる位相差を与え
る位相差補正手段を有する光学的情報再生装置において
該位相差補正手段を、光束の入射角度および入射方向に
よって、発生する位相差が異なる光学的異方性を有する
光学結晶を用いた構成とし、該位相差補正手段を、該対
物レンズと該光学的情報記録媒体間中の収束光中に設け
たことを特徴とする光磁気再生装置。