JPH0278285A - マイクロ波レーザ装置 - Google Patents

マイクロ波レーザ装置

Info

Publication number
JPH0278285A
JPH0278285A JP22840488A JP22840488A JPH0278285A JP H0278285 A JPH0278285 A JP H0278285A JP 22840488 A JP22840488 A JP 22840488A JP 22840488 A JP22840488 A JP 22840488A JP H0278285 A JPH0278285 A JP H0278285A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microwave
laser
gas
laser device
discharge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22840488A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideomi Takahashi
秀臣 高橋
Kiyohisa Terai
清寿 寺井
Akira Ishii
彰 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP22840488A priority Critical patent/JPH0278285A/ja
Publication of JPH0278285A publication Critical patent/JPH0278285A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、マイクロ波放電励起を行うマイクロ波レーザ
装置に関するものである。
(従来の技術) 一般に、レーザ発振を得るためには、レーザ媒質中で空
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、放電の一様性を1qること
か困難であり、また、マイクロ波発(辰部が大型となり
、高価となることが問題となっていた。
また、鉄鋼や自動車等の加工用レーザで要求されるのは
、第6図に示した様な連続または1KH7程度までの矩
形波パルスで、パルス幅やパルス間隔が可変となるもの
である。
(発明が解決しようとする課題) しかL、通常のマイクロ波発振器の心臓部はマグネトロ
ンであるが、マグネトロンを上述した様な要求を満足さ
せる様に動作させることは、これを駆動する電源への要
求か過大となり、実用性の面で問題があった。従って、
現在のところ、−肌産業用としてのマイクロ波レーザ装
置の実用化は実現していない。
そこで、従来のマイクロ波放電技術では不可能であった
放電の一様性及び直流的なレーザ光を得る技術の開発が
切望されていた。
本発明は以上の課題を解決するために提案されたもので
、その目的は、一般産業用に利用できる、高性能、コン
パクト、低部なマイクロ波レーザ装置を提供することに
ある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 請求項1の発明は、真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガ
ス圧で封入して励起部とL、これに外部に配設したマイ
クロ波電源よりマイクロ波を供給して前記レーザ媒質ガ
スを励起するマイクロ波レーザ装置において、少なくと
も2台以上のマイクロ波電源を用い、各マイクロ波電源
の発振位相を順次ずらしたことを特徴とするものでおる
また、請求項2の発明は、真空容器内にレーザ媒質ガス
を低ガス圧で封入L、このガスをレーザ発(股部に循環
させ、外部に配設したマイクロ波電源よりマイクロ波を
供給して前記レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レー
ザ装置において、マイクロ波放電励起部と前記レーザ発
]駅部とを別置きとL、マイクロ波放電励起部をレーザ
発(股部の上流側に配設L、レーザガスの循環速度■を
、レーザ発振部の励起ガスの存在する艮ざをL、マイク
ロ波電力の周波数をfとした場合に、v=2L・fx1
/n(n;整数)を満足するように設定したことを特徴
とするものである。
(作用) 請求項1の発明によるマイクロ波レーザ装置によれば、
放電管内の複数本の導波管でマイクロ波の位相をずらし
ているので、先具(股部の間では位相のずれたマイクロ
波エネルギーが実質的に積分され、レーザ上位レベルの
ガス分子密度は略一定となる。
また、請求項2の発明によるマイクロ波レーザ装置によ
れば、レーザガスを循環させることにより、光共振器内
におCプるレーザ上位レベル密度を略一定にすることか
できる。
(実施例〉 以下、本発明の一実施例を第1図乃至第5図に基づいて
具体的に説明する。
■第1実施例 本実施例においては、第1図に示した様に、石英製レー
ザ放電管1には、内部にレーザガスが数十Horrの圧
力で封入されている。また、前記放電管1は複数本のマ
イクロ波導波管反応管2に挿入され、入射マイクロ波3
によりその内部にマイクロ波グロー放電4が形成される
ように構成されている。また、前記マイクロ波3は、マ
イクロ波導波管反応管2の一端に設けられたマイクロ波
発振器5により放射され、これらの発振操作は各マイク
ロ波発]股部5に接続された移相器6によって、商用周
波交流電圧を順次、θ(−π/(n+1)、n:マイク
ロ波発振器の台数)だけずらして行なわれている。ざら
に、マイクロ波導波管反応管2の他端側には終端部7が
配設されており、これは通常反射板で市って、放電管1
を通過したマイクロ波3を放電管1に戻して有効にグロ
ー放電4に利用できるように構成されている。また、前
記放電管1の両端には、ブリュースタ窓8a。
8bが設けられ、その外側には全反射ミラー9a及び出
力ミラー9bが設けられ、一対の先具(股部が構成され
ている。
この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、放電管1内に発生するマイクロ波放電4は
、順次、位相がθだけずれたものとなり、一対の5i9
a、9bで構成された光共振器内のレーザ媒質のレーザ
上位レベル密度は、全体として一定となるので、得られ
るレーザ出力も均一なものとなる。また、通常の交流電
源により励起されたマイクロ波を、鉄鋼や自動車等の一
般産業用として最適なレーザ光に変換することができる
。ざらに、マイクロ波発振器は特殊なものでおる必要は
なく、市販の電子レンジ用のもので充分でおるため、小
型で低順なマイクロ波レーザ装置を得ることができる。
■第2実施例 本実施例においては、第2図に示した様に、レーザ発振
管11には放電励起部12が接続され、この放電励起部
12は放電管12aと導波管反応部12bとから構成さ
れている。また、内部に封入されたレーザガスは熱交換
器13で冷却され、送風機14により、第2図に示した
矢印の方向に循環駆動されている。また、前記導波管反
応部12bには、導波管17を介してマイクロ波発振器
16よりマイクロ波エネルギーが供給されている。
このとき、レーザガスの循環速度Vは、レーザ発]辰管
11の励起ガスの存在する長さをL、マイクロ波電力の
周波数をfとした場合に、v=2L・fx1/n (n
 ;整数)を満足する様に設定されている。また、放電
励起部12とレーザ発振管11との距!+ −も充分小
ざく設定されている。
この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、放電励起部12において放電励起されたレ
ーザガスは、放電部よりレーザガスの流れによって輸送
されてレーザ発振管11内に入る。そして、レーザ上位
レベル密度は、第3図に示した様に、例えば正弦波状に
分布L、流れに乗ってレーザ発振管11内を移動する。
従って、レーザ発振管11内に半波長の整数倍が入るよ
うにすると、ここでのレーザ上位レベル分子の総倦は常
に一定となるので、一定のレーザ出力が得られる。
また、本実施例においては、放電励起部12とレーザ発
1辰菅11とが別置きとなっているので、レーザガスが
放電励起部12からレーザ発振管11に輸送される過程
で攪拌混合される。従って、放電励起部12において放
電励起が均一でなくても、励起されたレーザガスがシー
11発振管11内に入った段階で、半径方向に均一なも
のとなる。
この様に、本実施例によれば、レーザ発振管内部のレー
ザ上位レベル分子の総置を常に一定にすることができる
ので、シングルモードの理想的な、直流状のレーザ出力
を得ることができる。また、この場合も、通常の交流電
源により励起されたマイクロ波を、鉄鋼や自動車等の一
般産業用として最適なレーザ光に変換することができる
■第3実施例 本実施例においては、第4図に示した様に、レーザ放電
管1の一端には出力平面鏡21が配設され、他端側には
全反射凹面鏡22及び凸面鏡23が配設されて、先具(
股部が構成されている。また、全反射凹面鏡22と凸面
鏡23の間には、機械的チョッパ24が配設され、駆動
モータ25により商用周波交流電圧と同期して回転駆動
するように構成されている。なお、前記機械的チョッパ
24は、第5図に示した様に、光を′JJg蔽する円盤
26に切欠き27を形成したもので必る。
この様な構成を有する本実施例のマイクロ波し−リ”装
置においては、マイクロ波3が放電管1内に入射すると
グロー放電4が形成され、レーザガスが励起される。こ
の時発生する光28は凸面鏡23によって集束され1、
第4図中、点Pで示した付近に焦点を結んだ後、企及銅
鏡22で反射されて元の経路を逆に辿り、出力鏡である
出力平面鏡21で一部が透過してレーザ出力29となる
。また、残りは反射されて元に戻り、光エネルギーが蓄
積されてレーザ発振に至る。このレーザ発振の有無を制
御するために、全反射凹面鏡2・2と凸面鏡23の間に
、機械的チョッパ24を配設L、切欠き27が点P付近
に来た時点でレーザ発振する様に構成されている。従っ
て、駆動モータ25の回転を制御することにより、点P
部分における光・ 路間閉位相を制御することができ、
負荷の要求に応じた任意の出力レーザ光波形を得ること
ができる。
なお、本実施例は、第2図に示した様な、レーザ媒質ガ
スを循環させるタイプのマイクロ波レーザ装置に適用す
ることもできる。
この様に、本実施例によれば、簡単な機械的チョッパを
用いることにより、直流状動作からパルス動作まで、任
意の波形の出力レーザ光を1qることがてきるので、一
般産業用としての幅広い利用が可能となる。
[発明の効果] 以上述べた様に、本発明によれば、少なくとも2台以上
のマイクロ波電源を用い、各マイクロ波電源の発振位相
を順次ずらすか、あるいは、マイクロ波放電励起部とレ
ーザ発1辰部とを別置きとL、レーザガスを循環ざぜる
ように構成するという簡単な手段によって、一般産業用
に利用できる、高性能、コンバク(へ、低順なマイクロ
波レーザ装置を提供することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のマイクロ波レーザ装置の第1実施例を
示す構成図、第2図は本発明の第2実施例を示す構成図
、第3図は第2実施例のレーザ光(股部内におけるレー
ザ上位レベルの密度分布を示す図、第4図は本発明の第
3実施例を示す構成図、第5図は第3実施例に用いられ
る機械的チョッパの円盤部の構造を示す正面図、第6図
は一般産業用として要求されるレーザ光の波形例でおる
。 1・・・レーザ放電管、2・・・マイクロ波導波管反応
管、3・・・マイクロ波、4・・・マイクロ波放電、5
・・・マイクロ波発振器、6・・・移相器、Ba、Bb
・・・ブリュースタ窓、9a・・・全反射ミラー、9b
・・・出力ミラー、10・・・レーザ光、11・・・レ
ーザ光(肢管、12・・・放電励起部、13・・・熱交
換器、14・・・送風機、16・・・マイクロ波光(股
部、17・・・導波管、21・・・出力平面鏡、22・
・・全反射凹面鏡、23・・・凸面鏡、24・・・機械
的チョッパ、25・・・駆動モータ、26・・・円盤、
27・・・切欠き。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し
    て励起部とし、これに外部に配設したマイクロ波電源よ
    りマイクロ波を供給して前記レーザ媒質ガスを励起する
    マイクロ波レーザ装置において、少なくとも2台以上の
    マイクロ波電源を用い、各マイクロ波電源の発振位相を
    順次ずらしたことを特徴とするマイクロ波レーザ装置。
  2. (2)真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し
    、このガスをレーザ発振部に循環させ、外部に配設した
    マイクロ波電源よりマイクロ波を供給して前記レーザ媒
    質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置において、マイ
    クロ波放電励起部と前記レーザ発振部とを別置きとし、
    マイクロ波放電励起部をレーザ発振部の上流側に配設し
    、レーザガスの循環速度Vを、レーザ発振部の励起ガス
    の存在する長さをL、マイクロ波電力の周波数をfとし
    た場合に、V=2L・fx1/n(n;整数)を満足す
    るように設定したことを特徴とするマイクロ波レーザ装
    置。
JP22840488A 1988-09-14 1988-09-14 マイクロ波レーザ装置 Pending JPH0278285A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22840488A JPH0278285A (ja) 1988-09-14 1988-09-14 マイクロ波レーザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22840488A JPH0278285A (ja) 1988-09-14 1988-09-14 マイクロ波レーザ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0278285A true JPH0278285A (ja) 1990-03-19

Family

ID=16875936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22840488A Pending JPH0278285A (ja) 1988-09-14 1988-09-14 マイクロ波レーザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0278285A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0674369A1 (en) * 1994-03-23 1995-09-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave powered gas laser apparatus
EP0933843A1 (en) * 1998-01-30 1999-08-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave excited gas laser oscillator

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0674369A1 (en) * 1994-03-23 1995-09-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave powered gas laser apparatus
US5606571A (en) * 1994-03-23 1997-02-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave powered gas laser apparatus
EP0933843A1 (en) * 1998-01-30 1999-08-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave excited gas laser oscillator
US6259716B1 (en) 1998-01-30 2001-07-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave excited gas laser oscillator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bridges et al. CO2 waveguide lasers
US4704718A (en) Apparatus and method for generating soft X-ray lasing action in a confined plasma column through the use of a picosecond laser
US4567597A (en) High power laser system
JP3427573B2 (ja) マイクロ波励起ガスレーザ発振装置
US4048516A (en) Laser apparatus for producing stimulated Raman scattering
US4004249A (en) Optical waveguide laser pumped by guided electromagnetic wave
US5541944A (en) Apparatus and method for compensating for electron beam emittance in synchronizing light sources
JPH0278285A (ja) マイクロ波レーザ装置
US4140978A (en) Method and apparatus for producing laser radiation following two-photon excitation of a gaseous medium
Feitisch et al. Continuous anti-Stokes-Raman laser oscillation in an argon-laser plasma
JP2640345B2 (ja) ガスレーザ発振装置
JP2928838B2 (ja) 2波長発振qスイッチco2 レーザ装置
RU2243620C1 (ru) Лазер, слэб-лазер, газовый лазер (варианты) и газовый слэб-лазер
JPH07273389A (ja) マイクロ波励起ガスレーザ発振装置
JPS63228688A (ja) ガスレ−ザ発振方法および装置
JPH02129976A (ja) マイクロ波レーザ装置
JPS61222287A (ja) マイクロ波放電励起レ−ザ発振器
JPS61220486A (ja) レ−ザ発振装置
JPH0380584A (ja) 炭酸ガスレーザの発振装置
WO1991001054A1 (fr) Laser excite par les radiations de synchrotron
US20080130700A1 (en) Apparatus for generating laser radiation
JPH10190102A (ja) 気体レーザーの放電励起方法及び気体レーザー装置
JPS61220487A (ja) レ−ザ発振装置
JPH07105537B2 (ja) プラズマ装置
JPH04307980A (ja) 気体レーザ装置