JPH027954B2 - - Google Patents
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- JPH027954B2 JPH027954B2 JP54061697A JP6169779A JPH027954B2 JP H027954 B2 JPH027954 B2 JP H027954B2 JP 54061697 A JP54061697 A JP 54061697A JP 6169779 A JP6169779 A JP 6169779A JP H027954 B2 JPH027954 B2 JP H027954B2
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Description
この発明は新規なセフアロスポリン誘導体すな
わち一般式(1) （式中Ｒはアリール基、アラルキル基あるいは
アルキル基を意味しＡはメチル基、アセトオキシ
メチル基、又は１―メチル―テトラゾリルチオメ
チル基を意味する。） で示されるセフアロスポリン類及びその塩に関す
るものである。 この発明の目的物を示す一般式(1)の置換基のう
ち、Ｒで表わされる置換基とはメチル、エチル、
プロピル等のアルキル基、置換あるいは無置換の
ベンジル基等のアラルキル基、置換または無置換
のフエニル基、ナフチル基等のアリール基を示
し、それらの置換基としてはメチル、エチル等の
低級アルキル基、クロル等のハロゲン原子、ニト
ロ基があげられる。 一般式(1)のカルボン酸の塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の
無機塩基との塩類、トリエチルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩等
の有機アミン塩もしくはキノリン塩等の有機塩基
との塩類、が挙げられる。 一般式(1)で表わされる化合物は一般式(2) で示される化合物またはそのアミノ基における誘
導体に一般式(3) RSO3CH2COOH (3) （式中Ｒは前述に同じ） で示されるスルホニルオキシ酢酸類またはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体を作用させる事
により製造することができる。 一般式(2)で示される化合物のアミノ基における
誘導体としては、ビストリメチルシリルアセトア
ミドのようなシリル化合物との反応生成物、塩
酸、酢酸、トルエンスルホン酸等の無機あるいは
有機の酸との塩等が挙げられる。 一般式(3)で示されるスルホニルオキシ酢酸類の
カルボキシ基における反応性誘導体としては例え
ば酸ハライド、酸無水物、酸アジド、活性エステ
ル等が挙げられ、使用するスルホニルオキシ酢酸
類の種類に応じて適宜選択されるが、一般的には
酸ハライドが最も利用される。 この反応は通常溶媒中で行われる。溶媒として
は水、アセトン、ジオキサン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルム、ジクロルエタン、ピ
リジンおよびこの発明の反応に悪影響を与えない
一般有機溶媒が挙げられ、親水性のものは水と混
合して用いることもできる。 この反応において、スルホニルオキシ酢酸類を
遊離酸もしくはその塩の状態で使用する際は例え
ば３塩化リン、ジシクロヘキシルカルボジイミド
等の縮合剤の存在下に行うのが有利である。また
この反応は炭酸水素アルカリ金属塩、トリアルキ
ルアミン、ピリジン、ジシクロヘキシルアミン等
の塩基の存在下に行う事もできる。反応温度は特
に限定されないが通常冷却下ないしは室温で行う
事が好ましい。 さらにまた一般式(1)の目的物はカルボン酸遊離
の状態で種々の有機溶媒に溶解しやすく反応系か
らの分離はジシクロヘキシルアミン塩等の難溶の
塩として単離する事が好ましい。 こうして得られる一般式(1)の化合物及びその非
毒性塩は、それ自身抗菌力を持つているのみなら
ず種々のセフアロスポリン類へ誘導する際の中間
体としても重要なものである。例えば次式のよう
に種々のメルカプト化合物と反応する。 〔式中Ａ及びＲは前述に同じ、Ｚは有機残基を
意味する〕 すなわちこの化合物を中間体として例えば特公
昭44−26107、特開昭52−83780、特公昭51−
16433、特公昭46−25750、特公昭46−14456、特
公昭42−7551、特公昭47−435、USP―3422100、
特開昭53−112889、特公昭50―35078、特開昭50
−105684、特開昭53−46994、特開昭53−50191、
特開昭53−2493、特開昭53−87387、特開昭53−
50192号公報等に記載されている種々のセフアロ
スポリン誘導体を合成する時及び新規なセフアロ
スポリン誘導体合成の際に応用できる。しかも前
記の如く一般式(1)の化合物は遊離のカルボン酸の
状態で多くの有機溶媒に溶解しやすく式(4)で得ら
れる目的物と物性が大きく異る為目的物の精製が
容易で多くの場合精製せずとも高純度のものが得
られるという大きなメリツトがあり式(4)の合成法
は非常に有用性がある。 一般式(3)のRSO3CH2COOHの合成は普通
RSO2Clとグリコール酸との反応により合成され
る。この化合物の合成に関する文献としてはJ.A.
C.S.、84 973（1962）及びＪ Biol.Chem、248
14 4896（1973）があるが共に２〜４％と非常に
低い収率が記載されている。 しかし、本発明者らはグリコール酸のアルカリ
水溶液とRSO2Clとを反応させて後酸析させる方
法で40〜50％の収率で得られる事を見いだした。 一般式(1)の化合物を種々のセフアロスポリン誘
導体を合成する際の中間体として使用する場合に
はＰ―トルエンスルホニルクロリド
わち一般式(1) （式中Ｒはアリール基、アラルキル基あるいは
アルキル基を意味しＡはメチル基、アセトオキシ
メチル基、又は１―メチル―テトラゾリルチオメ
チル基を意味する。） で示されるセフアロスポリン類及びその塩に関す
るものである。 この発明の目的物を示す一般式(1)の置換基のう
ち、Ｒで表わされる置換基とはメチル、エチル、
プロピル等のアルキル基、置換あるいは無置換の
ベンジル基等のアラルキル基、置換または無置換
のフエニル基、ナフチル基等のアリール基を示
し、それらの置換基としてはメチル、エチル等の
低級アルキル基、クロル等のハロゲン原子、ニト
ロ基があげられる。 一般式(1)のカルボン酸の塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の
無機塩基との塩類、トリエチルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩等
の有機アミン塩もしくはキノリン塩等の有機塩基
との塩類、が挙げられる。 一般式(1)で表わされる化合物は一般式(2) で示される化合物またはそのアミノ基における誘
導体に一般式(3) RSO3CH2COOH (3) （式中Ｒは前述に同じ） で示されるスルホニルオキシ酢酸類またはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体を作用させる事
により製造することができる。 一般式(2)で示される化合物のアミノ基における
誘導体としては、ビストリメチルシリルアセトア
ミドのようなシリル化合物との反応生成物、塩
酸、酢酸、トルエンスルホン酸等の無機あるいは
有機の酸との塩等が挙げられる。 一般式(3)で示されるスルホニルオキシ酢酸類の
カルボキシ基における反応性誘導体としては例え
ば酸ハライド、酸無水物、酸アジド、活性エステ
ル等が挙げられ、使用するスルホニルオキシ酢酸
類の種類に応じて適宜選択されるが、一般的には
酸ハライドが最も利用される。 この反応は通常溶媒中で行われる。溶媒として
は水、アセトン、ジオキサン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルム、ジクロルエタン、ピ
リジンおよびこの発明の反応に悪影響を与えない
一般有機溶媒が挙げられ、親水性のものは水と混
合して用いることもできる。 この反応において、スルホニルオキシ酢酸類を
遊離酸もしくはその塩の状態で使用する際は例え
ば３塩化リン、ジシクロヘキシルカルボジイミド
等の縮合剤の存在下に行うのが有利である。また
この反応は炭酸水素アルカリ金属塩、トリアルキ
ルアミン、ピリジン、ジシクロヘキシルアミン等
の塩基の存在下に行う事もできる。反応温度は特
に限定されないが通常冷却下ないしは室温で行う
事が好ましい。 さらにまた一般式(1)の目的物はカルボン酸遊離
の状態で種々の有機溶媒に溶解しやすく反応系か
らの分離はジシクロヘキシルアミン塩等の難溶の
塩として単離する事が好ましい。 こうして得られる一般式(1)の化合物及びその非
毒性塩は、それ自身抗菌力を持つているのみなら
ず種々のセフアロスポリン類へ誘導する際の中間
体としても重要なものである。例えば次式のよう
に種々のメルカプト化合物と反応する。 〔式中Ａ及びＲは前述に同じ、Ｚは有機残基を
意味する〕 すなわちこの化合物を中間体として例えば特公
昭44−26107、特開昭52−83780、特公昭51−
16433、特公昭46−25750、特公昭46−14456、特
公昭42−7551、特公昭47−435、USP―3422100、
特開昭53−112889、特公昭50―35078、特開昭50
−105684、特開昭53−46994、特開昭53−50191、
特開昭53−2493、特開昭53−87387、特開昭53−
50192号公報等に記載されている種々のセフアロ
スポリン誘導体を合成する時及び新規なセフアロ
スポリン誘導体合成の際に応用できる。しかも前
記の如く一般式(1)の化合物は遊離のカルボン酸の
状態で多くの有機溶媒に溶解しやすく式(4)で得ら
れる目的物と物性が大きく異る為目的物の精製が
容易で多くの場合精製せずとも高純度のものが得
られるという大きなメリツトがあり式(4)の合成法
は非常に有用性がある。 一般式(3)のRSO3CH2COOHの合成は普通
RSO2Clとグリコール酸との反応により合成され
る。この化合物の合成に関する文献としてはJ.A.
C.S.、84 973（1962）及びＪ Biol.Chem、248
14 4896（1973）があるが共に２〜４％と非常に
低い収率が記載されている。 しかし、本発明者らはグリコール酸のアルカリ
水溶液とRSO2Clとを反応させて後酸析させる方
法で40〜50％の収率で得られる事を見いだした。 一般式(1)の化合物を種々のセフアロスポリン誘
導体を合成する際の中間体として使用する場合に
はＰ―トルエンスルホニルクロリド
【式】を使用してＰ―トルエ
ンスルホニルオキシ酢酸を製造し使用する方が良
い。Ｐ―トルエンスルホニルクロリドは大量、安
価に市販されているものであり経済的に有利であ
るからである。またグリコール酸はホルマリンと
一酸化炭素及び水から大量安価に製造されている
からＰ―トルエンスルホニルオキシ酢酸は安価に
製造することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 実施例 １ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕セフアロスポラン酸およびその
塩の合成 Ｐ―トルエンスルホニルオキシ酢酸2.3ｇ
（0.01モル）を塩化メチレン4.6ｇ及びジメチルホ
ルムアミド0.02ｇ中に懸濁させ、塩化チオニル
1.19ｇ（0.01モル）を添加し撹拌下に加熱還流さ
せる（３時間〜５時間） ほぼ均一に溶解した時点で冷却しＰ―トルエン
スルホニルオキシ酢酸クロリドの塩化メチレン溶
液を作る。 別の反応容器に７―アミノセフアロスポラン酸
（市販品含量90％）の2.72ｇ（見かけ0.01モル）
を仕込みジメチルホルムアミド10ｇ中に懸濁させ
る。トリエチルアミン1.515ｇ（0.015モル）を添
加し撹拌溶解させる。この溶液を氷―食塩バスで
−10℃〜０℃に冷却し激しく撹拌しながら上記の
Ｐ―トルエンスルホニルオキシ酢酸クロリドの塩
化メチレン溶液を30〜60分で滴下し滴下終了後さ
らに60分撹拌する。生じたトリエチルアミン―塩
酸塩を過除去しジメチルホルムアミド２ｇで
上物を洗し液を合す。 液にアセトン50ｇを添加し撹拌下にジシクロ
ヘキシルアミン1.81ｇ（0.01モル）を滴下すると
ただちに結晶が析出する。さらに１〜２時間撹拌
した後過し上物をアセトンで洗後減圧乾燥
した。目的物のジシクロヘキシルアミン塩を4.8
ｇ得た。（収率80％対７―アミノセフアロスポラ
ン酸純分） 融点173〜175℃（dec） NMR（CF3COOH）δ １〜2.5（20H）、2.3（3H）、2.5（3H）、3.4（2H）
、
3.7（2H）、4.8（2H）、5.2〜5.5（3H）、5.9（1H）、
6.4（1H）、7.7（4H）、8.2（1H） 上記のジシクロヘキシルアミン塩をジクロルメ
タンに溶解し２―エチルヘキサン酸ソーダのメタ
ノール溶液を添加撹拌し生じた結晶を過乾燥し
ナトリウム塩とした。 この化合物はスタフイロコツカスオウレウス、
イーコリ、クレブシエラに強い抗菌力を示した。 上記のナトリウム塩を水に溶解し０〜５℃に冷
却した後撹拌下に塩酸でPH２とすると白色結晶を
生じた。冷却しながら過しP2O5上で減圧乾燥
した。 ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕セフアロスポラン酸を得た。 実施例 ２ 実施例１と同様の方法で７―〔２―（α―ナフ
タレンスルホニルオキシ）アセトアミド〕セフア
ロスポラン酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩
170〜175℃（dec））、７―〔２―（Ｐ―クロルベ
ンゼンスルホニルオキシ）アセトアミド〕セフア
ロスポラン酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩
170〜175℃（dec））、７―〔２―（ベンゼンスル
ホニルオキシ）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩168〜173℃
（dec））、７―〔２―（Ｐ―ニトロベンゼンスル
ホニルオキシ）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩171〜175℃
（dec））及び７―〔２―（メタンスルホニルオキ
シ）アセトアミド〕セフアロスポラン酸（mp：
ジシクロヘキシルアミン塩167〜174℃（dec））
およびそのジシクロヘキシルアミン塩、ナトリウ
ム塩を合成した。 実施例 ３ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―メチル―３―セフエム―
４―カルボン酸およびその塩の合成 原料の７―アミノセフアロスポラン酸のかわり
に７―アミノ―３―メチル―３―セフエム―４―
カルボン酸を使用する以外はすべて実施例１と同
様の方法を用いて合成した。 実施例 ４ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テ
トラゾール―５―イルチオメチル）―３―セフ
エム―４―カルボン酸の合成 反応容器に水100ｇとアセトン30ｇを仕込み７
―アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イルチオメチル）３―セフエム―４―カ
ルボン酸の13.12ｇを添加懸濁させる。NaHCO3
の10.08ｇをゆつくり添加し溶解させる。氷―食
塩バスで−３℃に冷却し激しく撹拌しながらトシ
ルオキシ酢酸クロライドの11.4ｇを30分で滴下し
た。同温下に２時間撹拌を続けた後6N―塩酸で
PH４に調節し生じた結晶を過除去した後液を
PH2.5に調節する。油状物が分離する塩化メチレ
ン50mlを加え油状物を溶解後塩化メチレン層を分
液し水100mlで洗浄分液後減圧で塩化メチレンを
留去するとカルメラ状の目的物固体13.0ｇを得
る。 NMR（d6−DMSO）δ： 2.4（3H）、3.7（2H）、3.9（3H）、4.3（2H）、4.6
（2H）、5.1（1H）、5.6（1H）、7.4〜7.9（4H）、9.2
（1H） この遊離カルボン酸をアセトンに溶解し理論量
のジシクロヘキシルアミンを添加すると定量的に
ジシクロヘキシルアミン塩となり白色結晶が析出
する。mp170〜175℃（dec） 上記のジシクロヘキシルアミン塩を、実施例１
の方法に従いナトリウム塩とした。このナトリウ
ム塩はスタフイロコツカス、イーコーリ、クレブ
シエラに強い抗菌力を示した。 実施例 ５ 実施例１あるいは実施例４の方法に従い７―
〔２―（α―ナフタレンスルホニルオキシ）アセ
トアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イルチオメチル）―３―セフエム―４
―カルボン酸、７―（２―ベンゼンスルホニルオ
キシ―アセトアミド）―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イルチオメチル）―３―セ
フエム―４―カルボン酸、７―（２―フエニルメ
タンスルホニルオキシアセトアミド）―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イルチオメ
チル）―３―セフエム―４―カルボン酸、７―
〔２―（Ｐ―ニトロベンゼンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イルチオメチル）―３―セフエム
―４―カルボン酸およびそのジシクロヘキシルア
ミン塩、ナトリウム塩を合成した。これらの内ナ
トリウム塩はスタフイロコツカス、イーコーリ、
クレブシエラに抗菌力を示しその抗菌力は実施例
４の化合物とほぼ同程度であつた。 参考例 実施例１〜実施例５までに得られた化合物のジ
シクロヘキシルアミン塩を用いて４―メルカプト
ピリジンと反応させる実験を行つた。 実施例１〜実施例５で得られた化合物のジシク
ロヘキシルアミン塩の0.01モルを５重量倍の塩化
メチレン―ジメチルスルホキシド（98／2wt比）
の混合溶媒に懸濁させ４―メルカプトピリジンの
0.0101モルを添加し、室温で20時間撹拌後過し
塩化メチレンで洗浄後減圧乾燥し下記の収率で目
的物を得た。
い。Ｐ―トルエンスルホニルクロリドは大量、安
価に市販されているものであり経済的に有利であ
るからである。またグリコール酸はホルマリンと
一酸化炭素及び水から大量安価に製造されている
からＰ―トルエンスルホニルオキシ酢酸は安価に
製造することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 実施例 １ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕セフアロスポラン酸およびその
塩の合成 Ｐ―トルエンスルホニルオキシ酢酸2.3ｇ
（0.01モル）を塩化メチレン4.6ｇ及びジメチルホ
ルムアミド0.02ｇ中に懸濁させ、塩化チオニル
1.19ｇ（0.01モル）を添加し撹拌下に加熱還流さ
せる（３時間〜５時間） ほぼ均一に溶解した時点で冷却しＰ―トルエン
スルホニルオキシ酢酸クロリドの塩化メチレン溶
液を作る。 別の反応容器に７―アミノセフアロスポラン酸
（市販品含量90％）の2.72ｇ（見かけ0.01モル）
を仕込みジメチルホルムアミド10ｇ中に懸濁させ
る。トリエチルアミン1.515ｇ（0.015モル）を添
加し撹拌溶解させる。この溶液を氷―食塩バスで
−10℃〜０℃に冷却し激しく撹拌しながら上記の
Ｐ―トルエンスルホニルオキシ酢酸クロリドの塩
化メチレン溶液を30〜60分で滴下し滴下終了後さ
らに60分撹拌する。生じたトリエチルアミン―塩
酸塩を過除去しジメチルホルムアミド２ｇで
上物を洗し液を合す。 液にアセトン50ｇを添加し撹拌下にジシクロ
ヘキシルアミン1.81ｇ（0.01モル）を滴下すると
ただちに結晶が析出する。さらに１〜２時間撹拌
した後過し上物をアセトンで洗後減圧乾燥
した。目的物のジシクロヘキシルアミン塩を4.8
ｇ得た。（収率80％対７―アミノセフアロスポラ
ン酸純分） 融点173〜175℃（dec） NMR（CF3COOH）δ １〜2.5（20H）、2.3（3H）、2.5（3H）、3.4（2H）
、
3.7（2H）、4.8（2H）、5.2〜5.5（3H）、5.9（1H）、
6.4（1H）、7.7（4H）、8.2（1H） 上記のジシクロヘキシルアミン塩をジクロルメ
タンに溶解し２―エチルヘキサン酸ソーダのメタ
ノール溶液を添加撹拌し生じた結晶を過乾燥し
ナトリウム塩とした。 この化合物はスタフイロコツカスオウレウス、
イーコリ、クレブシエラに強い抗菌力を示した。 上記のナトリウム塩を水に溶解し０〜５℃に冷
却した後撹拌下に塩酸でPH２とすると白色結晶を
生じた。冷却しながら過しP2O5上で減圧乾燥
した。 ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕セフアロスポラン酸を得た。 実施例 ２ 実施例１と同様の方法で７―〔２―（α―ナフ
タレンスルホニルオキシ）アセトアミド〕セフア
ロスポラン酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩
170〜175℃（dec））、７―〔２―（Ｐ―クロルベ
ンゼンスルホニルオキシ）アセトアミド〕セフア
ロスポラン酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩
170〜175℃（dec））、７―〔２―（ベンゼンスル
ホニルオキシ）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩168〜173℃
（dec））、７―〔２―（Ｐ―ニトロベンゼンスル
ホニルオキシ）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸（mp：ジシクロヘキシルアミン塩171〜175℃
（dec））及び７―〔２―（メタンスルホニルオキ
シ）アセトアミド〕セフアロスポラン酸（mp：
ジシクロヘキシルアミン塩167〜174℃（dec））
およびそのジシクロヘキシルアミン塩、ナトリウ
ム塩を合成した。 実施例 ３ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―メチル―３―セフエム―
４―カルボン酸およびその塩の合成 原料の７―アミノセフアロスポラン酸のかわり
に７―アミノ―３―メチル―３―セフエム―４―
カルボン酸を使用する以外はすべて実施例１と同
様の方法を用いて合成した。 実施例 ４ ７―〔２―（Ｐ―トルエンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テ
トラゾール―５―イルチオメチル）―３―セフ
エム―４―カルボン酸の合成 反応容器に水100ｇとアセトン30ｇを仕込み７
―アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イルチオメチル）３―セフエム―４―カ
ルボン酸の13.12ｇを添加懸濁させる。NaHCO3
の10.08ｇをゆつくり添加し溶解させる。氷―食
塩バスで−３℃に冷却し激しく撹拌しながらトシ
ルオキシ酢酸クロライドの11.4ｇを30分で滴下し
た。同温下に２時間撹拌を続けた後6N―塩酸で
PH４に調節し生じた結晶を過除去した後液を
PH2.5に調節する。油状物が分離する塩化メチレ
ン50mlを加え油状物を溶解後塩化メチレン層を分
液し水100mlで洗浄分液後減圧で塩化メチレンを
留去するとカルメラ状の目的物固体13.0ｇを得
る。 NMR（d6−DMSO）δ： 2.4（3H）、3.7（2H）、3.9（3H）、4.3（2H）、4.6
（2H）、5.1（1H）、5.6（1H）、7.4〜7.9（4H）、9.2
（1H） この遊離カルボン酸をアセトンに溶解し理論量
のジシクロヘキシルアミンを添加すると定量的に
ジシクロヘキシルアミン塩となり白色結晶が析出
する。mp170〜175℃（dec） 上記のジシクロヘキシルアミン塩を、実施例１
の方法に従いナトリウム塩とした。このナトリウ
ム塩はスタフイロコツカス、イーコーリ、クレブ
シエラに強い抗菌力を示した。 実施例 ５ 実施例１あるいは実施例４の方法に従い７―
〔２―（α―ナフタレンスルホニルオキシ）アセ
トアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イルチオメチル）―３―セフエム―４
―カルボン酸、７―（２―ベンゼンスルホニルオ
キシ―アセトアミド）―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イルチオメチル）―３―セ
フエム―４―カルボン酸、７―（２―フエニルメ
タンスルホニルオキシアセトアミド）―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イルチオメ
チル）―３―セフエム―４―カルボン酸、７―
〔２―（Ｐ―ニトロベンゼンスルホニルオキシ）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イルチオメチル）―３―セフエム
―４―カルボン酸およびそのジシクロヘキシルア
ミン塩、ナトリウム塩を合成した。これらの内ナ
トリウム塩はスタフイロコツカス、イーコーリ、
クレブシエラに抗菌力を示しその抗菌力は実施例
４の化合物とほぼ同程度であつた。 参考例 実施例１〜実施例５までに得られた化合物のジ
シクロヘキシルアミン塩を用いて４―メルカプト
ピリジンと反応させる実験を行つた。 実施例１〜実施例５で得られた化合物のジシク
ロヘキシルアミン塩の0.01モルを５重量倍の塩化
メチレン―ジメチルスルホキシド（98／2wt比）
の混合溶媒に懸濁させ４―メルカプトピリジンの
0.0101モルを添加し、室温で20時間撹拌後過し
塩化メチレンで洗浄後減圧乾燥し下記の収率で目
的物を得た。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中Ｒはアリール基、アラルキル基あるいは
アルキル基を意味し、Ａはメチル基、アセトオキ
シメチル基又は１―メチル―テトラゾリルチオメ
チル基を意味する。） で示される化合物及びその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6169779A JPS55153791A (en) | 1979-05-18 | 1979-05-18 | Novel beta-lactam compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6169779A JPS55153791A (en) | 1979-05-18 | 1979-05-18 | Novel beta-lactam compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55153791A JPS55153791A (en) | 1980-11-29 |
| JPH027954B2 true JPH027954B2 (ja) | 1990-02-21 |
Family
ID=13178692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6169779A Granted JPS55153791A (en) | 1979-05-18 | 1979-05-18 | Novel beta-lactam compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55153791A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AR205799A1 (es) * | 1973-09-08 | 1976-06-07 | Merck Patent Gmbh | Procedimiento para preparar derivados del acido 7-amino-cefalosporanico por combinacion |
| JPS54100392A (en) * | 1978-01-24 | 1979-08-08 | Sankyo Co Ltd | Production of cephalosporin derivative |
-
1979
- 1979-05-18 JP JP6169779A patent/JPS55153791A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55153791A (en) | 1980-11-29 |
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