JPH0283208A - グラファイトの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、Ｘ線光学素子、Ｘ線モノクロメータ、中性
子線回折ミラー、中性子線フィルタ等として利用される
ブロック状グラファイトの製造方法に関するものである
。

従来の技術 グラファイトは、抜群の耐熱性や耐薬品性、高電導性等
を備えているため、工業材料として重要な位置を占め、
電極や発熱体、構造材として広く使用されている。なか
でも、単結晶グラファイトは、Ｘ線や中性子線に対する
優れた分光、反射特性を有するため、Ｘ線や中性子線の
モノクロメータ、フィルタあるいは分光結晶として広く
用いられている。

このような単結晶グラファイトを得るには、天然に産す
るものを利用するのが簡単であるが、良質の天然グラフ
ァイトは、生産量が非常に限られており、しかも、取り
扱いが困難な粉末状、あるいは非常に小さなブロック状
であるため、使用できる用途が限定されてしまう０ そこで、上記のような天然の単結晶グラファイトと同等
の特性を有する人工グラファイトを製造することが考え
られた。一般的な人工グラファイトの製造方法は、主と
して次の２つの方法に分類することができる。

第１の方法は、Ｆｅ、Ｎｉ／Ｃ系溶融体からの析出、Ｓ
ｉ、ＡＩ等の炭化物の分解、あるいは高温、高圧下での
炭素融液の冷却によってグラファイトを製造する方法で
ある。このような方法によって得られたグラファイトは
、キッシュグラファイトと呼ばれ、天然グラファイトと
同等の物性を示す。

しかし、上記のような方法では、微小な薄片状のグラフ
ァイトしか得られず、製造工程の煩雑さやコスト的に高
くつくこともあって、工業的にはほとんど利用されてい
ない。

第２の方法は、気相中での炭化水素ガスの高温分解沈積
と、その熱間加工による方法であり、圧力を印加しつつ
３４００℃で長時間再焼鈍するという工程によってグラ
ファイトが製造される。このようにして得られたグラフ
ァイトは、高配向バイ。グラフアイ）（）−１０ＰＧ）
と呼ばれ、その特性は天然グラファイトとほぼ同等の優
れたものである。

この方法では、前記キッシュグラファイトとは異なり、
かなり大きなサイズのものも製造できるが、製造工程が
複雑であって歩留りが低く、非常に高価であるという欠
点がある。

これらの２つの製造方法の欠点を解消し、製造が容易で
コスト安価なグラファイトの製造方法として、様々な有
機物あるいは炭素質物を、３０００°Ｃ以上で加熱して
グラファイト化する方法が考えられた。しかし、この方
法では、天然グラファイトやキッシュグラファイトと同
等の優れた特性を有するグラファイトを得ることはでき
なかった。例えば、グラファイトの最も典型的な物性で
あるａｂ面方向の電気伝導度は、天然グラファイトやキ
ッシュグラファイトでは１〜２．５　Ｘ　１０’　Ｓ　
／ｃｍであるのに対し、上記方法のものでは、一般に１
〜２Ｘ　１０３Ｓ　／ｃｍのものしか得られない。この
ことは、上記方法ではグラファイト化が完全には進行し
ないことを示している。

上記方法の場合、通常は、出発原料としてコークスなど
の炭素質物とコールタール等のバインダーが使用される
が、コークスやチャーコールを３０００度程度に加熱す
ることによって生成される炭素の構造は、比較的グラフ
ァイト（黒鉛）構造に近いものから、それとは程遠いも
のまで、様々な種類のものが存在する。このような炭素
の構造のうち、単なる熱処理によって比較的容易に黒鉛
的な構造に変わる炭素を易黒鉛化性炭素と呼び、そうで
ないものを難黒鉛化炭素と呼んでいる。このような構造
上の相違が生じる原因は、黒鉛化の機構と密接に関連し
ていて、炭素前駆体中に存在する構造欠陥が、より高温
での加熱処理によって除去され易いか否かによる。した
がって、炭素前駆体の微細構造が黒鉛化性に対して重要
な役割を果たすことになる。

上記のようなコークス等の出発原料とする方法に対し、
高分子材料を用いて、これを熱処理することによってグ
ラファイトフィルムを製造する方法に関して、いくつか
の研究が行われており、この方法は、高分子材料の分子
構造を生かすことによって、炭素前駆体の微細構造を制
御しようとするものである。

上記方法は、高分子を真空中あるいは不活性気体中で熱
処理し、分解および重縮合反応を経て炭素質物に変え、
この炭素質物をさらにグラファイト化する方法である。

しかし、この方法の場合、任意の高分子を出発原料とし
て用いても、優れた特性のグラファイトフィルムが得ら
れる訳ではなく、むしろほとんどの高分子材料は、この
目的には使用できないことが判っている。例えば、上記
のようなグラファイト化を目的として熱処理が試みら、
れた高分子としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂
、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンオキシド、
ポリ塩化ビニルなどがあるが、これらの高分子は、いず
れも難黒鉛化材料に属しており、高いグラファイト化率
を有するものではなかった。

本発明者らは、上記のような高分子を用いるグラファイ
トの製造方法の問題点を解決するために種々の研究を行
い、数多くの高分子についてグラファイト化を試みた結
果、フィルム状のポリアミド（ＰＡ）、ポリオキサジア
ゾール（ＰＯＤ）、芳香族ポリイミド（ＰＩ）　、３種
類のポリベンゾビスチアゾール（ＰＢＢＴ）、ポリベン
ゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾビスオキサゾー
ル（ＰＢＢＯ）、ポリチアゾール（ｐ’ｒ）等の高分子
を特定の温度で熱処理するときに、従来既知の高分子材
料よりも容易にグラファイト化することを見出した。そ
れらの知見に基づき１本発明者らは特許出願を行ってお
り、これらは、特開昭６１−２７５１１４号公報、特開
昭６１−２７５１１５号公報、特開昭６１−２７５１１
７号公報等に開示されている。

この方法によれば、上記のような高分子を、１８００℃
以上、好ましくは２５００℃以上で加熱することによっ
て、グラファイト化率の高いグラファイトを容易に短時
間で製造することが出来るようになったＯ グラファイト化の程度を表すには、格子定数。

Ｃ軸方向の結晶子の大きさなどＸ線回折のパラメータ、
あるいはそれから算出される黒鉛化率等がよく用いられ
、また、電気伝導度数もしばしば用いられる。格子定数
は、Ｘ線の（００２）回折線の位置から計算され、天然
単結晶グラファイトの格子定数である６、７０８　Ａに
近い程、グラファイト構造が発達していることを示して
いる。Ｃ軸方向の結晶子の大きさは、（００２）回折線
の半値幅から計算され、結晶子の値が大きい程、グラフ
ァイトの平面構造が良く発達していることを示しており
、天然単結晶グラファイトの結晶子の大きさは１０００
八以上である。黒鉛化率は、結晶面間隔（ｄ０２２）か
ら計算される（文献ニル・カルボン第１巻１２９頁、１
９６５年−Ｌｅｓ　Ｃａｒｂｏｎｓ　Ｖｏｌ、１　ｐ１
２９．１９６５参照）。そして、天然単結晶グラファイ
トの黒鉛化率は勿論１００　％である。電気伝導度数は
、グラファイトのａｂ面方向の直で示し、電導度直が大
きい程、グラファイト構造に近いことを示しており、天
然単結晶グラファイトでは１〜２．５　Ｘ　１０’　Ｓ
　／ｃｍである０ さらに、グラファイト構造を評価するためのＸ線回折パ
ラメータの一つに、ａｂ面の重なり方を示すロッキング
特性がある。これは１回折強度曲線と言われ、単色で平
行なＸ線束が入射したときに結晶を回転して得られる回
折強度曲線であって（００１）回折線の出現する角度で
２０を固定し、θを回転することによって測定される。

この直は、吸収の半値幅をもって評価され１回転角度（
０）で表される。この筐が小さい程、ａｂ面がきれいに
重なっていることを示している。

発明が解決しようとする課題 先に述べた、特定の高分子フィルムからグラファイトを
製造する方法は、容易でコスト安価である等、非常に優
れた方法であるが、この方法についても、その後いろい
ろな検討を加えた結果、次のような、いくつかの改良す
べき問題点があることが明らかとなった。

その第１の問題点は、この方法では厚手のグラファイト
すなわちブロック状のグラファイトを製造することがで
きないということである。グラファイト化の反応は一見
、出発原料フィルムの厚さとは無関係のように考えられ
るが、実際には、グラファイト化反応は原料の厚さに強
く依存している。このことは従来全く知られていなかっ
たことがあるが、発明者らは、種々の実験を行った結果
、上記のような問題を見出した。例えば、第１表は、厚
さの具なる４種類のＰＯＤフィルムをグラファイト化し
、そのグラファイトの格子定数、黒鉛化率、ａｂ面方向
の電気伝導度の直を測定した結果を示している。

ば下余白 第　　１ 表 上記のような結果から、ＰＯＤフィルムの厚さによって
、明らかにグラファイト化反応の進行程度が異なってい
ることが判る。例えば、グラファイト化率についてみる
と、厚さの相違によって９９〜８７チまで変化している
。　このことは、同じＰＯＤを材料としても、薄いフィ
ルム状のグラファイトは得られるが、厚いブロック状の
グラファイトを得るのは困難であることを示している。

つぎに、前記先行技術の製造方法の第２の問題点は、高
分子原料を単に加熱するだけでは、グラファイトのａｂ
面軸方向の面がＣ軸方向にいかに奇麗に重なっているか
という、前記ロッキング特性が向上しないということで
ある。

ロッキング特性は、グラファイト結晶をＸ線光学素子な
どに使用する場合に重要な特性であり、ａｂ面の重なり
方を測定するには、先に述べたＸ線回折によるロッキン
グ法が用いられる。グラファイト結晶をＸ線等の光学結
晶として用いる場合のロッキング特性としては、その用
途によっても異なるが、一般的には、１００μｍμ下の
薄いグラファイトフィルムでは０．４°μ下％１＋ｍＴ
＋以上の厚いグラファイトブロックでは３°μ下である
ことが必要とされている。これに対し、前掲の第１表に
示したＩ）　０１）グラファイトの場合、ロッキング特
性は、６．７°（出発フィルム厚５μｍ、以下同様）、
１０．５’（２５ｔｔｍ’）、１２　　（１００μｍ）
、１７（４００μｍ）となっており、何れも要求される
ロッキング特性を満足できない。このことは、ロッキン
グ特性に関しては、高分子フィルムを単に加熱してグラ
ファイト化しただけでは、優れた放射線光学素子は製造
できないことを示している。このようにロッキング特性
が良くない原因は、フィルム厚が厚くなるほど、熱処理
に伴う試料内部からのガス発生のために、ａｂ面が配向
しにくくなるためであると考えられる。

そこで、この発明の課題は、以上に述べたような、高分
子フィルムを熱処理するグラファイトの製造方法の問題
点を解消し、ロッキング特性等のグラファイトとしての
特性に優れているとともに厚手のブロック状グラファイ
トを製造する方法を提供することにある。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するこの発明のうち、請求項１記載の発
明は、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
サジアゾールのなかから選ばれた厚さ１〜４００μｍの
高分子フィルムを４５０〜２０００℃で熱処理して炭素
質フィルムを作製し、得られた炭素質フィルムを複数枚
重ねて、２８００°Ｃμ下では２０に９／ｃｎｔＬｕ下
、２８００°Ｃ以上では２０ｋｇ／ｃｒＡ以上の圧力を
加えながら加熱圧着するようにしている。

請求項２記載の発明は、芳香族ポリイミド、芳香族ポリ
アミド、ポリオキサジアゾールのなかから選ばれた厚さ
１〜４００μｍの高分子フィルムを熱処理して炭素質フ
ィルムを作製し、得られた炭素質フィルムを複数枚重ね
て、５０ｋｇ／ｃｍｌは下の圧力を断続的に加えながら
８００°Ｃ以上で加熱圧着するようにしている。

作　　　　用 請求項１記載の発明によれば、前記特定の高分子フィル
ムを熱処理することによって良好な品質の炭素質フィル
ムが作製でき、この炭素質フィルムを複数枚重ねて加熱
圧着することによって、ロッキング特性等の諸特性に優
れているとともに、単層のフィルムでは得られない分厚
いブロック状のグラファイトを製造できる。

請求項２記載の発明によれば、前記特定の高分子フィル
ムを熱処理することによって良好な品質の炭素質フィル
ムを作製でき、この炭素質フィルムを複数枚重ねて加熱
圧着する際に、圧力を断続的に加えることによって、ロ
ッキング特性等の諸特性に非常に優れているととも罠、
単層のフィルムでは得られない分厚いブロック状のグラ
ファイトを製造することができる。

実施例 まず、この発明では、出発原料となる高分子フィルムと
して、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
サジアゾールの中から選ばれた高分子からなるフィルム
を用いる０具体的な高分子フ、ｆルムの材料組成や配合
は、用途や製造条件によって適宜選択して実施される。

高分子フィルムの厚みは、４００μｍ以下、好ましくは
１〜４００μｍの範囲のものが用いられる。　フィルム
厚が４００μｍよりも厚くなると、炭素化およびグラフ
ァイト化の過程において発生するガスのために、内部構
造の乱れた炭素前駆体（すなわち難黒鉛化炭素）しかで
きず、その後に加熱圧着すなわちホットプレス工程を行
っても良質のグラファイトを得ることができない。フィ
ルム厚が薄い場合には特に大きな制限はないが、１μｍ
よりも薄くなると、同じ厚さのグラファイトブロックを
製造するのに、より多数枚の炭素質フィルムを製造して
おく必要が八るので、経済的に不利である。

炭素質フィルムを製造するための熱処理温度は４５０〜
２０００℃の範囲で実施される。２０００℃以上の温度
領域で熱処理を行うこともできるが、上記温度範囲内で
熱処理したものをホットプレスしたほうが、最終的に製
造されるグラファイトの品質に良い結果を与える。この
工程は、ホットプレスの前の予備的な熱処理工程である
が、この段階では高分子フィルムを重ねないで別々に熱
処理したほうがよく、特に、４００μｍ以下の厚さには
重ねないほうがよい。これは、高分子フィルムを重ねた
状態で熱処理すると、高分子フィルムからのガス発生が
抑えられ、厚いフィルムを使用したのと同じような欠点
が生じるからである。

上記のような予備的な熱処理工程を経て炭素質フィルム
を製造した後、複数枚の炭素質フィルムを重ねて、本格
的な加熱および圧着工程であるホットプレス工程を行い
、炭素質のグラファイト化を進行させて、ブロック状の
グラファイトを製造する。このホットプレス工程では、
圧力印加の方法と温度制御が重要である。すなわち、こ
のホットプレス工程では、熱処理中に炭素質フィルムに
発生するシワを取り除きながら圧着することが必要であ
る。そのような処理条件を研究した結果、２８００′Ｃ
以下の温度領域では２０ｋｇ／ｃｌｉ１以下の圧力であ
ることが必要であり、この温度領域で上記圧力以上に圧
力印加すると、炭素質フィルムが割れてしまう。なお、
圧力を急激に印加せず徐々に圧力を加えるようにすれば
、割れを防ぐ上でより有効である。２８００℃以上の温
度領域では、完全な接着を実現するために２０　ｋｇ　
／　ＣＩＡ以上の圧力が必要であり、それμ下の圧力で
は圧着が充分に行われない。

上記のような製造工程を経ることによって、分厚いブロ
ック状をなすとともにロッキング特性が著しく改良され
たグラファイトを製造することができる。例えば、従来
技術で挙げた前記ＰＯＤフィルム（厚み４，２５，１０
０，４５０μｍ）を１００℃で熱処理して炭素質フィル
ムを製造した後、それぞれの厚みのフィルムを１０枚づ
つ重ねてホットプレス工程を行う。ホントブレス工程は
、昇温過程で、　　２８００℃までは４　ｋｇ　／　ｃ
ｇの圧力を印加し、２８００　’Ｃ，以上になると２０
　ｋｇ　／　ｃｌの圧力を印加し、３０００℃で一定時
間処理を行ってブロック状のグラファイトを製造する０
上記のような処理条件で実際にグラファイトを製造した
ところ、そのロッキング特性は、１．０°（４μｍ）、
１．２°（２５μｍ）、１６５°（１００μｍ）、１．
８°（４５０μｍ）となり、ロツキング特性の著しい向
上が認められた。

つぎに、上記方法とは一部異なる製造方法であって、同
様にロッキング特性等に優れるとともに、分厚いブロッ
ク状のグラファイトを製造できる方法について説明する
。

高分子フィルムの材質や、炭素質フィルムを製造するだ
めの熱処理工程については、前記した実施例の製造工程
と同様に実施できるので、詳細な説明は省略する。この
実施例の製造方法では、ホットプレス工程において、８
００℃以上の温度領域で圧力を断続的に加えることを特
徴とする。前記したように、炭素質フィルムのホットプ
レス工程においては、熱処理によって生じるシワや歪み
をいかにうまく収り除くかということが重要であり、こ
の点で、圧力を継続的に印加することが非常に有効であ
る。

継続的な圧力の加え方としては、熱処理過程の低い温度
領域では、加える圧力の最大直を比較的小さくしておき
、高い温度領域では圧力の最大匝を大きくしていくよう
にすると、より効果が太きい。加える圧力の最大直は、
２０００℃以下では２０ｋｇ／　ｃｆ　ＩＵ下であるこ
とが最も望ましいが、５０ｋｇ／ｃｔ？ｒμ下であれば
有効である。２０００℃以上では、２０　ｋｇ／　ｃｎ
ｔ　Ｉｄ上であることが望ましいが、５０に９／ｃｔ？
＋以上の圧力は必要ではない。

−実施例− ついで、この発明の製造方法によってグラファイトを製
造した、具体的実施例について説明する。

各実施例において、グラファイト化の程度を評価するた
めに、前記した格子定数、黒鉛化率、電気伝導度、ロッ
キング特性を測定しており、これらの物性の測定条件は
下記のとおりである。

（１）　　格′子定数（Ｃｏ） フィリップ社製１）Ｗ−１０５１型Ｘ線デイフラクトメ
ータを用い、ＣｕＫａ線を使用して試料のＸ線回折線を
測定した。Ｃｏの匝は、２θ＝２６〜２７°付近に現れ
る（　００２）回折線から、グラフの式ｎλ＝２ｄｓｉ
ｎθ（ただし２ｄ＝Ｃｏ）を用いて計算した。ここで、
０＝２、λはＸ線の波長である。

（２黒鉛化率（チ） 黒鉛化率は面間隔（ｄ）の喧より次式を用いて計算した
。

ｄ００２＝３．３５４　ｇ＋　３．４４　（１−ｇ　）
ここで１ｇは黒鉛化の程度を示し、ｇ＝１は完全な黒鉛
、ｇ＝ｏは無定形炭素を表す。

（３）電気伝導度（Ｓ／ｃｍ） 試料に銀ペーストと金線を用いて４端子電極を取り付け
、外側電極から一定′成流を流し、内側電極においてそ
の電圧降下を検出することによって測定した。試料の幅
、長さ、厚さを顕微鏡によって測定した結果から、電気
伝導度を計算した。

（４）　　ロッキング特性（ｏ） 理学電機社製ロータフレックスＲＵ　−２００Ｂ型Ｘ線
回折装置を用い、グラフアイｌ−（００２）線のビーク
位置におけるロッキング特性を測定した。得られた吸収
曲線の半呟幅をもってロッキング特性とした。

一実施例Ａｍ １０μｍの厚さのＰＯＤ、ＰＡ、ＰＩの各高分子フィル
ムを黒鉛板に挾んで、窒素雰囲気中で毎分２０℃の昇温
速度で１０００℃まで昇温した後、１０００℃で１時間
保持して熱処理を行い、炭素質フィルムを得た。

それぞれの材料からなる炭素質フィルムを２０枚づつ重
ね、中外炉工業株式会社製、超高温ホットプレスを用い
てホットプレス工程を行い、グラファイトブロックを得
た。ホットプレス工程の処理条件は、毎分１０°Ｃの昇
温速度で昇温し、１０００〜２８００℃の温度領域で圧
力を徐々に加え、最終的に２０ｋｇ／ｃｎｔまで増加さ
せた。２８００℃以上の温度領域では圧力を４０　ｋｇ
／　Ｃ％にし、３０００℃で１時間プレスした。このよ
うにして得られたグラファイトブロックの物性匝を第２
表に示している。

μ下余白 第　　２ 表 高分子フィ　格子定数　黒鉛化率 ルム材料　Ｃ。

（Ａ） （チ） 電　気　ロッキング 伝導度　特　　性 （Ｓ／ｃｍ）　　（’　） ＰＯＤ ０．９ ＰＡ ６．７０８ ０．８ ＰＩ ６．７０８ ０．６５ 上記の結果によれば、得られたグラファイトブロックの
ロッキング特性は、０．９〜０．６５°の範囲だあり、
請求項１記載の発明にかかる製造方法によって、優れた
ロッキング特性を有するブロック状グラファイトが製造
できることが実証できた。

一実施例Ｂ− ２、１０，２５，５０，１００，２００μｍの厚さを有
するＰＩフィルムを、それぞれ１０００℃で熱処理して
炭素質フィルムを製造した。それぞれの炭素質フィルム
を２〜２０枚重ねて、合計厚みが種々異なる状態で、前
記実施例１と同様の処理条件でホットプレス工程を行っ
た。

得られたグラ７アイトブロツクのロッキング特性を第３
表に示している。

μ下余白 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５ 実施例６ 実施例７ 実施例８ 実施例９ 実施例１０ 比較例１ 比較例２ 比較例３ 比較例４ 第　　３ 表 ０．５０ ０．６５ ０．６２ ０．６７ ０．６５ ０．６７ ０．７２ ０．８５ ０．８２ ０．９６ １．５４ １．２９ ２．２１ ２．０１ 以上の結果から、出発原料である高分子フィルムの厚み
が厚くなる程、ロッキング特性が悪くなり、ロッキング
特性を１　μ内に抑えるには、４００μｍμ下の高分子
フィルムを用いる必要があることが判る。なお、高分子
フィルムの積み重ね枚数が多くなる程、ロッキング特性
が悪くなる傾向があるが、その程度はあまり顕著ではな
い。

一実施例Ｃ− ２５μｍの厚さのＰＯＤ、ＰＡ、ＰＩの各高分子フィル
ムを黒鉛板に挾んで、窒素雰囲気中で毎分２０℃の昇温
速度で１０００℃まで昇温した後、１０００℃で１時間
保持して熱処理を行い、炭素質フ鴫ルムを得た。

それぞれの材料からなる炭素質フィルムを２０枚づつ重
ね、中外炉工業株式会社製、超高温ホットプレスを用い
てホットプレス工程を行い、グラ７アイトブロツクを得
た。ホットプレス工程の処理条件は、毎分１０°Ｃの昇
温速度で昇温し、１０００〜２８００℃の温度領域で、
θ〜２０　ｋｌ？　／　０％の圧力を断続的に１２回印
加した。圧力印加の方法は、圧力０の状態から徐々に圧
力を増加して約２分で２０ｋｇＺｃ−の最高圧力にし、
この最高圧力を２分間保持した後、約１分間で圧力０の
状態に戻した。

圧力０の状態で３分間保持した後、上記同様の加圧操作
を繰り返した。つぎに、２８００℃以上の温度領域に昇
温した状態では、最高圧力を５０　ｋｇ／ｃｎｔにして
、前記同様の断続的な圧力印加を行った。

最高温度３０００℃まで昇温した後、３０００℃で１時
間プレスした。このようにして得られたグラファイトブ
ロックの物性匝を第４表に示している。

第　　４ 表 高分子フィ　格子定数　黒鉛化率　電　気　ロッキング
ルム材料　Ｃｏ　　　　　　伝導度　特　　性（Ａ）（
％）　　（Ｓ／ｃｍ）　　　（０）ＯＤ ６．７０８ Ａ ６．７０８ Ｉ ６．７０８ ０．６２ ０．６０ ０．５１ は下余白 以上の結果から、得られたグラファイトフロックのロッ
キング特性は、０．６２〜０．５１’の範囲であり、請
求項２記載の発明にかかる製造方法によって、優れたロ
ッキング特性を有するブロック状のグラファイトが製造
できることが実証できた。また、この実施例Ｃの結果を
前記実施例Ａの結果と比べると、ロッキング特性が高く
なっており、ホットプレス工程で断続的に圧力を加える
ことが、ロッキング特性の向上により有効であることが
実証できた。

発明の効果 以上に説明した、この発明にかかるグラファイトの製造
方法のうち、請求項１記載の発明によれば、特定の高分
子フィルムを熱処理し炭素質フィルムを製造した後、複
数枚の炭素質フィルムを重ねて、ホットプレスすなわち
加熱圧着することによって、ロッキング特性等の緒特性
に優れているとともに、分厚いブロック状をなすグラフ
ァイトを製造することができる。従来方法のように、１
枚の高分子フィルムを熱処理するだけでは、フィルムが
分厚くなるとともにグラファイトの特性が悪くなる問題
があるが、この発明の製造方法であれば、薄い高分子フ
ィルムを予備的に熱処理して良質の炭素質フィルムを得
た後、この炭素質フィルムをホットプレス工程でカロ熱
圧着して、所定の厚みを有するブロック状のグラファイ
トを得るので、製造するグラファイトの厚みが分厚くな
っても特性が悪くならず、分厚いブロック状のグラファ
イトでありながら、薄い高分子フィルム単体からなるグ
ラファイト等と同様の優れた特性を有するものを得るこ
とができる。

したがって、従来、製造することが困難であった、優れ
た特性を有するグラファイトを容易に製造することがで
き、特に、従来の！！造方法に比べ著しくロッキング特
性等が向上したブロック状グラファイトを得ることが可
能になる。この発明の製造方法によって製造され、ロッ
キング特性等に優れた分厚いブロック状のグラファイト
は、Ｘ線や中性子線モノクロメータ、フィルタ等に広く
使用することができる。

また、請求項２記載の発明によれば、上記請求項１記載
の発明と同様にして炭素質フィルムを製造した後、ホッ
トプレス工程で圧力を断続的に加えることによって、請
求項１記載の発明の上記効果に加え、ロッキング特性等
をより向上させることが可能である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
   サジアゾールのなかから選ばれた厚さ１〜４００μｍの
   高分子フィルムを４５０〜２０００℃で熱処理して炭素
   質フィルムを作製し、得られた炭素質フィルムを複数枚
   重ねて、２８００℃以下の温度領域では２０ｋｇ／ｃｍ
   ＾２以下、２８００℃以上の温度領域では２０ｋｇ／ｃ
   ｍ＾２以上の圧力を加えながら加熱圧着するグラファイ
   トの製造方法。
2. （２）芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキ
   サジアゾールのなかから選ばれた厚さ１〜４００μｍの
   高分子フィルムを熱処理して炭素質フィルムを作製し、
   得られた炭素質フィルムを複数枚重ねて、５０ｋｇ／ｃ
   ｍ＾２以下の圧力を継続的に加えながら８００℃以上で
   加熱圧着するグラファイトの製造方法。