JPH0285249A - ３―ピロリジノールの製造法 - Google Patents
３―ピロリジノールの製造法Info
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- JPH0285249A JPH0285249A JP1157253A JP15725389A JPH0285249A JP H0285249 A JPH0285249 A JP H0285249A JP 1157253 A JP1157253 A JP 1157253A JP 15725389 A JP15725389 A JP 15725389A JP H0285249 A JPH0285249 A JP H0285249A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/12—Oxygen or sulfur atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は３−ピロリジノールまたはその塩の製造法に関
し、さらに詳しくは効率的かつ経済的に３−ピロリジノ
ールまたはその塩を製造する方法に関する。３−ピロリ
ジノールはある種のＣａ−ブロッカ−やβ−ラクタム抗
生物質などの重要な合成中間体である。
し、さらに詳しくは効率的かつ経済的に３−ピロリジノ
ールまたはその塩を製造する方法に関する。３−ピロリ
ジノールはある種のＣａ−ブロッカ−やβ−ラクタム抗
生物質などの重要な合成中間体である。
［従来の技術］
従来、３−ピロリジノール誘導体の製造法としては、
（１）下記反応式で示すごと＜、Ｎ−置換−３−ピロリ
ン（冊をハイドロボレーションによりヒドロキシ＋２１
下記反応式で示すごとく、リンゴ酸（Ｖ）から出発して
ｌ−ベンジルリンゴ酸イミド（ｖｌ）を合成し、これを
還元してｌ−ベンジル−３−ピロリジノール■を合成す
る方法［特開昭［１ｌ−６３［ｉ５２号公報；シンセテ
イック・コミュニケーションズ （Ｓｙｎｔｌｌｅｔｌｃ Ｃｏａｕｎｕｎｉｃａｔｉ
ｏｎｓ） １５．５８７（１９８５）］ ■ ＶＩＤ （３）下記反応式で示すごとく、ヒドロキシプロリン■
を脱炭酸する方法［ケミストリー・レターズ（Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、８９３、（１９８Ｇ）
］Ｃ００１１ ｎ （Ｉｌｌなどが知ら
れている。
ン（冊をハイドロボレーションによりヒドロキシ＋２１
下記反応式で示すごとく、リンゴ酸（Ｖ）から出発して
ｌ−ベンジルリンゴ酸イミド（ｖｌ）を合成し、これを
還元してｌ−ベンジル−３−ピロリジノール■を合成す
る方法［特開昭［１ｌ−６３［ｉ５２号公報；シンセテ
イック・コミュニケーションズ （Ｓｙｎｔｌｌｅｔｌｃ Ｃｏａｕｎｕｎｉｃａｔｉ
ｏｎｓ） １５．５８７（１９８５）］ ■ ＶＩＤ （３）下記反応式で示すごとく、ヒドロキシプロリン■
を脱炭酸する方法［ケミストリー・レターズ（Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、８９３、（１９８Ｇ）
］Ｃ００１１ ｎ （Ｉｌｌなどが知ら
れている。
上記方法のうち、（１）のハイドロボレーションを利用
する方法や（２）のリンゴ酸から出発する方法は、ジボ
ランや水素化アルミニウムリチウムなどの比較的高価な
試薬を使わなければならない。また後者の方法では、光
学活性なリンゴ酸を出発原料として用いても環化の段階
で一部ラセミ化が起こるため、光学的に純粋な３−ピロ
リジノールをうるためには最終的に光学分割を行わなけ
ればならないという欠点がある。また（３）のヒドロキ
シプロリンの脱炭酸を利用する方法はヒドロキシプロリ
ン自体が高価であるなどの問題があり、いずれの方法も
ラセミ体、あるいは光学活性な３−ピロリジノールの実
用的な製造法としては満足しうるものとはいいがたい。
する方法や（２）のリンゴ酸から出発する方法は、ジボ
ランや水素化アルミニウムリチウムなどの比較的高価な
試薬を使わなければならない。また後者の方法では、光
学活性なリンゴ酸を出発原料として用いても環化の段階
で一部ラセミ化が起こるため、光学的に純粋な３−ピロ
リジノールをうるためには最終的に光学分割を行わなけ
ればならないという欠点がある。また（３）のヒドロキ
シプロリンの脱炭酸を利用する方法はヒドロキシプロリ
ン自体が高価であるなどの問題があり、いずれの方法も
ラセミ体、あるいは光学活性な３−ピロリジノールの実
用的な製造法としては満足しうるものとはいいがたい。
［発明が解決しようとする課題］
本発明前らは経済性にすぐれ、簡便かつ効率的な３−ピ
ロリジノール、とりわけその光学活性体の工業的製法を
確立すべく鋭意検討した結果、ラセミ体および光学活性
体ともに公知の方法で容易に調製可能な４−クロル−３
−ヒドロキシブチロニトリルの還元反応を利用して３−
ピロリジノ−ルが製造でき、また還元方法としては工業
的に有利な接触還元反応が利用できること、および光学
活性な４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリルを基
質として用いることによって光学活性な３−ピロリジノ
ールが製造できることを見出し、本発明を完成するにい
たった。
ロリジノール、とりわけその光学活性体の工業的製法を
確立すべく鋭意検討した結果、ラセミ体および光学活性
体ともに公知の方法で容易に調製可能な４−クロル−３
−ヒドロキシブチロニトリルの還元反応を利用して３−
ピロリジノ−ルが製造でき、また還元方法としては工業
的に有利な接触還元反応が利用できること、および光学
活性な４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリルを基
質として用いることによって光学活性な３−ピロリジノ
ールが製造できることを見出し、本発明を完成するにい
たった。
［課題を解決するための手段〕
すなわち、本発明は構造式（Ｉ）：
で表される４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリル
を還元反応させ、構造式（■）： で表される３−ピロリジノールに変換することを特徴と
する３−ピロリジノールまたはその塩の製造法に関する
。
を還元反応させ、構造式（■）： で表される３−ピロリジノールに変換することを特徴と
する３−ピロリジノールまたはその塩の製造法に関する
。
［作用および実施例］
本発明における出発原料である４−クロル−３−ヒドロ
キシブチロニトリルの製造法としてはすでに種々の方法
が知られているが、たとえば下記反応式で示すごとくエ
ピクロルヒドリン■にアセトンシアンヒドリン、ｌｌＣ
Ｎ 、 ＫＣＮなとのシアノ化剤を作用させることによ
って容易に製造することができる［ブレチン・デ・ソシ
エテ・キミク・バルジ（Ｂｕｌｌ、 Ｓｏｃ、 Ｃｂｌ
ｍ、 Ｂｅｌｇｅｓ ）見、１６Ｇ（１９Ｇ３） ；
リービッヒ・アナーレ（Ａｎｎ、）、田、２１（１９６
０） ；西独特許公開第２８３８５３６号明細書］。
キシブチロニトリルの製造法としてはすでに種々の方法
が知られているが、たとえば下記反応式で示すごとくエ
ピクロルヒドリン■にアセトンシアンヒドリン、ｌｌＣ
Ｎ 、 ＫＣＮなとのシアノ化剤を作用させることによ
って容易に製造することができる［ブレチン・デ・ソシ
エテ・キミク・バルジ（Ｂｕｌｌ、 Ｓｏｃ、 Ｃｂｌ
ｍ、 Ｂｅｌｇｅｓ ）見、１６Ｇ（１９Ｇ３） ；
リービッヒ・アナーレ（Ａｎｎ、）、田、２１（１９６
０） ；西独特許公開第２８３８５３６号明細書］。
（［Ｘ） ＋１）また
光学活性な（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−４−クロル−３−
ヒドロキシブチロニトリルの製造法としては、たとえば
下記反応式で示すごとくラセミ体のエピクロルヒドリン
から出発してえられるラセミ体の２−アセトキシ−３−
クロルプロピル−ｐ−トルエンスルホネート（１をリパ
ーゼで不斉氷解することによって分割し、（Ｒ）−２−
アセトキシ３−クロルプロピル−ｐ−トルエンスルホネ
ート（２）をメタノール中でＫＣＮと反応させることに
より、（Ｒ）−４−クロル−３−ヒドロキンブチロニト
リルに変換する方法などが利用できる［特開昭６２−２
１２３５１３］。
光学活性な（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−４−クロル−３−
ヒドロキシブチロニトリルの製造法としては、たとえば
下記反応式で示すごとくラセミ体のエピクロルヒドリン
から出発してえられるラセミ体の２−アセトキシ−３−
クロルプロピル−ｐ−トルエンスルホネート（１をリパ
ーゼで不斉氷解することによって分割し、（Ｒ）−２−
アセトキシ３−クロルプロピル−ｐ−トルエンスルホネ
ート（２）をメタノール中でＫＣＮと反応させることに
より、（Ｒ）−４−クロル−３−ヒドロキンブチロニト
リルに変換する方法などが利用できる［特開昭６２−２
１２３５１３］。
ＯＡｅ ＸＣＮ ０
ｉｌＣＩ −ＣＨ２−ＣＩｌ−ｅｌ＋ ２− ＯＴＳ
ＣＬ−ＣＨ２−ＣＩｌ−Ｃ１１２−ＣＮ’
Ｃｌ−１３０１１’ 閃 （１′） （式中、本は不斉炭素に関しく１υの配置を示す。） ４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリル（Ｉ）の接
触還元反応は、触媒としてシアノ基の一級アミンへの還
元触媒として公知のものが使用でき、とくにラネー金属
もしくは合金、バラジウ系触媒、白金系触媒などが１ｌ
ＴＪに利用できる。さらに具体的にはラネーニッケル（
１？旧］ｅｙ Ｎ［）、酸化白金（Ｐｔ０２） 、Ｄジ
ウム／ ７ ルミナ（Ｒ１１／Ａｌ２Ｏ３）、パラジウ
ム炭素（１）ｄ （Ｃ） ） ラネーコバルト（Ｒａ
ｎｅｙ Ｃｏ）、ラネーニッケル−クロム（Ｒａｎｅｙ
Ｎｉ−Ｃｒ） 、ニッケルポライド（ＮＩ２ Ｂ）があ
げられる。触媒は単独でもまた混合して用いてもよい。
ｉｌＣＩ −ＣＨ２−ＣＩｌ−ｅｌ＋ ２− ＯＴＳ
ＣＬ−ＣＨ２−ＣＩｌ−Ｃ１１２−ＣＮ’
Ｃｌ−１３０１１’ 閃 （１′） （式中、本は不斉炭素に関しく１υの配置を示す。） ４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリル（Ｉ）の接
触還元反応は、触媒としてシアノ基の一級アミンへの還
元触媒として公知のものが使用でき、とくにラネー金属
もしくは合金、バラジウ系触媒、白金系触媒などが１ｌ
ＴＪに利用できる。さらに具体的にはラネーニッケル（
１？旧］ｅｙ Ｎ［）、酸化白金（Ｐｔ０２） 、Ｄジ
ウム／ ７ ルミナ（Ｒ１１／Ａｌ２Ｏ３）、パラジウ
ム炭素（１）ｄ （Ｃ） ） ラネーコバルト（Ｒａ
ｎｅｙ Ｃｏ）、ラネーニッケル−クロム（Ｒａｎｅｙ
Ｎｉ−Ｃｒ） 、ニッケルポライド（ＮＩ２ Ｂ）があ
げられる。触媒は単独でもまた混合して用いてもよい。
溶媒としては通常の接触還元反応に用いられるようなメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパツール、ｌ５ｏ−プ
ロパツール、ブタノール、水、酢酸、ジオキサン、シク
ロヘキサン、ヘキサン、トルエンなどの溶媒を単独また
は混合物として用いることができる。このさい、反応生
成物は用いる触媒や反応温度、時間および反応系の塩基
仕度などによって還元の１次生成物と考えられる一級ア
ミンが主としてえられるばあいと、環化した３−ピロリ
ジノールが主としてえられるばあいがあるが、環化を完
全にするためには、さらに還元反応生成物を塩基性下で
撹拌しつつ環化させるのが好ましい。もちろん、未環化
接触還元反応生成物は還元反応終了後に塩基性下で環化
することもできる。
タノール、エタノール、ｎ−プロパツール、ｌ５ｏ−プ
ロパツール、ブタノール、水、酢酸、ジオキサン、シク
ロヘキサン、ヘキサン、トルエンなどの溶媒を単独また
は混合物として用いることができる。このさい、反応生
成物は用いる触媒や反応温度、時間および反応系の塩基
仕度などによって還元の１次生成物と考えられる一級ア
ミンが主としてえられるばあいと、環化した３−ピロリ
ジノールが主としてえられるばあいがあるが、環化を完
全にするためには、さらに還元反応生成物を塩基性下で
撹拌しつつ環化させるのが好ましい。もちろん、未環化
接触還元反応生成物は還元反応終了後に塩基性下で環化
することもできる。
ふつう室温では未環化生成物かえられやすく、５０℃以
上ではほとんど環化した形でえられる傾向がある。反応
時間に関しては、傾向として長いほうが環化しやすい。
上ではほとんど環化した形でえられる傾向がある。反応
時間に関しては、傾向として長いほうが環化しやすい。
還元反応はたとえばラネーニッケルを用いるばあい、触
媒量（通常原料物質の５〜２０重量％）のラネーニッケ
ルの存在下、メタノール中、水素圧０．５〜５０ｋｇ
／ ｃｄ 、好ましくは１〜１０ｋｇ ／ ｃｄ下で、
反応ＩＨ度１５〜１５０℃、好ましくは３０〜８０℃で
、１〜５０時間、好ましくは３〜２０時間撹拌すること
により行うことができ、このばあい、３−ピロリジノー
ルが主生成物としてえられる傾向がある。ラネーコバル
トを用いたばあいも同様で、触媒量（通常原料物質の５
〜２０重量％）のラネーコバルトの存在下、メタノール
中、水素圧０．５〜３５ ｋｇ ／ ｃＩ＃、好ましく
は１〜ｌ Ｏｋｇ ／ ｃｄ下で反応ＩＨ度１５〜１５
０℃、好ましくは３０〜１００°Ｃで、３０分〜３０時
間、好ましくは１〜２０時間撹拌することにより行うこ
とができ、このばあいも３−ピロリジノールが主生成物
としてえられる。
媒量（通常原料物質の５〜２０重量％）のラネーニッケ
ルの存在下、メタノール中、水素圧０．５〜５０ｋｇ
／ ｃｄ 、好ましくは１〜１０ｋｇ ／ ｃｄ下で、
反応ＩＨ度１５〜１５０℃、好ましくは３０〜８０℃で
、１〜５０時間、好ましくは３〜２０時間撹拌すること
により行うことができ、このばあい、３−ピロリジノー
ルが主生成物としてえられる傾向がある。ラネーコバル
トを用いたばあいも同様で、触媒量（通常原料物質の５
〜２０重量％）のラネーコバルトの存在下、メタノール
中、水素圧０．５〜３５ ｋｇ ／ ｃＩ＃、好ましく
は１〜ｌ Ｏｋｇ ／ ｃｄ下で反応ＩＨ度１５〜１５
０℃、好ましくは３０〜１００°Ｃで、３０分〜３０時
間、好ましくは１〜２０時間撹拌することにより行うこ
とができ、このばあいも３−ピロリジノールが主生成物
としてえられる。
また、酸化白金、パラジウム炭素またはロジウム／アル
ミナを用いるばあいも、ラネーコバルトを用いるばあい
と同じような水素圧、反応温度、反応時間で還元反応が
行なわれる。また光学活性な（１？）−もしくは（Ｓ）
−４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリルを用いて
還元を行ったばあい、それぞれ（Ｒ）−もしくは（Ｓ）
−３−ピロリジノルをラセミ化することなくうろことが
できる。
ミナを用いるばあいも、ラネーコバルトを用いるばあい
と同じような水素圧、反応温度、反応時間で還元反応が
行なわれる。また光学活性な（１？）−もしくは（Ｓ）
−４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリルを用いて
還元を行ったばあい、それぞれ（Ｒ）−もしくは（Ｓ）
−３−ピロリジノルをラセミ化することなくうろことが
できる。
生成物の単離は触媒のろ過など通常の後処理ののち、蒸
留などによって容易に達成することができるが、反応お
よびり１離操作は必ずしもこれらにこだわる必要はなく
、通常の接触還元に用いられる種々の方法が適用できる
。
留などによって容易に達成することができるが、反応お
よびり１離操作は必ずしもこれらにこだわる必要はなく
、通常の接触還元に用いられる種々の方法が適用できる
。
３−ピロリジノールの塩は、たとえば、塩酸塩、硫酸塩
、酢酸塩、ギ酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、リン酸な
どがあげられる。
、酢酸塩、ギ酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、リン酸な
どがあげられる。
つぎに実施例にもとづいて本発明の３−ピロリジノール
の製造法をさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実
施例のみに限定されるものではない。
の製造法をさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実
施例のみに限定されるものではない。
製造例１［４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリル
の製造］ エピクロルヒドリン（ｉ９．５ｇ 、アセトンシアンヒ
ドリン７０．５ｇのアセトン３７．５ｍｌ溶液にトリエ
チルアミン１ｍｌを加え、１２時間加熱還流後、減圧蒸
留（１００〜１００°Ｃ／ ２ ｍ＋ｎｌ１ｇ）するこ
とにより、３９ｇの４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリルをえた。
の製造］ エピクロルヒドリン（ｉ９．５ｇ 、アセトンシアンヒ
ドリン７０．５ｇのアセトン３７．５ｍｌ溶液にトリエ
チルアミン１ｍｌを加え、１２時間加熱還流後、減圧蒸
留（１００〜１００°Ｃ／ ２ ｍ＋ｎｌ１ｇ）するこ
とにより、３９ｇの４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリルをえた。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２） ：δ ２．８０（ｄ、２
１１．Ｊ−５１１ｚ） ３．２〜３ 、０７ （＋
ｎ、 ＩＩＩ）、３．６５（ｄ、２１１．Ｊ−Ｇｌｌｚ
） ４．１〜４．４２（ｍ、１１１） ＩＲ（ｃｍ−１） ：−−一ト（ＩＩＯａｔ） ３
４２０．２２５０、＋４２０゜１３１０．１１００．７
６０ 製造例２ ［（Ｒ）−４−クロル−３−ヒドロキシブチ
ロニトリルの製造］ （Ｒ）−３−クロロ−２−アセトキシプロピル−ｐ−ト
ルエンスルホネート１０．０ｇとシアン化カリウム２．
５５ｇをメタノール７０ｍ１に溶解し、２０°Ｃで１９
１ｅｔ間撹拌した。トシル酸カリウムをろ過して除去し
、ろｉｔｋを蒸留（１１５〜１１７℃／ ４ ｍ＋＋＋
ｌｌ４） して３．３５ｇの（Ｒ）−４−クロル−３−
ヒドロキシブチロニトリルをえた。
１１．Ｊ−５１１ｚ） ３．２〜３ 、０７ （＋
ｎ、 ＩＩＩ）、３．６５（ｄ、２１１．Ｊ−Ｇｌｌｚ
） ４．１〜４．４２（ｍ、１１１） ＩＲ（ｃｍ−１） ：−−一ト（ＩＩＯａｔ） ３
４２０．２２５０、＋４２０゜１３１０．１１００．７
６０ 製造例２ ［（Ｒ）−４−クロル−３−ヒドロキシブチ
ロニトリルの製造］ （Ｒ）−３−クロロ−２−アセトキシプロピル−ｐ−ト
ルエンスルホネート１０．０ｇとシアン化カリウム２．
５５ｇをメタノール７０ｍ１に溶解し、２０°Ｃで１９
１ｅｔ間撹拌した。トシル酸カリウムをろ過して除去し
、ろｉｔｋを蒸留（１１５〜１１７℃／ ４ ｍ＋＋＋
ｌｌ４） して３．３５ｇの（Ｒ）−４−クロル−３−
ヒドロキシブチロニトリルをえた。
［α］舌−１７．４°（ｃ−１、メタノール）実施例１
製造例１でえられた４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ラネー
ニッケル（Ｗ７） ５００ｍｇを加え、５ｋｇ／ｃｄの
水素圧下、室ｌ！直で１９時間撹拌した。反応終了後、
触媒をろ過し、メタノールを留去して３ピロリジノール
塩酸塩をｉ１１生成物としてえ、これに再びメタノール
１０ｍ１とＮａ０ＩＩ １．３４ｇを加え室温で３０分
撹拌したのち、析出した食塩をろ過し、メタノールを留
去後、減圧蒸留（１００〜１２０″Ｃ／ ３ ｍ１１ｇ
） して ２．１２ｇの３−ピロリジノールをえた。
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ラネー
ニッケル（Ｗ７） ５００ｍｇを加え、５ｋｇ／ｃｄの
水素圧下、室ｌ！直で１９時間撹拌した。反応終了後、
触媒をろ過し、メタノールを留去して３ピロリジノール
塩酸塩をｉ１１生成物としてえ、これに再びメタノール
１０ｍ１とＮａ０ＩＩ １．３４ｇを加え室温で３０分
撹拌したのち、析出した食塩をろ過し、メタノールを留
去後、減圧蒸留（１００〜１２０″Ｃ／ ３ ｍ１１ｇ
） して ２．１２ｇの３−ピロリジノールをえた。
ＩＨ−ＮＯＲ（ＣＤＣ１３＞ ：δ １．５Ｇ 〜２．
１７（ｍ、２１１）２．０３〜３．３（ｍ、４１１）、
３．８（ｂｓ、ＩＩＩ） ４．２３〜４．４７（
＋ｎ、ＩＩＩ） １１ｉ （ｃｍ（） ： ＝−ト（ｎｅａｔ） ３
３２０．２９ＧＯ１２９００，１４５０，１３５０，１
０７５、９９０、９００実施例２ 製造例２でえられた（１υ−４−クロル−３−ヒドロキ
シブチロニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し
、実施例１と同様にしてラネーニッケル（ｖ７）触媒を
用いて接触還元し、後処理して２．２３ｇの（Ｒ）−３
−ピロリジノールをえた。このものをイソプロパツール
中で塩化水素ガスを吹き込んで塩酸塩とし、常法によっ
て単離したのち、比旋光度を測定した。その結果は、［
α］Ｆ、 ＝７．６°（ｃ−３，８、メタノール）で、
公知の値［［ｃｒ］武−７６°（ｃ−３，４５、メタノ
ール）、ケミストリー・レターズ、８９５（１９８Ｇ）
］ と一致した。
１７（ｍ、２１１）２．０３〜３．３（ｍ、４１１）、
３．８（ｂｓ、ＩＩＩ） ４．２３〜４．４７（
＋ｎ、ＩＩＩ） １１ｉ （ｃｍ（） ： ＝−ト（ｎｅａｔ） ３
３２０．２９ＧＯ１２９００，１４５０，１３５０，１
０７５、９９０、９００実施例２ 製造例２でえられた（１υ−４−クロル−３−ヒドロキ
シブチロニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し
、実施例１と同様にしてラネーニッケル（ｖ７）触媒を
用いて接触還元し、後処理して２．２３ｇの（Ｒ）−３
−ピロリジノールをえた。このものをイソプロパツール
中で塩化水素ガスを吹き込んで塩酸塩とし、常法によっ
て単離したのち、比旋光度を測定した。その結果は、［
α］Ｆ、 ＝７．６°（ｃ−３，８、メタノール）で、
公知の値［［ｃｒ］武−７６°（ｃ−３，４５、メタノ
ール）、ケミストリー・レターズ、８９５（１９８Ｇ）
］ と一致した。
実施例３
製造例１でえられた４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ＰｔＯ
２を５０＋ｎｇ加え、５ ｋｇ ／ ｃｔ＃の水素圧下
、室１１１、↓て１５時間撹拌後、実施例１と同様にし
て後処理することにより ２．１２ｇの３−ピロリジノ
ールをえた。
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ＰｔＯ
２を５０＋ｎｇ加え、５ ｋｇ ／ ｃｔ＃の水素圧下
、室１１１、↓て１５時間撹拌後、実施例１と同様にし
て後処理することにより ２．１２ｇの３−ピロリジノ
ールをえた。
実施例４
実施例３において、ＰｔＯ２のかわりにＲ１１／Ａｌ２
Ｏ３５Ｏｎ＋ｇを用いたほかは実施例３と同様にして反
応および後処理を行った結果、２．０５ｇの３−ピロリ
ジノールをえた。
Ｏ３５Ｏｎ＋ｇを用いたほかは実施例３と同様にして反
応および後処理を行った結果、２．０５ｇの３−ピロリ
ジノールをえた。
実施例５
製造例１でえられた４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、５％Ｐ
ｄ（Ｃ） ５００ｍｇ 、 ２Ｎ塩酸２０ｍ１を加え、
５ｋｇ ／ ｃ＋＃の水素圧下、室温で２０時間撹拌し
たのち、触媒をろ過し、Ｎａ０ＩＩ １．５ｇを加えて
室温で２２時間撹拌°した。溶媒を留去しえられた残渣
にエタノールを加えて食塩をろ過し、エタノールを留去
したのち、蒸留して １．９７ｇの３−ピロリジノール
をえた。
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、５％Ｐ
ｄ（Ｃ） ５００ｍｇ 、 ２Ｎ塩酸２０ｍ１を加え、
５ｋｇ ／ ｃ＋＃の水素圧下、室温で２０時間撹拌し
たのち、触媒をろ過し、Ｎａ０ＩＩ １．５ｇを加えて
室温で２２時間撹拌°した。溶媒を留去しえられた残渣
にエタノールを加えて食塩をろ過し、エタノールを留去
したのち、蒸留して １．９７ｇの３−ピロリジノール
をえた。
実施例６
製造例１でえられた４−クロル−３−ヒドロキシブチロ
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ラネー
コバルト ４００ ｍｇを加え、７ ｋｇ ／ ｃｄの
水素圧下、７０°Ｃで１０時間撹拌したのち、実施例１
と同様に後処理することにより ２．０５ｇの３−ピロ
リジノールをえた。
ニトリル４ｇを８０ｍ１のメタノールに溶解し、ラネー
コバルト ４００ ｍｇを加え、７ ｋｇ ／ ｃｄの
水素圧下、７０°Ｃで１０時間撹拌したのち、実施例１
と同様に後処理することにより ２．０５ｇの３−ピロ
リジノールをえた。
［発明の効果］
本発明によれば、公知の方法により８昂に調製ＦｉＪ能
な４−クロル−３−ヒドロキンブチロニトリルを用いて
経済的か一〇効率的に３−ピロリジノル、とりわけその
光学活性体を製造できる。
な４−クロル−３−ヒドロキンブチロニトリルを用いて
経済的か一〇効率的に３−ピロリジノル、とりわけその
光学活性体を製造できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 構造式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で表される４−クロル−３−ヒドロキシブチロニトリル
を還元反応させ、構造式（II）：▲数式、化学式、表等
があります▼（II） で表される３−ピロリジノールに変換することを特徴と
する３−ピロリジノールまたはその塩の製造法。 ２ 還元反応を、金属触媒の存在下における接触還元反
応を利用して行う請求項１記載の製造法。 ３ 光学活性［（Ｒ）もしくは（Ｓ）］な４−クロル−
３−ヒドロキシブチロニトリルを接触還元反応させるこ
とにより対応する光学活性［（Ｒ）もしくは（Ｓ）］な
３−ピロリジノールを製造する請求項２記載の製造法。 ４ 金属触媒としてラネーニッケル、酸化白金、ロジウ
ム／アルミナおよびパラジウム系触媒から選択される少
なくとも１種を用いる請求項２または３記載の製造法。 ５ 金属触媒としてラネーニッケルを用い、還元反応と
同時に環化反応を進行せしめて直接３−ピロリジノール
を製造する請求項２または３記載の製造法。 ６ 未環化接触還元反応生成物を塩基性下にて環化処理
して３−ピロリジノールに変換する請求項２、３、４ま
たは５記載の製造法。 ７ 金属触媒としてラネーコバルトを用いる請求項２ま
たは３記載の製造法。 ８ 金属触媒としてラネーコバルトを用い、還元反応と
同時に環化反応を進行せしめて、直接３−ピロリジノー
ルを製造する請求項２または３記載の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15371888 | 1988-06-22 | ||
| JP63-153718 | 1988-06-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0285249A true JPH0285249A (ja) | 1990-03-26 |
Family
ID=15568585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1157253A Pending JPH0285249A (ja) | 1988-06-22 | 1989-06-20 | ３―ピロリジノールの製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4910320A (ja) |
| EP (1) | EP0347818B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0285249A (ja) |
| KR (1) | KR0133286B1 (ja) |
| CA (1) | CA1334758C (ja) |
| DE (1) | DE68923912T2 (ja) |
| ES (1) | ES2088877T3 (ja) |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100461569B1 (ko) * | 2002-05-20 | 2004-12-14 | 삼성정밀화학 주식회사 | 광학적으로 순수한 3-히드록시-피롤리딘의 제조방법 |
| JP2009507783A (ja) * | 2005-08-25 | 2009-02-26 | アールエステック コーポレイション | 高光学純度を有するキラル３−ヒドロキシピロリジン化合物及びその誘導体の製造方法 |
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| JPH0776209B2 (ja) * | 1990-04-11 | 1995-08-16 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性３―ヒドロキシピロリジン誘導体の製造方法 |
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| DE4425071C2 (de) | 1994-07-15 | 1996-08-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver Pyrrolidine mit hoher Enantiomerenreinheit |
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| US3542807A (en) * | 1969-04-14 | 1970-11-24 | Robins Co Inc A H | 1-(omega-benzoylalkyl)-3-substituted pyrrolidines |
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-
1989
- 1989-06-15 IE IE195289A patent/IE62338B1/en not_active IP Right Cessation
- 1989-06-16 CA CA000603118A patent/CA1334758C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-20 DE DE68923912T patent/DE68923912T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-20 EP EP89111150A patent/EP0347818B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-20 ES ES89111150T patent/ES2088877T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-20 JP JP1157253A patent/JPH0285249A/ja active Pending
- 1989-06-21 KR KR1019890008554A patent/KR0133286B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-21 US US07/369,164 patent/US4910320A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100461569B1 (ko) * | 2002-05-20 | 2004-12-14 | 삼성정밀화학 주식회사 | 광학적으로 순수한 3-히드록시-피롤리딘의 제조방법 |
| JP2009507783A (ja) * | 2005-08-25 | 2009-02-26 | アールエステック コーポレイション | 高光学純度を有するキラル３−ヒドロキシピロリジン化合物及びその誘導体の製造方法 |
| WO2009122997A1 (ja) | 2008-04-02 | 2009-10-08 | 株式会社カネカ | （ｓ）－３－（１－シアノ－１，１－ジフェニルメチル）－ピロリジンの製造法 |
| JP5450387B2 (ja) * | 2008-04-02 | 2014-03-26 | 株式会社カネカ | （ｓ）−３−（１−シアノ−１，１−ジフェニルメチル）−ピロリジンの製造法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0347818B1 (en) | 1995-08-23 |
| DE68923912D1 (de) | 1995-09-28 |
| EP0347818A2 (en) | 1989-12-27 |
| DE68923912T2 (de) | 1996-01-11 |
| CA1334758C (en) | 1995-03-14 |
| KR0133286B1 (ko) | 1998-04-17 |
| EP0347818A3 (en) | 1991-07-03 |
| IE62338B1 (en) | 1995-01-25 |
| KR910000636A (ko) | 1991-01-29 |
| IE891952L (en) | 1989-12-22 |
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