JPH0287633A - マルチチツプ型イメージセンサの実装方法 - Google Patents
マルチチツプ型イメージセンサの実装方法Info
- Publication number
- JPH0287633A JPH0287633A JP63240351A JP24035188A JPH0287633A JP H0287633 A JPH0287633 A JP H0287633A JP 63240351 A JP63240351 A JP 63240351A JP 24035188 A JP24035188 A JP 24035188A JP H0287633 A JPH0287633 A JP H0287633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image sensor
- adhesive
- chip
- substrate
- curing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、等倍密着量イメージスキャナ等に用いられる
マルチチップ型イメージセンサの実装方法に関する。
マルチチップ型イメージセンサの実装方法に関する。
従来の技術
近年、イメージスキャナ等にあっては、光学系の小型化
を図るため、センサ自体を等倍構成する等倍密着量イメ
ージセンサの開発が活発化している。この場合、例えば
SiウェハによるICイメージセンサチップを用いるも
のでは、Siウェハサイズにより長さが制限されるため
、通常サイズの原稿についても読取り可能に長尺化する
ためには、複数個のICイメージセンサチップを同一基
板上に配列する必要がある。このようなマルチチップ型
のものが、例えばTV学会におけるrIC387−55
JのrCCD密着イメージセンサ」により知られている
。
を図るため、センサ自体を等倍構成する等倍密着量イメ
ージセンサの開発が活発化している。この場合、例えば
SiウェハによるICイメージセンサチップを用いるも
のでは、Siウェハサイズにより長さが制限されるため
、通常サイズの原稿についても読取り可能に長尺化する
ためには、複数個のICイメージセンサチップを同一基
板上に配列する必要がある。このようなマルチチップ型
のものが、例えばTV学会におけるrIC387−55
JのrCCD密着イメージセンサ」により知られている
。
第5図はこのようなマルチチップ型イメージセンサの実
装例を示すもので、各々同一ピッチで形成された受光画
素部1を有する複数個のICイメージセンサチップ2a
、2b、〜を直線状(又は千鳥状)に配列し加熱硬化型
グイボンディング用接着剤3により同一の基板(例えば
アルミナ基板やセラミック基板)4上に接着固定してな
る。ここに、隣接チップ2a、2b間の接合部5には、
各々のチップ2a、2bの端部の受光画素部1の間隔も
各々のチップ2a、2b上の受光画素部1の間隔と同じ
となるようにわずかな隙間が設定されている。
装例を示すもので、各々同一ピッチで形成された受光画
素部1を有する複数個のICイメージセンサチップ2a
、2b、〜を直線状(又は千鳥状)に配列し加熱硬化型
グイボンディング用接着剤3により同一の基板(例えば
アルミナ基板やセラミック基板)4上に接着固定してな
る。ここに、隣接チップ2a、2b間の接合部5には、
各々のチップ2a、2bの端部の受光画素部1の間隔も
各々のチップ2a、2b上の受光画素部1の間隔と同じ
となるようにわずかな隙間が設定されている。
また、導電性を持つ加熱硬化型グイポンディング用接着
剤3としては、例えば、下記のような品名のものがある
。ここに、各品名の接着剤の特性につき、■・性状(配
合比)、■・・・溶剤の有無、■−・組成(充填剤/樹
脂)、■・・・キュア条件(温度/時間)、■・・・体
積抵抗率(Ω・釧)、■・・熱伝導率(cal / c
m−see・℃)、■・・・抽出不純物(C,Q−:N
a”)の順に示すものとすると、A。ケミタイトCT2
12(来夏ケミカル社製)■−液性、■有、■Ag/エ
ポキシ、■200’C/]、hr、■0,6X]−0−
’、■6X10−’■55 B、EN−4000(日立化成社製) ■−液性、■有、■Ag/エポキシ、■175’C/l
hr、■2X10−’、■0.6X10−’■1011
.0 C,EN−4070X−13(日立化成社製)■−液性
、■無、■Ag/エポキシ、■150’C/ L hr
”−2,50℃/40sec、■3.3×1o−4、■
−1■10jt。
剤3としては、例えば、下記のような品名のものがある
。ここに、各品名の接着剤の特性につき、■・性状(配
合比)、■・・・溶剤の有無、■−・組成(充填剤/樹
脂)、■・・・キュア条件(温度/時間)、■・・・体
積抵抗率(Ω・釧)、■・・熱伝導率(cal / c
m−see・℃)、■・・・抽出不純物(C,Q−:N
a”)の順に示すものとすると、A。ケミタイトCT2
12(来夏ケミカル社製)■−液性、■有、■Ag/エ
ポキシ、■200’C/]、hr、■0,6X]−0−
’、■6X10−’■55 B、EN−4000(日立化成社製) ■−液性、■有、■Ag/エポキシ、■175’C/l
hr、■2X10−’、■0.6X10−’■1011
.0 C,EN−4070X−13(日立化成社製)■−液性
、■無、■Ag/エポキシ、■150’C/ L hr
”−2,50℃/40sec、■3.3×1o−4、■
−1■10jt。
1つ、CRM−1,038(住友ベークライト社製)■
−液性、■無、■Ag/エポキシ、■2o○’C/ 1
hr 〜170℃/20sec+ 350℃/20s
ec:、■2X1.O−’、■3XIO−、■1゜E、
CRM−1058(住友ベークライト社製)■−液性、
■有、■Ag/ポリイミド、■150℃/ t hr〜
250°C/lhr、■2XIO−’■−1■1020 F、 Abl、ebond 84−I LM、
F (l\blest、ic社製)■−液性、■無
、■Ag/エポキシ、■150℃/lhr、■2XIO
−’、■−’+、5X10−’■1010 G、 Ablebond 71 − I LM
丁 (Ablestic 社製)■−液性、■有、
■Ag/ポリイミド、■150°C/ 30m1n 〜
275°C/30m1n、■2×1o−’、■−2■1
015 H,EPO−TEK H−20ELC(EpoxyT
echnology社製) ■二液性(1: l) 、■無、■Ag/エポキシ、■
120℃/15m1n、■3XIO−’、■4×】O−
3、■30 1、IEP ○ −ゴEK H35−175M
(E poxy T echnology社製)■−液
性、■無、■Ag/エポキシ、■1.80’C/ ]、
hr、■2X10−’、■−1■10110J 、
DIJ Pont 4621 D (DIJ Pan
t社製)■−液性、Q)右、■Ag/エポキシ、■17
5’C/ l tar、■4XLO−’、■−1■2(
]10に、 C−990(Amicon社製)■−液性
、■無、■Ag/エポキシ、■155’C/lhr、■
6.5X]、O−’、■−1■10L、 C−940−
AXLC(Amicon社製)■−液性、■有、■Ag
/ポリイミド、0175°C/ 3 0m1n 〜2
7 5℃/30m1n、 ■−■−1■1020 このようなチップ2a、2b間の接合部5の間隔が適正
に維持されないと、受光画素部1の連続性が乱れ、読取
り品質が劣化してしまう。
−液性、■無、■Ag/エポキシ、■2o○’C/ 1
hr 〜170℃/20sec+ 350℃/20s
ec:、■2X1.O−’、■3XIO−、■1゜E、
CRM−1058(住友ベークライト社製)■−液性、
■有、■Ag/ポリイミド、■150℃/ t hr〜
250°C/lhr、■2XIO−’■−1■1020 F、 Abl、ebond 84−I LM、
F (l\blest、ic社製)■−液性、■無
、■Ag/エポキシ、■150℃/lhr、■2XIO
−’、■−’+、5X10−’■1010 G、 Ablebond 71 − I LM
丁 (Ablestic 社製)■−液性、■有、
■Ag/ポリイミド、■150°C/ 30m1n 〜
275°C/30m1n、■2×1o−’、■−2■1
015 H,EPO−TEK H−20ELC(EpoxyT
echnology社製) ■二液性(1: l) 、■無、■Ag/エポキシ、■
120℃/15m1n、■3XIO−’、■4×】O−
3、■30 1、IEP ○ −ゴEK H35−175M
(E poxy T echnology社製)■−液
性、■無、■Ag/エポキシ、■1.80’C/ ]、
hr、■2X10−’、■−1■10110J 、
DIJ Pont 4621 D (DIJ Pan
t社製)■−液性、Q)右、■Ag/エポキシ、■17
5’C/ l tar、■4XLO−’、■−1■2(
]10に、 C−990(Amicon社製)■−液性
、■無、■Ag/エポキシ、■155’C/lhr、■
6.5X]、O−’、■−1■10L、 C−940−
AXLC(Amicon社製)■−液性、■有、■Ag
/ポリイミド、0175°C/ 3 0m1n 〜2
7 5℃/30m1n、 ■−■−1■1020 このようなチップ2a、2b間の接合部5の間隔が適正
に維持されないと、受光画素部1の連続性が乱れ、読取
り品質が劣化してしまう。
発明が解決しようとする問題点
ところが、従来のようなダイボンディング用接着剤3に
よる実装方法の場合、前述した文献中の[4,2ダイボ
ンディング」の欄にも記載されているように、チップ2
a、2b、〜のダイボンディング時にチップ、ずれを生
じてしまい、隣接チップ間の画素ピッチが変動してしま
う。これにより、上記のような読取り品質の劣化が生ず
る。
よる実装方法の場合、前述した文献中の[4,2ダイボ
ンディング」の欄にも記載されているように、チップ2
a、2b、〜のダイボンディング時にチップ、ずれを生
じてしまい、隣接チップ間の画素ピッチが変動してしま
う。これにより、上記のような読取り品質の劣化が生ず
る。
このようなダイボンディング時のチップずれは、前述し
たようなダイボンディング用接着剤3のキュア温度(硬
化温度)が何れの場合でもl OO’C以上であるため
、Siによるチップ2の熱膨張係数(α(Si)= 2
. 33 X I O−’ (1/’C〕)とセラミッ
クによる基板4の熱膨張係数(α(Se)=65 X
I O−’ [1/’C) )との差、及び、加熱硬化
型の一液性エポキシ接着剤において顕著に現れる硬化時
の粘度の低下による液だれ(チキン性)により生じる。
たようなダイボンディング用接着剤3のキュア温度(硬
化温度)が何れの場合でもl OO’C以上であるため
、Siによるチップ2の熱膨張係数(α(Si)= 2
. 33 X I O−’ (1/’C〕)とセラミッ
クによる基板4の熱膨張係数(α(Se)=65 X
I O−’ [1/’C) )との差、及び、加熱硬化
型の一液性エポキシ接着剤において顕著に現れる硬化時
の粘度の低下による液だれ(チキン性)により生じる。
問題点を解決するための手段
複数個のICイメージセンサチップを同一基板上に順次
隣接させて配列するマルチチップ型イメージセンサの実
装方法において、ICイメージセンサチップを基板に固
定させる加熱硬化型ダイボンディング用接着剤に比して
低温で硬化する低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着
剤により前記ICイメージセンサチップ間の接合部を接
着固定した後、前記加熱硬化型ダイボンディング用接着
剤を硬化させて各ICイメージセンサチップを基板上に
接着固定する。
隣接させて配列するマルチチップ型イメージセンサの実
装方法において、ICイメージセンサチップを基板に固
定させる加熱硬化型ダイボンディング用接着剤に比して
低温で硬化する低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着
剤により前記ICイメージセンサチップ間の接合部を接
着固定した後、前記加熱硬化型ダイボンディング用接着
剤を硬化させて各ICイメージセンサチップを基板上に
接着固定する。
作用
隣接チップ間の接合部を予め低温硬化型接着剤又は紫外
線硬化型接着剤により低温状態で接着固定してから、加
熱硬化型ダイボンディング用接着剤を加熱により硬化さ
せてチップを基板上に接着固定するので、チップと基板
との熱膨張係数に差があったり、チキン性があっても、
各チップ相互間のずれのない接着固定が可能となり、セ
ンサ配列精度の高いものとなる。
線硬化型接着剤により低温状態で接着固定してから、加
熱硬化型ダイボンディング用接着剤を加熱により硬化さ
せてチップを基板上に接着固定するので、チップと基板
との熱膨張係数に差があったり、チキン性があっても、
各チップ相互間のずれのない接着固定が可能となり、セ
ンサ配列精度の高いものとなる。
実施例
本発明の第一の実施例を第1図及び第2図に基づいて説
明する。第5図で示した部分と同一部分は同一符号を用
いて示す。本実施例でも、基本的には、・加熱硬化型ダ
イボンディング用接着剤3により寸法がaなる各ICイ
メージセンサチップ2a、2b、2c、2dを基板4上
に1直線上に配列して寸法Ωなる読取り可能に接着固定
するが、その加熱硬化に先立ち、各ICイメージセンサ
チップ2a、2b、2c、2d間の各接合部5を加熱硬
化型ダイボンディング用接着剤3よりも低温で硬化する
接着剤(低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤)6
により接着固定した後で、基板4」二の加熱硬化型ダイ
ボンディング用接着剤3をキュア(加熱硬化)させて、
各チップ2と基板4とを接着固定するようにしたもので
ある。
明する。第5図で示した部分と同一部分は同一符号を用
いて示す。本実施例でも、基本的には、・加熱硬化型ダ
イボンディング用接着剤3により寸法がaなる各ICイ
メージセンサチップ2a、2b、2c、2dを基板4上
に1直線上に配列して寸法Ωなる読取り可能に接着固定
するが、その加熱硬化に先立ち、各ICイメージセンサ
チップ2a、2b、2c、2d間の各接合部5を加熱硬
化型ダイボンディング用接着剤3よりも低温で硬化する
接着剤(低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤)6
により接着固定した後で、基板4」二の加熱硬化型ダイ
ボンディング用接着剤3をキュア(加熱硬化)させて、
各チップ2と基板4とを接着固定するようにしたもので
ある。
二二に、接着剤6としては、低温硬化型接着剤であれば
、例えばエポキシ・テクノロジー社製の耐熱用接着剤3
00シリーズ39o(硬化条件:常温30分)又は同社
製の光学用接着剤である同シリーズ301 (硬化条件
:65°Cで1時間)や、紫外線硬化型接着剤であれば
、例えばノーランド゛・プロダクツ社製のN0A60が
用いられる。また、加熱硬化型ダイボンディング用接着
剤3としては前述したA −Lのような接着剤が用いら
れる。
、例えばエポキシ・テクノロジー社製の耐熱用接着剤3
00シリーズ39o(硬化条件:常温30分)又は同社
製の光学用接着剤である同シリーズ301 (硬化条件
:65°Cで1時間)や、紫外線硬化型接着剤であれば
、例えばノーランド゛・プロダクツ社製のN0A60が
用いられる。また、加熱硬化型ダイボンディング用接着
剤3としては前述したA −Lのような接着剤が用いら
れる。
このように本実施例方法によれば、各チップ2間の接合
部5を低温条件下に接着剤6により予め接着固定し、相
互間の位置ずれを抑えた状態で、最終的に加熱硬化型ダ
イボンディング用接着剤3を加熱硬化させて基板4上に
固定するので、ダイボンディングに際しての熱膨張係数
差などの影響によるずれを抑制できる。この結果、各チ
ップ間の接合部5においても受光画素部1間の配列精度
をほぼチップ設置精度(=アライメントー例えば5μm
以下)に抑えることができる。よって、チップ間接合部
付近で読取り品質が低下することはない。これは、現状
の400dpi レベル対応の高密度のマルチチップセ
ンサでも対応できるものである。
部5を低温条件下に接着剤6により予め接着固定し、相
互間の位置ずれを抑えた状態で、最終的に加熱硬化型ダ
イボンディング用接着剤3を加熱硬化させて基板4上に
固定するので、ダイボンディングに際しての熱膨張係数
差などの影響によるずれを抑制できる。この結果、各チ
ップ間の接合部5においても受光画素部1間の配列精度
をほぼチップ設置精度(=アライメントー例えば5μm
以下)に抑えることができる。よって、チップ間接合部
付近で読取り品質が低下することはない。これは、現状
の400dpi レベル対応の高密度のマルチチップセ
ンサでも対応できるものである。
つづいて、本発明の第二の実施例を第3図により説明す
る。本実施例は、セラミック基板4上に接合部5を除く
チップ下面に加熱硬化型グイボンディング用接着剤3を
スクリーン印刷塗布した後、接合部に位置させて接着剤
6をディスペンスし、この状態で各チップ2を基板4上
にアライメントし、接着剤6の硬化により各チップ2間
の接合部5を接着固定した後で、最後に加熱硬化型ダイ
ボンディング用接着剤3をキュアするようにしたもので
ある。
る。本実施例は、セラミック基板4上に接合部5を除く
チップ下面に加熱硬化型グイボンディング用接着剤3を
スクリーン印刷塗布した後、接合部に位置させて接着剤
6をディスペンスし、この状態で各チップ2を基板4上
にアライメントし、接着剤6の硬化により各チップ2間
の接合部5を接着固定した後で、最後に加熱硬化型ダイ
ボンディング用接着剤3をキュアするようにしたもので
ある。
また、本発明の第三の実施例を第4図により説明する。
本実施例は、複数個のチップ2を順次千鳥状配列させる
場合に適用したものであり、この場合にも短手方向の隣
接接合部5が先に接着剤6により接着固定される。千鳥
状配列にあっても、長手方向に見た場合の隣接チップ間
の受光画素部1間のピッチが等間隔とされる。
場合に適用したものであり、この場合にも短手方向の隣
接接合部5が先に接着剤6により接着固定される。千鳥
状配列にあっても、長手方向に見た場合の隣接チップ間
の受光画素部1間のピッチが等間隔とされる。
発明の効果
本発明は、上述したように隣接チップ間の接合部を予め
低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤により低温状
態で接着固定し相互ずれのない状態にしてから、加熱硬
化型ダイボンディング用接着剤を加熱により硬化させて
チップを基板上に接着固定するようにしたので、チップ
と基板との熱膨張係数に差があったり、チキン性があっ
ても。
低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤により低温状
態で接着固定し相互ずれのない状態にしてから、加熱硬
化型ダイボンディング用接着剤を加熱により硬化させて
チップを基板上に接着固定するようにしたので、チップ
と基板との熱膨張係数に差があったり、チキン性があっ
ても。
各チップ相互間のずれのない接着固定が可能となり、セ
ンサ配列精度の高いものとな(j、高品位の読取りを可
能とすることができる。
ンサ配列精度の高いものとな(j、高品位の読取りを可
能とすることができる。
第1図(a)は本発明の第一の実施例を示す平面図、同
図(b)はその縦断正面図、第2図はセンサ全体の概略
平面図、第3図(a)は本発明の第二の実施例を示す平
面図、同図(b)はその縦断正面図、第4図(a)は本
発明の第三の実施例を示す平面図、同図(b)はその縦
断正面図、第5図(a)は従来例を示す平面図、同図(
b)はその縦断正面図である。 2・・ICイメージセンサチップ、3・・・加熱硬化型
グイボンディング用接着剤、4・・基板、5・・・接合
部、6・・低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤 3.1 図 −第Z図 −〇
図(b)はその縦断正面図、第2図はセンサ全体の概略
平面図、第3図(a)は本発明の第二の実施例を示す平
面図、同図(b)はその縦断正面図、第4図(a)は本
発明の第三の実施例を示す平面図、同図(b)はその縦
断正面図、第5図(a)は従来例を示す平面図、同図(
b)はその縦断正面図である。 2・・ICイメージセンサチップ、3・・・加熱硬化型
グイボンディング用接着剤、4・・基板、5・・・接合
部、6・・低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤 3.1 図 −第Z図 −〇
Claims (1)
- 複数個のICイメージセンサチップを同一基板上に順次
隣接させて配列するマルチチップ型イメージセンサの実
装方法において、ICイメージセンサチップを基板に固
定させる加熱硬化型ダイボンディング用接着剤に比して
低温で硬化する低温硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着
剤により前記ICイメージセンサチップ間の接合部を接
着固定した後、前記加熱硬化型ダイボンディング用接着
剤を硬化させて各ICイメージセンサチップを基板上に
接着固定したことを特徴とするマルチチップ型イメージ
センサの実装方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63240351A JPH0287633A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | マルチチツプ型イメージセンサの実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63240351A JPH0287633A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | マルチチツプ型イメージセンサの実装方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0287633A true JPH0287633A (ja) | 1990-03-28 |
Family
ID=17058197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63240351A Pending JPH0287633A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | マルチチツプ型イメージセンサの実装方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0287633A (ja) |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP63240351A patent/JPH0287633A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0287869A (ja) | 千鳥配列マルチチツプ型イメージセンサ | |
| EP0591862B1 (en) | A semiconductor device, an image sensor device, and methods for producing the same | |
| US6046077A (en) | Semiconductor device assembly method and semiconductor device produced by the method | |
| JP3068663B2 (ja) | 重なり合ったチップを取替えることができるサブユニット | |
| US5177500A (en) | LED array printhead with thermally coupled arrays | |
| TW490394B (en) | Optical write head, and method of assembling the same | |
| US9887222B2 (en) | Method of manufacturing optical apparatus | |
| EP0969503A2 (en) | Electronic circuit device | |
| US6337509B2 (en) | Fixture for attaching a conformal chip carrier to a flip chip | |
| US5212576A (en) | Insulating material with coefficient linear expansion matching that of one substrate over connection between two conductive patterns | |
| US20020097366A1 (en) | Method for decreasing misalignment of a printed circuit board and a liquid crystal display device with the printed circuit board | |
| JPH02294072A (ja) | 全幅走査アレーを製造する方法 | |
| US6435883B1 (en) | High density multichip interconnect decal grid array with epoxy interconnects and transfer tape underfill | |
| JPH0287634A (ja) | マルチチツプ型イメージセンサの実装方法 | |
| KR100884295B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치 | |
| US6252780B1 (en) | Construction of scanning or imaging arrays suitable for large documents | |
| JP3525331B2 (ja) | 半導体チップの実装基板および半導体装置の実装方法 | |
| JP3447364B2 (ja) | 光回路部品およびその製造方法 | |
| JP2004023045A (ja) | 両面実装方法およびチップ実装基板 | |
| JPH0541409A (ja) | 接着剤及びそれを用いた実装構造 | |
| JPS63181439A (ja) | 密着型イメ−ジセンサ | |
| JPH06166212A (ja) | 画像装置 | |
| JPH0693504B2 (ja) | イメージセンサの製造方法 | |
| JPH0563030A (ja) | 接着剤及びそれを用いた実装方法 | |
| JP2685004B2 (ja) | 密着型イメージセンサ及びその製造方法 |