JPH0295235U - - Google Patents

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JPH0295235U
JPH0295235U JP320989U JP320989U JPH0295235U JP H0295235 U JPH0295235 U JP H0295235U JP 320989 U JP320989 U JP 320989U JP 320989 U JP320989 U JP 320989U JP H0295235 U JPH0295235 U JP H0295235U
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reaction vessel
tube
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案に係る気相成長装置の第１実施
例の縦断面図、第２図は第１図のＡ―Ａ断面図、
第３図は第１実施例の変形例を示す縦断面図、第
４図は第２実施例の縦断面図、第５図は同実施例
における気相成長回数とウエハ上の堆積膜の成長
速度との関係を示すグラフ、第６図及び第７図は
従来例を示す縦断面図、第８図は反応容器内のウ
エハの位置とウエハ上の堆積膜の成長速度との関
係を示すグラフ、第９図は従来例において内筒内
壁の堆積物除去を行つた場合の成長速度を示すグ
ラフである。 １１…反応容器、１４…反応ガス導入管、１５
…内筒、１８…ウエハ、２１…内管、２２…外管
。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反応容器内に複数のウエハを鉛直方向に沿
    つて載置して処理する気相成長装置において、 前記反応容器下端に形成された反応ガス導入口
    が容器内壁に沿つて複数設けられると共に、該反
    応ガス導入口が鉛直方向上向き以外を向いている
    ことを特徴とする気相成長装置。 (2) 反応容器と該反応容器内でウエハを処理す
    る内筒を有する気相成長装置において、 前記内筒を内管と外管とで成る二重構造とする
    と共に、少なくとも内管を連続多孔質材料で形成
    し、前記内管と外管との間隙に不活性ガスを供給
    して該内管内側表面に不活性ガスを吐出可能とす
    ると共に、該内管内に反応ガスを供給することを
    特徴とする気相成長装置。
JP320989U 1989-01-13 1989-01-13 気相成長装置 Expired - Lifetime JPH073635Y2 (ja)

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JP320989U JPH073635Y2 (ja) 1989-01-13 1989-01-13 気相成長装置

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JP320989U JPH073635Y2 (ja) 1989-01-13 1989-01-13 気相成長装置

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JPH0295235U true JPH0295235U (ja) 1990-07-30
JPH073635Y2 JPH073635Y2 (ja) 1995-01-30

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