JPH029866B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH029866B2 JPH029866B2 JP56121770A JP12177081A JPH029866B2 JP H029866 B2 JPH029866 B2 JP H029866B2 JP 56121770 A JP56121770 A JP 56121770A JP 12177081 A JP12177081 A JP 12177081A JP H029866 B2 JPH029866 B2 JP H029866B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- adhesive
- laminate
- film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 85
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 70
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 67
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 14
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 9
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 6
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 4
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 claims 2
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims 2
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 5
- 102100036848 C-C motif chemokine 20 Human genes 0.000 description 4
- 101000713099 Homo sapiens C-C motif chemokine 20 Proteins 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100035915 D site-binding protein Human genes 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000873522 Homo sapiens D site-binding protein Proteins 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane Chemical compound C1COCOC1 VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUCMNMXYOVTDJ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diamino-6-butan-2-ylphenol Chemical compound CCC(C)C1=CC(N)=CC(N)=C1O GFUCMNMXYOVTDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 methoxyethoxy Chemical group 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0393—Flexible materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
- H05K2203/0759—Forming a polymer layer by liquid coating, e.g. a non-metallic protective coating or an organic bonding layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
最近、可撓性電気回路は一般にコンピユータ、
カメラ、電話機およびPBXシステム、衛星器具
操縦装置、および自動車用ラジオに利用されてい
る。これらの信頼性接続装置は空間および組立て
時間を節約しており、更に航空機および他の用途
における付加利用としては電気機器が可撓性回路
を実験用とはもはや関係なく、しかもかかる回路
部品を信頼度で許容できるようにしている。この
利用性を制限する1つの問題は、現在の可撓性回
路の性能を著しい温度変化において信頼度を維持
できるようにすることである。接着剤における揮
発物のために、およびある種の接着剤の固有の剛
性のために結合中に、可撓性回路に気孔(voids)
が形成し、これがかかる信頼度を1部分低下する
ことになる。従つて、ミサイル、航空機および宇
宙船における温度および圧力信頼性電気回路に関
する宇宙空間工業においてある規定が必要とされ
る。 線状芳香族ポリイミド類は477K(400〓)〜
589K(600〓)の温度で熱的に安定であり、可撓
性であり、かつ軽量であることから、このポリイ
ミド類は上述する用途に優れている。このため
に、気孔の存在しない高温ポリイミド フイルム
の大きい面積を貼合わせる方法は宇宙空間用途に
必要となる。 しかしながら、種々の電気回路用途に必要とさ
れるようにポリイミド フイルムをそれ自体また
は金属表面に結合するために線状芳香族ポリイミ
ド接着剤を用いる場合には、望ましくない揮発物
が発生する1つの問題がある。かかる揮発物は縮
合反応副生物および/または過剰溶剤を生じ、こ
れらが大面積で、気孔の存在しない積層体の形成
を困難にする。 数年前において、超薄ポリイミド フイルムを
結合するために可撓性高温接着剤の必要性がナサ
ソーラ セイル プログラム(NASA Solar
Sail Program)によつて示されている。可撓性
接着剤は0.002μm(0.08ミル)のデユポン ポリ
イミド「カプトンRH(Kapton H)」フイルムの
ストリツプを幅8m×長さ7350mの各セイル ブ
レツド(Sali blad)を横切るごとに結合するの
に必要とされていた。この「カプトン」フイルム
は種々の厚さで市販されており、この「カプト
ン」はピロメリト酸二無水物(PMDA)および
4,4′−オキシジアニリン(ODA)から作られ
た線状ポリイミンフイルムについてのデユポン
コンパニーの商標である。この用途のために開発
されている二三の線状ポリイミド接着剤は次に示
す単量体が用いられている。 表に示すLARC−2,−3および−4で示す
接着剤および配合物は無毒性エーテル溶剤で調製
し、薄いポリイミド「カプトン」フイルムを6.35
mm(1/4インチ)重ね合わせて結合を達成するこ
とができる。接着剤は500時間以上、575Kの温度
に作用させた場合に良好な熱安定性を示し、また
高温度で6000時間経過後でも接着剤結合の強度を
著しく保持していたことを確かめた。しかしなが
ら、これらの6.35mm(1/4インチ)幅のポリイミ
ド結合は気孔を完全に除去できないけれども、接
着剤が結合するフイルムより遥かに強くなる。こ
の接着剤については1979年1月に発行された「接
着剤劣化(Adhesive Age)」第35〜39頁に記載
されている。
カメラ、電話機およびPBXシステム、衛星器具
操縦装置、および自動車用ラジオに利用されてい
る。これらの信頼性接続装置は空間および組立て
時間を節約しており、更に航空機および他の用途
における付加利用としては電気機器が可撓性回路
を実験用とはもはや関係なく、しかもかかる回路
部品を信頼度で許容できるようにしている。この
利用性を制限する1つの問題は、現在の可撓性回
路の性能を著しい温度変化において信頼度を維持
できるようにすることである。接着剤における揮
発物のために、およびある種の接着剤の固有の剛
性のために結合中に、可撓性回路に気孔(voids)
が形成し、これがかかる信頼度を1部分低下する
ことになる。従つて、ミサイル、航空機および宇
宙船における温度および圧力信頼性電気回路に関
する宇宙空間工業においてある規定が必要とされ
る。 線状芳香族ポリイミド類は477K(400〓)〜
589K(600〓)の温度で熱的に安定であり、可撓
性であり、かつ軽量であることから、このポリイ
ミド類は上述する用途に優れている。このため
に、気孔の存在しない高温ポリイミド フイルム
の大きい面積を貼合わせる方法は宇宙空間用途に
必要となる。 しかしながら、種々の電気回路用途に必要とさ
れるようにポリイミド フイルムをそれ自体また
は金属表面に結合するために線状芳香族ポリイミ
ド接着剤を用いる場合には、望ましくない揮発物
が発生する1つの問題がある。かかる揮発物は縮
合反応副生物および/または過剰溶剤を生じ、こ
れらが大面積で、気孔の存在しない積層体の形成
を困難にする。 数年前において、超薄ポリイミド フイルムを
結合するために可撓性高温接着剤の必要性がナサ
ソーラ セイル プログラム(NASA Solar
Sail Program)によつて示されている。可撓性
接着剤は0.002μm(0.08ミル)のデユポン ポリ
イミド「カプトンRH(Kapton H)」フイルムの
ストリツプを幅8m×長さ7350mの各セイル ブ
レツド(Sali blad)を横切るごとに結合するの
に必要とされていた。この「カプトン」フイルム
は種々の厚さで市販されており、この「カプト
ン」はピロメリト酸二無水物(PMDA)および
4,4′−オキシジアニリン(ODA)から作られ
た線状ポリイミンフイルムについてのデユポン
コンパニーの商標である。この用途のために開発
されている二三の線状ポリイミド接着剤は次に示
す単量体が用いられている。 表に示すLARC−2,−3および−4で示す
接着剤および配合物は無毒性エーテル溶剤で調製
し、薄いポリイミド「カプトン」フイルムを6.35
mm(1/4インチ)重ね合わせて結合を達成するこ
とができる。接着剤は500時間以上、575Kの温度
に作用させた場合に良好な熱安定性を示し、また
高温度で6000時間経過後でも接着剤結合の強度を
著しく保持していたことを確かめた。しかしなが
ら、これらの6.35mm(1/4インチ)幅のポリイミ
ド結合は気孔を完全に除去できないけれども、接
着剤が結合するフイルムより遥かに強くなる。こ
の接着剤については1979年1月に発行された「接
着剤劣化(Adhesive Age)」第35〜39頁に記載
されている。
【表】
【表】
上述するポリイミド結合の6.35mm(1/4インチ)
幅の重なり部分は大部分の揮発物を逃がすために
小さすぎる面積である。困難さが大面積を結合す
る場合に生ずる。大面積のポリイミド フイルム
を結合して100%気孔を除去した積層体(100%
void−free laminates)を形成する方法にはある
制限を存在させる必要がある。 薄いポリイミド フイルムの非気孔積層体は環
境保護の目的のために包装または封入する高温度
において利用できるものと思われる。普通厚さの
ポリイミド フイルム、例えば「カプトン」フイ
ルムの「全厚さ(through−the−thickness)
(TTT)の強度は極めて弱く、ある場合にはこの
フイルムの使用を禁止している。しかしながら、
本発明の方法を用いることによつて、一般に薄い
フイルムの厚い積層体を個々の層(TTT)の強
度を低下させることなく形成でき、これにより改
良された物理的特性を有する厚いポリイミド積層
体を形成することができる。また、本発明の方法
により形成したポリイミド フイルムおよびその
積層体はポリイミド フイルムをある接着剤で被
着する被覆として用いることができ、接着剤をB
−段階にし、フイルムを異なる基体に結合して保
護耐熱性被覆として作用させることができる。 本発明の目的は高温ポリイミド フイルムを結
合する改良方法を提供することである。 本発明の他の目的は可撓性で、大面積を有し、
かつ100%気孔を除去した積層体をポリイミド
フイルムから製造する方法を提供することであ
る。 本発明の更に他の目的は可撓性回路に適用する
ためにポリイミド フイルムをそれ自体に貼合わ
せる改良方法を提供することである。 本発明の更に他の目的は溶剤および気孔を除去
し、耐熱性ポリイミド積層構造を回復する熱可塑
性結合積層方法の使用を提供することである。 本発明において、上述する目的は貼合わせるポ
リイミド フイルムの少なくとも1つの表面に線
状ポリアミド酸接着剤溶液の薄い層を被着し、こ
の被覆フイルムを接着剤のイミド化
(imidization)する温度に作用させ、温度および
圧力を用いてかかる被覆フイルムに他の被覆また
は未被覆ポリイミド フイルムを熱可塑性的に結
合または貼合わせる第1の方法により達成するこ
とができる。或いは、また第2の方法としては、
ポリアミド酸接着剤フイルムをポリイミド フイ
ルム層間に位置する前に予熱してB段階にするこ
とができる。 次に本発明を添付図面について説明する。 第1図は500時間以上にわたり575Kの温度に作
用した場合に、本発明において用いる種々の接着
剤の優れた熱安定特性を示すグラフである。第2
図は高温度に6000時間曝した後の種々の接着剤の
強度の保留性を示すグラフである。 本発明において、大面積ポリイミド フイルム
積層体を作る第1の方法は、次の工程:(1)貼合わ
すべきポリイミド フイルムに線状ポリアミド酸
接着剤溶液の薄い層を被着し;(2)次いで被着した
ポリイミド フイルムを空気中で1時間にわたり
493K(428〓)に予熱して過剰の溶剤を除去する
ことによつてB段階にし、ポリアミド酸接着剤を
より安定なポリイミドに転化し;(3)次いで、B段
階フイルムを3.515〜49.215Kg/cm2(50〜700psi)
の圧力下で5分間616K(650〓)でスチール型
(第5図)において第3図に示すように被覆フイ
ルムまたは未被覆フイルムの他のシートに熱可塑
性的に結合し;および(4)ポリイミド フイルム積
層を型から除去する前に加圧下で冷却する各工程
からなる。形成した積層体は透明な黄色を有し、
極めて可撓性で、かつ100%気孔が除去されてい
た。また、積層体は剥離せず、剥離する場合には
積層体はフイルムそれ自体に損傷の生ずることを
確かめた。 本発明において、大面積ポリイミド フイルム
積層体を作る第2の方法は、次の工程:(1)ポリア
ミド酸接着剤の薄いフイルムを平坦面上に溶液を
注いで形成し;(2)このポリアミド酸接着フイルム
を空気中で493K(428〓)に1時間加熱してポリ
イミドに熱イミド化し(thermally imidized);
(3)次いで接着フイルムを注型表面から除去し、こ
の接着フイルムを第4図に示すように貼合わせる
ポリイミド フイルムの2枚のシート間に挿入
し;(4)工程(3)で作つた積層をスチール型に入れ
(第5図)、3.515〜21.092Kg/cm2(50〜300psi)圧
力下、616K(650〓)で5分間にわたり熱可塑性
的貼合わせし;および(5)ポリイミド積層体を加圧
下で冷却する各工程からなる。 本発明における上述する方法で作つた積層体は
次のフイルム厚さ:0.013mm(0.5ミル)、0.025mm
(1ミル)、0.076mm(3ミル)および0.127mm(5
ミル)のポリイミド フイルムから作るのが好ま
しい。しかし、上記以外の他のフイルム厚さでも
良い積層体を作ることができる。フイルムは結合
する前にエタノールを含んだ布できれいに洗う。
塵粒、指紋等を除去するのに用いることのできる
任意の他の溶剤を積層にするフイルムを調整する
のに用いることができる。デユポン コンパニー
の「カプトンH」フイルムは後述する例に記載す
るポリイミド フイルム積層体の製造に用いるこ
とができ、また他の線状芳香族ポリイミドフイル
ムを本発明の方法により積層するのに用いること
ができる。 例えば、本発明の積層方法において用いること
のできるポリイミド フイルムは次の構造式を有
するポリイミドの群から選択することができる: (ここにArは
幅の重なり部分は大部分の揮発物を逃がすために
小さすぎる面積である。困難さが大面積を結合す
る場合に生ずる。大面積のポリイミド フイルム
を結合して100%気孔を除去した積層体(100%
void−free laminates)を形成する方法にはある
制限を存在させる必要がある。 薄いポリイミド フイルムの非気孔積層体は環
境保護の目的のために包装または封入する高温度
において利用できるものと思われる。普通厚さの
ポリイミド フイルム、例えば「カプトン」フイ
ルムの「全厚さ(through−the−thickness)
(TTT)の強度は極めて弱く、ある場合にはこの
フイルムの使用を禁止している。しかしながら、
本発明の方法を用いることによつて、一般に薄い
フイルムの厚い積層体を個々の層(TTT)の強
度を低下させることなく形成でき、これにより改
良された物理的特性を有する厚いポリイミド積層
体を形成することができる。また、本発明の方法
により形成したポリイミド フイルムおよびその
積層体はポリイミド フイルムをある接着剤で被
着する被覆として用いることができ、接着剤をB
−段階にし、フイルムを異なる基体に結合して保
護耐熱性被覆として作用させることができる。 本発明の目的は高温ポリイミド フイルムを結
合する改良方法を提供することである。 本発明の他の目的は可撓性で、大面積を有し、
かつ100%気孔を除去した積層体をポリイミド
フイルムから製造する方法を提供することであ
る。 本発明の更に他の目的は可撓性回路に適用する
ためにポリイミド フイルムをそれ自体に貼合わ
せる改良方法を提供することである。 本発明の更に他の目的は溶剤および気孔を除去
し、耐熱性ポリイミド積層構造を回復する熱可塑
性結合積層方法の使用を提供することである。 本発明において、上述する目的は貼合わせるポ
リイミド フイルムの少なくとも1つの表面に線
状ポリアミド酸接着剤溶液の薄い層を被着し、こ
の被覆フイルムを接着剤のイミド化
(imidization)する温度に作用させ、温度および
圧力を用いてかかる被覆フイルムに他の被覆また
は未被覆ポリイミド フイルムを熱可塑性的に結
合または貼合わせる第1の方法により達成するこ
とができる。或いは、また第2の方法としては、
ポリアミド酸接着剤フイルムをポリイミド フイ
ルム層間に位置する前に予熱してB段階にするこ
とができる。 次に本発明を添付図面について説明する。 第1図は500時間以上にわたり575Kの温度に作
用した場合に、本発明において用いる種々の接着
剤の優れた熱安定特性を示すグラフである。第2
図は高温度に6000時間曝した後の種々の接着剤の
強度の保留性を示すグラフである。 本発明において、大面積ポリイミド フイルム
積層体を作る第1の方法は、次の工程:(1)貼合わ
すべきポリイミド フイルムに線状ポリアミド酸
接着剤溶液の薄い層を被着し;(2)次いで被着した
ポリイミド フイルムを空気中で1時間にわたり
493K(428〓)に予熱して過剰の溶剤を除去する
ことによつてB段階にし、ポリアミド酸接着剤を
より安定なポリイミドに転化し;(3)次いで、B段
階フイルムを3.515〜49.215Kg/cm2(50〜700psi)
の圧力下で5分間616K(650〓)でスチール型
(第5図)において第3図に示すように被覆フイ
ルムまたは未被覆フイルムの他のシートに熱可塑
性的に結合し;および(4)ポリイミド フイルム積
層を型から除去する前に加圧下で冷却する各工程
からなる。形成した積層体は透明な黄色を有し、
極めて可撓性で、かつ100%気孔が除去されてい
た。また、積層体は剥離せず、剥離する場合には
積層体はフイルムそれ自体に損傷の生ずることを
確かめた。 本発明において、大面積ポリイミド フイルム
積層体を作る第2の方法は、次の工程:(1)ポリア
ミド酸接着剤の薄いフイルムを平坦面上に溶液を
注いで形成し;(2)このポリアミド酸接着フイルム
を空気中で493K(428〓)に1時間加熱してポリ
イミドに熱イミド化し(thermally imidized);
(3)次いで接着フイルムを注型表面から除去し、こ
の接着フイルムを第4図に示すように貼合わせる
ポリイミド フイルムの2枚のシート間に挿入
し;(4)工程(3)で作つた積層をスチール型に入れ
(第5図)、3.515〜21.092Kg/cm2(50〜300psi)圧
力下、616K(650〓)で5分間にわたり熱可塑性
的貼合わせし;および(5)ポリイミド積層体を加圧
下で冷却する各工程からなる。 本発明における上述する方法で作つた積層体は
次のフイルム厚さ:0.013mm(0.5ミル)、0.025mm
(1ミル)、0.076mm(3ミル)および0.127mm(5
ミル)のポリイミド フイルムから作るのが好ま
しい。しかし、上記以外の他のフイルム厚さでも
良い積層体を作ることができる。フイルムは結合
する前にエタノールを含んだ布できれいに洗う。
塵粒、指紋等を除去するのに用いることのできる
任意の他の溶剤を積層にするフイルムを調整する
のに用いることができる。デユポン コンパニー
の「カプトンH」フイルムは後述する例に記載す
るポリイミド フイルム積層体の製造に用いるこ
とができ、また他の線状芳香族ポリイミドフイル
ムを本発明の方法により積層するのに用いること
ができる。 例えば、本発明の積層方法において用いること
のできるポリイミド フイルムは次の構造式を有
するポリイミドの群から選択することができる: (ここにArは
【式】または
【式】を示し、zは−O−、
【式】−C(CF3)2−、−S−、−SO2−、
【式】
【式】および
【式】から選択し、
およびAr′は
【式】または
【式】(ここにZ′は−O−、
【式】−S−、−SO2−、−CH2−、−C(CH3)2
−および−CHOH−を示し)を示す)。
本発明の方法により積層体を作るのに用いる熱
可塑性ポリイミド接着剤は、表にLARCで示し
ている線状芳香族LARCポリアミド酸の溶液を用
いて作ることができる。表に示しているLARC
−2、−3および−4接着剤の溶液はN,N−ジ
メチルアセトアミド(DMAc)またはビス(2
−メトキシメチル)−エーテル(ジグリメ
(diglyme))において15%固形分の濃度で使用す
る。他の溶剤としてはN,N−ジメチルホルムア
ミド、N−メチル−2−ピロリドンおよびジメチ
ルスルホキシドのようなアミド タイプの溶剤、
またはテトラヒドロフラン、m−およびp−ジオ
キサンおよび1,2−ビス(メトキシエトキシ)
エタンのようなエーテル タイプの溶剤を包含す
る。 B−段階工程は使用する接着剤および溶剤によ
り変えることができる。DMAcを接着剤用の溶
剤として用いる場合には、B−段階は空気中で直
接に接着剤で被覆した接着フイルムまたはポリイ
ミド フイルムを493K(428〓)に加熱し、この
温度に1時間維持して達成する。しかし、ジグリ
メを接着溶剤として用いる場合には、接着剤を発
泡しないようにするためにB−段階を徐々に行う
必要がある。ジグリメ−含有接着剤のためのB−
段階は空気中で373K(212〓)で1/2時間、453K
(356〓)で1時間および493K(428〓)で1時間
加熱することからなる。気孔の存在しない積層体
の望ましい形成は過剰の溶剤を完全に除去するB
−段階工程および積層にする前における接着剤ポ
リアミド酸のポリイミドへの熱転化に影響する。 LARCポリアミド酸は、本発明を説明する特定
の例において、接着剤として用いることができる
けれども、他の線状芳香族ポリアミド酸/ポリイ
ミドでも間違いなくB−段階にして溶剤除去およ
びイミド化できるならば用いることができる。ま
た、ここに記載する積層プロセスに使用すること
のできる接着剤溶液は、ポリイミドを積層化中、
加工性を維持するのに十分に低いガラス転移温度
(または軟化温度)で生成する必要がある。 616K(650〓)を上記プロセスにおける積層温
度とすることができるけれども、同じ品質の積層
体を作るには低温度で長時間または高温度で短時
間で達成することができる。644K(700〓)の積
層温度を5分間作用する場合には、生成積層体は
重合体の分解が生じて著しく黒ずむ。最良の結果
は、積層型を挿入する前に、プレスを505K(450
〓)に予熱する場合に得られる。次いで、プレス
板の温度を直ちに616K(650〓)に上げ、この温
度に5分間維持する。プレス板は開放する前に
373K(212〓)に空冷する。 望ましいポリイミド フイルムの積層化は
3.515Kg/cm2(50psi)、7.382Kg/cm2(150psi)お
よび21.092Kg/cm2(300psi)の圧力を用いて達成
することができる。平等に加圧する場合には、低
い圧力を用いることができる。70.307Kg/cm2
(1000psi)のように高い圧力を用いることができ
るが、形成する積層体の品位は向上しない。良好
な結果を得るためには、積層型を予熱板の間に配
置するや否や圧力を加え、この圧力をかかる板が
冷却するまで維持するようにする。最大温度を達
成した後に、積層体にポンピング作用
(bumping)(圧力を開放し、次いで再び同じ圧力
を加える)を試みることができる。このポンピン
グ作用は100%気孔を除去した積層体の成形に不
必要な過剰の揮発物を逃がすのに、しばしば用い
られる。望ましい圧縮ポリイミド積層体を得る最
終的な結果は圧力の均一分布に影響することを確
かめた。ポリイミド フイルム積層体とスチール
型との間に数層のガラス繊維織物(第5図)を用
いることは、積層体上に圧力を均一に分布する役
目をする。また、積層方法は積層型を真空パツク
で包囲して行うが、しかし系の排気は積層体の形
成に望ましくない。 ポリイミド フイルム積層体は上述する方法に
よつて77.4cm2(12インチ)〜645cm2(100インチ)
の種々の大きさに作ることができる。大面積の積
層体は、積層の全面積に均一な温度および圧力を
作用できる限りにおいて、本発明の方法を用いて
形成することができる。また、積層の厚さは変え
ることができ、8−層のポリイミド フイルム積
層(第6図)は100%気孔除去した可撓性の層を
有利に作ることができる。厚い積層は温度および
圧力要件を満たす限りにおいて作ることができ
る。 次に、本発明を実施例について説明する。 実施例 1 7.6cm(3インチ)×10.2cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、接着剤としてビス
(2−メトキシメチル)エーテル(ジグリメ)に
1モルの3,3′,4,4′−ベンゾフエノン テト
ラカルボン酸二無水物(BTDA)および1モル
の3,3′−ジアミノベンゾフエノン(3,3′−
DABP)(表に示すLARC−2接着剤)を溶解
した接着剤溶液を用い、0.076mm(3ミル)の
「カプトンH」フイルムから作つた。「カプトン」
フイルムには上記LARC−2接着剤溶液を常温で
ブラシ塗布し、低湿度環境(約20%)に15分間入
れた。次いで、接着剤を塗布した「カプトン」フ
イルムを強制通気炉において373K(212〓)で1/2
時間、453K(356〓)で1時間および493K(428
〓)で1時間処理してB−段階にした。被覆し、
B−段階にしたフイルムを、炉から取出す前に
373K(212〓)に冷却した。この工程で、接着剤
被覆から過剰の溶剤を除去し、該被覆は熱イミド
化し、および約0.013mm(0.5ミル)の厚さを有し
ていた。 次いで、積層を適当な剥離剤(テフロン、フリ
ーコテ等)を予じめ吹付けたスチール型に第5図
に示すように組合わせ、505K(450〓)に予熱し
たプレス板の間に挿入した。21.092Kg/cm2
(300psi)の圧力を加え、維持した。型を直ちに
616K(650〓)に加熱し、この温度に5分間維持
した。積層を373K(212〓)に加圧しながら冷却
した。 形成した積層体は透明な黄色を有し、完全に可
撓性で、かつ100%気孔除去率を有していた。剥
離試験を行つたが、最初に破損がポリイミド フ
イルムに生じたことを確かめた。 実施例 2 7.6cm(3インチ)×10.9cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、N,N−ジメチルア
セトアミド(DMAc)に1モルの3,3′,4,
4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸二無水物
(BTDA)および1モルの3,3′−ジアミノベン
ゾフエノン(3,3′−DABP)(表に示す
LARC−2接着剤)を溶解した接着剤溶液を用
い、0.025mm(1ミル)の「カプトン」フイルム
から作つた。接着フイルムはLARC−2接着剤の
15%DMAc溶液をガラス板上に流し、強制通気
炉において493K(428〓)で1時間B−段階にし
て作つた。ガラス板を取除く前に、炉を373K
(212〓)に冷却した。板を水道水に浸漬し、
0.025mm(1ミル)厚さの接着フイルムを板から
除去し、乾燥した。接着フイルムを積層の各側面
に2層の布と「カプトン」フイルムの2枚のシー
ト(第4図)の間に挿入し、第5図に示すように
スチール型に入れた。積層方法は実施例1に記載
すると同様に行い、実施例1におけると同様の結
果を得た。 実施例 3 カプトン積層体を、ビス(2−メトキシメチ
ル)エーテル(ジグリメ)に2モルの3,3′,
4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸二無
水物(BTDA)、および1モルのピロメリト酸二
無水物(PMDA)および3モルの3,3′−ジア
ミノベンゾフエノン(3,3′DABP)(表に示
すLARC−3接着剤)を溶解した接着剤溶液を用
い、実施例1に記載すると同様に行つて首尾よく
形成した。 実施例 4 カプトン積層体を、実施例1に用いたと同じ未
被覆「カプトン」シートと実施例1に記載すると
同様にして作つた接着剤−被覆「カプトン」シー
トとを合わせ、実施例1に記載すると同様に行つ
て形成した。「カプトン」シートの一方にだけに
接着剤を被覆したが、形成した積層体における可
撓性および気孔の存在しないことについては実施
例1におけると同様の結果を得た。 実施例 5 大面積25.4cm(10インチ)×25.4cm(10インチ)
のカプトン積層体を、実施例1に記載したと同じ
「カプトン」シートおよび接着剤を用い、実施例
1に記載すると同様に行つて首尾よく形成した。 実施例 6 カプトン積層体を、実施例1に記載したと同じ
「カプトン」シートおよび接着剤を用い、積層中
3.513Kg/cm2(50psi)の圧力を用い、実施例1に
記載すると同様に行つて首尾よく形成した。 実施例 7 カプトン積層体を、0.013mm(0.5ミル)の実施
例1に記載すると同じ「カプトン」シートおよび
接着剤を用い、実施例1に記載すると同様に行つ
て首尾よく形成した。 実施例 8 カプトン積層体を、0.127mm(5ミル)の実施
例1に記載すると同じ「カプトン」シートおよび
接着剤を用い、実施例1に記載すると同様に行つ
て首尾よく形成した。 実施例 9 8−層のカプトン積層体を、実施例1に記載す
ると同じ「カプトン」シートおよび接着剤を用
い、実施例1に記載すると同様に行つて首尾よく
形成した。8−層の積層は第6図に示すように組
合わせた。 実施例 10 7.6cm(3インチ)×10.2cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、ビス(2−メトキシ
メチル)エーテル(ジグリメ)に1モルの3,
3′,4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸
二無水物(BTDA)および1モルの3,3′−ジア
ミノベンゾフエノン(3,3′−DABP)(表に
示すLARC−2接着剤)を溶解した接着剤溶液お
よび0.025mm(1ミル)のBTDA+ODAポリイミ
ド フイルムを用いて形成した。 積層すべき上記BTDA+ODAポリイミド フ
イルムは、15%固形重量分でN,N−ジメチルア
セトアミド(DMAc)において4,4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)お
よび4,4′−オキシジアニリン(ODA)を1:
1化学量論的割合で反応させて作つた。1.14の固
有粘度を与える生成高分子量ポリアミド酸をガラ
ス板上に注ぎ、強制通気炉において1時間300℃
で加熱した。硬化して形成したポリイミド
(BTDA+ODA)フイルムを板から取除き、
LARC−2接着剤に対する被接着体として用い
た。 LARC−2接着剤をBTDA+ODAポリイミド
フイルム上にブラシ塗布し、強制通気炉におい
て1時間、493K(428〓)でB−段階状態にした。
次いで、LARC−2を被着したBTDA+ODAフ
イルムの2枚のシートを第5図に示すように組合
わせ、実施例1に記載すると同様に行つて積層に
した。形成した積層体は透明な黄色を有し、可撓
性でかつ100%気孔除去率を有していた。積層は
剥離しなかつた。
可塑性ポリイミド接着剤は、表にLARCで示し
ている線状芳香族LARCポリアミド酸の溶液を用
いて作ることができる。表に示しているLARC
−2、−3および−4接着剤の溶液はN,N−ジ
メチルアセトアミド(DMAc)またはビス(2
−メトキシメチル)−エーテル(ジグリメ
(diglyme))において15%固形分の濃度で使用す
る。他の溶剤としてはN,N−ジメチルホルムア
ミド、N−メチル−2−ピロリドンおよびジメチ
ルスルホキシドのようなアミド タイプの溶剤、
またはテトラヒドロフラン、m−およびp−ジオ
キサンおよび1,2−ビス(メトキシエトキシ)
エタンのようなエーテル タイプの溶剤を包含す
る。 B−段階工程は使用する接着剤および溶剤によ
り変えることができる。DMAcを接着剤用の溶
剤として用いる場合には、B−段階は空気中で直
接に接着剤で被覆した接着フイルムまたはポリイ
ミド フイルムを493K(428〓)に加熱し、この
温度に1時間維持して達成する。しかし、ジグリ
メを接着溶剤として用いる場合には、接着剤を発
泡しないようにするためにB−段階を徐々に行う
必要がある。ジグリメ−含有接着剤のためのB−
段階は空気中で373K(212〓)で1/2時間、453K
(356〓)で1時間および493K(428〓)で1時間
加熱することからなる。気孔の存在しない積層体
の望ましい形成は過剰の溶剤を完全に除去するB
−段階工程および積層にする前における接着剤ポ
リアミド酸のポリイミドへの熱転化に影響する。 LARCポリアミド酸は、本発明を説明する特定
の例において、接着剤として用いることができる
けれども、他の線状芳香族ポリアミド酸/ポリイ
ミドでも間違いなくB−段階にして溶剤除去およ
びイミド化できるならば用いることができる。ま
た、ここに記載する積層プロセスに使用すること
のできる接着剤溶液は、ポリイミドを積層化中、
加工性を維持するのに十分に低いガラス転移温度
(または軟化温度)で生成する必要がある。 616K(650〓)を上記プロセスにおける積層温
度とすることができるけれども、同じ品質の積層
体を作るには低温度で長時間または高温度で短時
間で達成することができる。644K(700〓)の積
層温度を5分間作用する場合には、生成積層体は
重合体の分解が生じて著しく黒ずむ。最良の結果
は、積層型を挿入する前に、プレスを505K(450
〓)に予熱する場合に得られる。次いで、プレス
板の温度を直ちに616K(650〓)に上げ、この温
度に5分間維持する。プレス板は開放する前に
373K(212〓)に空冷する。 望ましいポリイミド フイルムの積層化は
3.515Kg/cm2(50psi)、7.382Kg/cm2(150psi)お
よび21.092Kg/cm2(300psi)の圧力を用いて達成
することができる。平等に加圧する場合には、低
い圧力を用いることができる。70.307Kg/cm2
(1000psi)のように高い圧力を用いることができ
るが、形成する積層体の品位は向上しない。良好
な結果を得るためには、積層型を予熱板の間に配
置するや否や圧力を加え、この圧力をかかる板が
冷却するまで維持するようにする。最大温度を達
成した後に、積層体にポンピング作用
(bumping)(圧力を開放し、次いで再び同じ圧力
を加える)を試みることができる。このポンピン
グ作用は100%気孔を除去した積層体の成形に不
必要な過剰の揮発物を逃がすのに、しばしば用い
られる。望ましい圧縮ポリイミド積層体を得る最
終的な結果は圧力の均一分布に影響することを確
かめた。ポリイミド フイルム積層体とスチール
型との間に数層のガラス繊維織物(第5図)を用
いることは、積層体上に圧力を均一に分布する役
目をする。また、積層方法は積層型を真空パツク
で包囲して行うが、しかし系の排気は積層体の形
成に望ましくない。 ポリイミド フイルム積層体は上述する方法に
よつて77.4cm2(12インチ)〜645cm2(100インチ)
の種々の大きさに作ることができる。大面積の積
層体は、積層の全面積に均一な温度および圧力を
作用できる限りにおいて、本発明の方法を用いて
形成することができる。また、積層の厚さは変え
ることができ、8−層のポリイミド フイルム積
層(第6図)は100%気孔除去した可撓性の層を
有利に作ることができる。厚い積層は温度および
圧力要件を満たす限りにおいて作ることができ
る。 次に、本発明を実施例について説明する。 実施例 1 7.6cm(3インチ)×10.2cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、接着剤としてビス
(2−メトキシメチル)エーテル(ジグリメ)に
1モルの3,3′,4,4′−ベンゾフエノン テト
ラカルボン酸二無水物(BTDA)および1モル
の3,3′−ジアミノベンゾフエノン(3,3′−
DABP)(表に示すLARC−2接着剤)を溶解
した接着剤溶液を用い、0.076mm(3ミル)の
「カプトンH」フイルムから作つた。「カプトン」
フイルムには上記LARC−2接着剤溶液を常温で
ブラシ塗布し、低湿度環境(約20%)に15分間入
れた。次いで、接着剤を塗布した「カプトン」フ
イルムを強制通気炉において373K(212〓)で1/2
時間、453K(356〓)で1時間および493K(428
〓)で1時間処理してB−段階にした。被覆し、
B−段階にしたフイルムを、炉から取出す前に
373K(212〓)に冷却した。この工程で、接着剤
被覆から過剰の溶剤を除去し、該被覆は熱イミド
化し、および約0.013mm(0.5ミル)の厚さを有し
ていた。 次いで、積層を適当な剥離剤(テフロン、フリ
ーコテ等)を予じめ吹付けたスチール型に第5図
に示すように組合わせ、505K(450〓)に予熱し
たプレス板の間に挿入した。21.092Kg/cm2
(300psi)の圧力を加え、維持した。型を直ちに
616K(650〓)に加熱し、この温度に5分間維持
した。積層を373K(212〓)に加圧しながら冷却
した。 形成した積層体は透明な黄色を有し、完全に可
撓性で、かつ100%気孔除去率を有していた。剥
離試験を行つたが、最初に破損がポリイミド フ
イルムに生じたことを確かめた。 実施例 2 7.6cm(3インチ)×10.9cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、N,N−ジメチルア
セトアミド(DMAc)に1モルの3,3′,4,
4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸二無水物
(BTDA)および1モルの3,3′−ジアミノベン
ゾフエノン(3,3′−DABP)(表に示す
LARC−2接着剤)を溶解した接着剤溶液を用
い、0.025mm(1ミル)の「カプトン」フイルム
から作つた。接着フイルムはLARC−2接着剤の
15%DMAc溶液をガラス板上に流し、強制通気
炉において493K(428〓)で1時間B−段階にし
て作つた。ガラス板を取除く前に、炉を373K
(212〓)に冷却した。板を水道水に浸漬し、
0.025mm(1ミル)厚さの接着フイルムを板から
除去し、乾燥した。接着フイルムを積層の各側面
に2層の布と「カプトン」フイルムの2枚のシー
ト(第4図)の間に挿入し、第5図に示すように
スチール型に入れた。積層方法は実施例1に記載
すると同様に行い、実施例1におけると同様の結
果を得た。 実施例 3 カプトン積層体を、ビス(2−メトキシメチ
ル)エーテル(ジグリメ)に2モルの3,3′,
4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸二無
水物(BTDA)、および1モルのピロメリト酸二
無水物(PMDA)および3モルの3,3′−ジア
ミノベンゾフエノン(3,3′DABP)(表に示
すLARC−3接着剤)を溶解した接着剤溶液を用
い、実施例1に記載すると同様に行つて首尾よく
形成した。 実施例 4 カプトン積層体を、実施例1に用いたと同じ未
被覆「カプトン」シートと実施例1に記載すると
同様にして作つた接着剤−被覆「カプトン」シー
トとを合わせ、実施例1に記載すると同様に行つ
て形成した。「カプトン」シートの一方にだけに
接着剤を被覆したが、形成した積層体における可
撓性および気孔の存在しないことについては実施
例1におけると同様の結果を得た。 実施例 5 大面積25.4cm(10インチ)×25.4cm(10インチ)
のカプトン積層体を、実施例1に記載したと同じ
「カプトン」シートおよび接着剤を用い、実施例
1に記載すると同様に行つて首尾よく形成した。 実施例 6 カプトン積層体を、実施例1に記載したと同じ
「カプトン」シートおよび接着剤を用い、積層中
3.513Kg/cm2(50psi)の圧力を用い、実施例1に
記載すると同様に行つて首尾よく形成した。 実施例 7 カプトン積層体を、0.013mm(0.5ミル)の実施
例1に記載すると同じ「カプトン」シートおよび
接着剤を用い、実施例1に記載すると同様に行つ
て首尾よく形成した。 実施例 8 カプトン積層体を、0.127mm(5ミル)の実施
例1に記載すると同じ「カプトン」シートおよび
接着剤を用い、実施例1に記載すると同様に行つ
て首尾よく形成した。 実施例 9 8−層のカプトン積層体を、実施例1に記載す
ると同じ「カプトン」シートおよび接着剤を用
い、実施例1に記載すると同様に行つて首尾よく
形成した。8−層の積層は第6図に示すように組
合わせた。 実施例 10 7.6cm(3インチ)×10.2cm(4インチ)のポリ
イミド フイルム積層体を、ビス(2−メトキシ
メチル)エーテル(ジグリメ)に1モルの3,
3′,4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボン酸
二無水物(BTDA)および1モルの3,3′−ジア
ミノベンゾフエノン(3,3′−DABP)(表に
示すLARC−2接着剤)を溶解した接着剤溶液お
よび0.025mm(1ミル)のBTDA+ODAポリイミ
ド フイルムを用いて形成した。 積層すべき上記BTDA+ODAポリイミド フ
イルムは、15%固形重量分でN,N−ジメチルア
セトアミド(DMAc)において4,4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)お
よび4,4′−オキシジアニリン(ODA)を1:
1化学量論的割合で反応させて作つた。1.14の固
有粘度を与える生成高分子量ポリアミド酸をガラ
ス板上に注ぎ、強制通気炉において1時間300℃
で加熱した。硬化して形成したポリイミド
(BTDA+ODA)フイルムを板から取除き、
LARC−2接着剤に対する被接着体として用い
た。 LARC−2接着剤をBTDA+ODAポリイミド
フイルム上にブラシ塗布し、強制通気炉におい
て1時間、493K(428〓)でB−段階状態にした。
次いで、LARC−2を被着したBTDA+ODAフ
イルムの2枚のシートを第5図に示すように組合
わせ、実施例1に記載すると同様に行つて積層に
した。形成した積層体は透明な黄色を有し、可撓
性でかつ100%気孔除去率を有していた。積層は
剥離しなかつた。
第1図は本発明の方法に用いる接着剤の熱安定
性を示す曲線図、第2図は高温に曝した場合に本
発明において用いる接着剤の接着結合により生ず
る接着強度を示す曲線図、第3図は本発明の方法
の実施において、一対の結合すべきポリイミド
フイルム セクシヨンの1枚のシートに被着した
液体接着剤を示す説明用線図、第4図は本発明の
方法の実施においてポリイミド フイルムの2枚
のシート間に接着剤としてB−段階接着フイルム
を使用した場合を示す説明用線図、第5図は本発
明の方法により2層のポリイミド フイルムを貼
合わせる金型の組立状態を示す説明用線図、およ
び第6図は本発明の方法により積層するために配
置した多層ポリイミド フイルムを示す説明用線
図である。
性を示す曲線図、第2図は高温に曝した場合に本
発明において用いる接着剤の接着結合により生ず
る接着強度を示す曲線図、第3図は本発明の方法
の実施において、一対の結合すべきポリイミド
フイルム セクシヨンの1枚のシートに被着した
液体接着剤を示す説明用線図、第4図は本発明の
方法の実施においてポリイミド フイルムの2枚
のシート間に接着剤としてB−段階接着フイルム
を使用した場合を示す説明用線図、第5図は本発
明の方法により2層のポリイミド フイルムを貼
合わせる金型の組立状態を示す説明用線図、およ
び第6図は本発明の方法により積層するために配
置した多層ポリイミド フイルムを示す説明用線
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも2層の薄いポリイミド フイル
ム;およびこの少なくとも2層のポリイミド フ
イルム間の少なくとも1層のポリイミド接着剤層
からなり、前記2層のポリイミド フイルムおよ
び接着剤層を積層に形成し;前記ポリイミド接着
剤層はポリイミド フイルム積層に合体する前に
ポリイミド状態にイミド化するポリアミド酸と
し;および前記フイルム−接着剤積層を加熱およ
び加圧により前記積層を熱可塑的に結合して気孔
の存在しない積層構造に形成し、および前記ポリ
イミド接着剤を(a)3,3′,4,4′−ベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸二無水物および3,3′−ジア
ミノベンゾフエノン、(b)2部の3,3′,4,4′−
ベンゾフエノン テトラカルボン酸二無水物+1
部のピロメリト酸二無水物および3部の3,3′−
ジアミノベンゾフエノン、および(c)3部の3,
3′,4,4′ベンゾフエノン テトラカルボン酸二
無水物+1部のピロメリト酸二無水物および4部
の4,4′−ジアミノベンゾフエノンの反応生成物
からなる接着剤群から選択したことを特徴とする
耐熱性ポリイミド フイルム積層体。 2 ポリイミド接着剤を1層のポリイミド フイ
ルムにポリアミド酸として被着し、この被着層を
積層に合体する前に前記接着剤層をイミド化する
高められた温度に加熱した特許請求の範囲第1項
記載の積層体。 3 ポリイミド接着剤層を調製し、イミド化し
て、ポリイミド フイルム層の1層上に位置する
前にフリーフイルムを形成した特許請求の範囲第
1項記載の積層体。 4 ポリイミド フイルム層は(a)ピロメリト酸二
無水物および4,4′−オキシジアニリンおよび(b)
3,3′,4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボ
ン酸二無水物および4,4′−オキシジアニリンの
反応生成物として形成したポリイミドからなる群
から形成した特許請求の範囲第1項記載の積層
体。 5 少なくとも2層の薄いポリイミド フイルム
を設け、この少なくとも2層のポリイミド フイ
ルムの1層に少なくとも1層のポリイミド接着剤
を被着し、上記少なくとも2層のポリイミド フ
イルムを合体して積層を形成し;前記ポリイミド
接着剤はポリアミド酸をポリイミド フイルム積
層の合体前にポリイミド状態にイミド化し;およ
び このフイルム−接着剤積層に熱および圧力を作
用させて積層を気孔の存在しない積層構造に熱可
塑的に結合し、および前記ポリイミド接着剤を(a)
3,3′,4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボ
ン酸二無水物および3,3′−ジアミノベンゾフエ
ノン、(b)2部の3,3′,4,4′ベンゾフエノン
テトラカルボン酸二無水物+1部のピロメリト酸
二無水物および3部の3,3′−ジアミノベンゾフ
エノン、および(c)3部の3,3′,4,4′ひくベン
ゾフエノン テトラカルボン酸二無水物+1部の
ピロメリト酸二無水物および4部の4,4′−ジア
ミノベンゾフエノンの反応生成物からなる接着剤
群から選択することを特徴とする耐熱性ポリイミ
ド フイルムの積層方法。 6 ポリイミド接着剤を液体状態にし、この接着
剤をポリイミド フイルムの1層のみに塗布し、
この被覆層を高温に加熱して積層を合体する前に
接着剤層をイミド化する特許請求の範囲第5項記
載の積層方法。 7 ポリイミド接着剤のフイルムを調製し、ポリ
イミド フイルムの1層に配置する前にイミド化
する特許請求の範囲第5項記載の方法。 8 スチール加圧型を設け;型表面に離型剤の薄
層を吹付け;スチール プレス板を505Kに予熱
し;ポリイミド フイルム−接着剤積層をプレス
板間に挿入し、これに50〜300psiの範囲の圧力を
作用させ;このプレス板を616Kに加熱し、この
温度および圧力を5分間にわたり維持し;加熱を
停止し、373Kに冷却し;加圧型からイミド積層
を取去り、この積層を常温に冷却して透明で可撓
性の気孔の存在しない積層構造を得る特許請求の
範囲第7項記載の方法。 9 ポリイミド フイルム層は(a)ピロメリト酸二
無水物および4,4′−オキシジアニリンおよび(b)
3,3′,4,4′−ベンゾフエノン テトラカルボ
ン酸二無水物および4,4′−オキシジアニリンの
反応生成物として形成したポリイミドからなる群
から選択する特許請求の範囲第5項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18923480A | 1980-09-22 | 1980-09-22 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1250843A Division JPH02147236A (ja) | 1980-09-22 | 1989-09-28 | 耐熱性ポリイミド フィルム―金属箔積層体およびその積層方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5763254A JPS5763254A (en) | 1982-04-16 |
| JPH029866B2 true JPH029866B2 (ja) | 1990-03-05 |
Family
ID=22696510
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56121770A Granted JPS5763254A (en) | 1980-09-22 | 1981-08-03 | Method of laminating heatproof polyimide film |
| JP1250843A Pending JPH02147236A (ja) | 1980-09-22 | 1989-09-28 | 耐熱性ポリイミド フィルム―金属箔積層体およびその積層方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1250843A Pending JPH02147236A (ja) | 1980-09-22 | 1989-09-28 | 耐熱性ポリイミド フィルム―金属箔積層体およびその積層方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0048315B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5763254A (ja) |
| CA (1) | CA1198662A (ja) |
| DE (1) | DE3169792D1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4871619A (en) * | 1983-11-30 | 1989-10-03 | International Business Machines Corporation | Electronic components comprising polymide dielectric layers |
| DE3424232A1 (de) * | 1984-06-30 | 1986-01-23 | Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal | Flexible polyimid-mehrschicht-laminate |
| FR2575965A1 (fr) * | 1985-01-16 | 1986-07-18 | Rogers Corp | Procede de fabrication de bande pour la fabrication automatique des circuits integres et bande obtenue par ce procede |
| DE3506526A1 (de) * | 1985-02-25 | 1986-08-28 | Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal | Gedrucktes schaltelement mit polyimid enthaltender deckschicht |
| DE3506524A1 (de) * | 1985-02-25 | 1986-08-28 | Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal | Flexible polyimid-mehrschichtlaminate |
| JPH0686534B2 (ja) * | 1985-10-31 | 1994-11-02 | 三井東圧化学株式会社 | フレキシブルプリント回路基板の製造法 |
| JPS6368641A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミド成形品の表面処理方法 |
| JPH0781119B2 (ja) * | 1986-10-16 | 1995-08-30 | 日立化成工業株式会社 | ポリイミド成形品の製造法 |
| US4859530A (en) * | 1987-07-09 | 1989-08-22 | Ethyl Corporation | High temperature adhesive for polymide films |
| JPH0616105B2 (ja) * | 1988-10-19 | 1994-03-02 | 横河メディカルシステム株式会社 | 多チャンネル電離箱型x線検出器 |
| JP2686836B2 (ja) * | 1990-01-23 | 1997-12-08 | ジーイー横河メディカルシステム株式会社 | 多チャンネル電離箱型x線検出器 |
| JP4502441B2 (ja) * | 2000-02-16 | 2010-07-14 | 共同印刷株式会社 | 接着剤による透明導電膜の支持方法および層構成 |
| DE10026714A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-13 | Hueck Folien Gmbh | Verbundfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE10229950A1 (de) * | 2002-07-03 | 2004-01-29 | Leoni Kabel Gmbh & Co. Kg | Flachleiter-Bandleitung |
| US7951251B2 (en) | 2004-01-13 | 2011-05-31 | Kaneka Corporation | Adhesive film, flexible metal-clad laminate including the same with improved dimensional stability, and production method therefor |
| US9624412B2 (en) * | 2012-08-21 | 2017-04-18 | Fraivillig Technologies Company | Robust interface bonding with B-staged thermoplastic polyimide adhesive |
| DE102014011060B4 (de) * | 2014-07-23 | 2019-11-07 | Acs Coating Systems Gmbh | Beschichtete Metallfolie |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3449193A (en) * | 1966-03-07 | 1969-06-10 | Schjeldahl Co G T | Method of bonding polyimide films |
| US3620907A (en) * | 1969-10-31 | 1971-11-16 | Du Pont | Laminate with layers of polyimide and polyamide |
| NL7019087A (ja) * | 1970-01-13 | 1971-07-15 | ||
| US3770573A (en) * | 1971-06-08 | 1973-11-06 | Du Pont | Interdiffusionally bonded structures of polyimide polymeric material |
| US3740305A (en) * | 1971-10-01 | 1973-06-19 | Gen Electric | Composite materials bonded with siloxane containing polyimides |
| JPS5225267A (en) * | 1975-08-20 | 1977-02-25 | Hitachi Chemical Co Ltd | Method of manufacturing multilayered printed circuit board |
| US4183839A (en) * | 1976-04-08 | 1980-01-15 | John V. Long | Polyimide resin-forming composition |
| JPS5518426A (en) * | 1978-07-27 | 1980-02-08 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Heat-resistant flexible electronic parts |
-
1981
- 1981-04-23 CA CA000376009A patent/CA1198662A/en not_active Expired
- 1981-05-07 EP EP81103464A patent/EP0048315B1/en not_active Expired
- 1981-05-07 DE DE8181103464T patent/DE3169792D1/de not_active Expired
- 1981-08-03 JP JP56121770A patent/JPS5763254A/ja active Granted
-
1989
- 1989-09-28 JP JP1250843A patent/JPH02147236A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02147236A (ja) | 1990-06-06 |
| CA1198662A (en) | 1985-12-31 |
| EP0048315B1 (en) | 1985-04-10 |
| EP0048315A3 (en) | 1982-06-16 |
| EP0048315A2 (en) | 1982-03-31 |
| JPS5763254A (en) | 1982-04-16 |
| DE3169792D1 (en) | 1985-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4543295A (en) | High temperature polyimide film laminates and process for preparation thereof | |
| JP2907598B2 (ja) | 柔軟な多層ポリイミドフィルム積層品及びそれらの製造法 | |
| US5525405A (en) | Adhesiveless aromatic polyimide laminate | |
| JP5251508B2 (ja) | 耐熱性フィルム金属箔積層体、およびその製造方法 | |
| JPH02147236A (ja) | 耐熱性ポリイミド フィルム―金属箔積層体およびその積層方法 | |
| JP2001072781A (ja) | ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板 | |
| JP5716493B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法、ポリイミドフィルムおよびそれを用いたポリイミド金属積層体 | |
| KR20010082630A (ko) | 폴리이미드와 도체 층을 포함하는 적층물, 이를 사용한다층 배선판 및 이의 제조방법 | |
| EP0489429A1 (en) | Method of producing flexible printed-circuit board covered with cover layer | |
| JP5609891B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法、およびポリイミドフィルム | |
| JPH08224843A (ja) | 多層芳香族ポリイミドフィルム | |
| EP0389951B1 (en) | Heat resistant adhesive composition and bonding method using the same | |
| JP2006521221A (ja) | 両面金属積層板及びその製造方法 | |
| JPH08244168A (ja) | 金属箔積層ポリイミドフィルムの製造法 | |
| JP3167421B2 (ja) | ポリアミック酸フィルム | |
| JP5499555B2 (ja) | ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法 | |
| JP3299333B2 (ja) | ポリアミック酸フィルムおよびそれを用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法 | |
| TWI388260B (zh) | Single - sided soft copper foil laminated board and its manufacturing method | |
| US5171826A (en) | Heat resistant adhesive composition and bonding method using the same | |
| JP2612118B2 (ja) | 両面フレキシブル印刷回路用基板の製造方法 | |
| JPH0812856A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、接着剤シート、接着剤付き金属はく、接着剤付きポリイミドフィルム及び金属はく張りポリイミドフィルム | |
| JP2001139807A (ja) | 耐熱性ボンディングシートの製造方法 | |
| JPH05291710A (ja) | フレキシブルプリント基板およびその製造方法 | |
| JPH10226778A (ja) | 耐熱性樹脂接着剤シ−トおよび基板 | |
| JPH05152699A (ja) | 両面基板およびその製造方法 |