JPH0310036A - 半導体機器用リード材 - Google Patents
半導体機器用リード材Info
- Publication number
- JPH0310036A JPH0310036A JP25070589A JP25070589A JPH0310036A JP H0310036 A JPH0310036 A JP H0310036A JP 25070589 A JP25070589 A JP 25070589A JP 25070589 A JP25070589 A JP 25070589A JP H0310036 A JPH0310036 A JP H0310036A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead material
- alloy
- weight
- rolled
- copper alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、i〜ランジスタや集積回路(IC)などの半
導体機器のリード材に適する銅合金に関するものである
。
導体機器のリード材に適する銅合金に関するものである
。
従来、半導体機器のリード材としては、熱膨張係数が低
く、素子およびセラミックスとの接着および封着性の良
好なコバール合金、42合金などの高ニッケル合金が好
んで使われてきた。
く、素子およびセラミックスとの接着および封着性の良
好なコバール合金、42合金などの高ニッケル合金が好
んで使われてきた。
しかし、近年、半導体回路の集積度の向上に伴い、消*
電力の高いICが多くなってきたため、使用されるリー
ド線も放熱性、熱伝導性が良好な銅基合金が使われるよ
うになってきた。
電力の高いICが多くなってきたため、使用されるリー
ド線も放熱性、熱伝導性が良好な銅基合金が使われるよ
うになってきた。
しかし、リード線としては、熱伝導性が良い、耐熱性が
良い、半田付は性、めっき密着性が良い、強度が高い、
耐食性がある。廉価である等の広範な諸条件を全て満足
する必要がある。
良い、半田付は性、めっき密着性が良い、強度が高い、
耐食性がある。廉価である等の広範な諸条件を全て満足
する必要がある。
そこで本出願人は、先に安価で諸特性が優れた銅合金を
開発した(特願昭55−183967→特開昭57−1
09357、特願昭56−1630→特開昭57−11
6738)が、本発明は、この合金を半導体機器のリー
ド材として用いるには、析出粒子の大きさを厳密に調整
する必要があり、特に、半田付は性、めっき密着性を良
好にするには、析出粒子を5μm以下にする必要がある
ことを見出した。
開発した(特願昭55−183967→特開昭57−1
09357、特願昭56−1630→特開昭57−11
6738)が、本発明は、この合金を半導体機器のリー
ド材として用いるには、析出粒子の大きさを厳密に調整
する必要があり、特に、半田付は性、めっき密着性を良
好にするには、析出粒子を5μm以下にする必要がある
ことを見出した。
そして本発明は、ニッケル0.4〜4.0重量%、けい
素0.1〜1.0重量%、銅及び不可避不純物からなる
リード材用銅合金の析出粒子が5μm以下である半導体
機器用リード材。
素0.1〜1.0重量%、銅及び不可避不純物からなる
リード材用銅合金の析出粒子が5μm以下である半導体
機器用リード材。
本発明に係る合金は、リード材に要求される放熱性、耐
熱性、強度、半田付は性、めっき密着性等のすべてが良
好なるものである。
熱性、強度、半田付は性、めっき密着性等のすべてが良
好なるものである。
次に1合金成分の限定理由を説明する。ニッケルの含有
量を0.4〜4.0の重量%とする理由はニッケルの含
有量が0.4重量%未満では、けい素を0.1重量%以
上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金が得られ
ず、逆にニッケル含有量が4.0重量%を超えると加工
性が低下し、半田付は性も低下する為である。
量を0.4〜4.0の重量%とする理由はニッケルの含
有量が0.4重量%未満では、けい素を0.1重量%以
上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金が得られ
ず、逆にニッケル含有量が4.0重量%を超えると加工
性が低下し、半田付は性も低下する為である。
けい素含有量を0.1〜1.0重量%とじた理由は、け
い素含有量が0.1重量%未満ではニッケルを0.4′
重量%以上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金
が得られず、 けい素含有量が1.0重量%を超えると
加工性、導電性の低下が著しくなり、また半田付は性も
低下する為である。
い素含有量が0.1重量%未満ではニッケルを0.4′
重量%以上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金
が得られず、 けい素含有量が1.0重量%を超えると
加工性、導電性の低下が著しくなり、また半田付は性も
低下する為である。
析出粒子を5μm以下にした理由は、5μmを超えると
半田付は性、めっき密着性が低下するためである。
半田付は性、めっき密着性が低下するためである。
以下、実施例について説明する。
第1表に示した組成の合金を溶解し、厚さ100mの鋳
塊を得た。次に鋳塊を約800℃で熱間圧延し、厚さ7
.5nnにした後、表面を固剤する。そして冷間圧延で
厚さ1.5mmにしだ後800℃で5分焼鈍し、最終冷
間圧延で0.8mmにし、420℃で6時間熱処理する
。
塊を得た。次に鋳塊を約800℃で熱間圧延し、厚さ7
.5nnにした後、表面を固剤する。そして冷間圧延で
厚さ1.5mmにしだ後800℃で5分焼鈍し、最終冷
間圧延で0.8mmにし、420℃で6時間熱処理する
。
なお、比較合金については時効処理等の条件を変えるこ
とによって析出粒子が第1表に示すように粗大化したも
のである。
とによって析出粒子が第1表に示すように粗大化したも
のである。
この試料を5重量%の硫酸で約10秒間酸洗し、引張強
さ、伸び、硬さを測定した。また半田付は性は垂直式浸
漬法で230℃の半田浴(スズ6〇−鉛40)に5秒間
浸漬し、ハンダのぬれの状態を目視観察した。まためっ
き密着性は、材料表面に、めっき厚さ5μm程度銀めっ
きし350℃で5分間加熱し。
さ、伸び、硬さを測定した。また半田付は性は垂直式浸
漬法で230℃の半田浴(スズ6〇−鉛40)に5秒間
浸漬し、ハンダのぬれの状態を目視観察した。まためっ
き密着性は、材料表面に、めっき厚さ5μm程度銀めっ
きし350℃で5分間加熱し。
放冷後目視にてふくれの有無で評価した。
第1表に示す如く本発明に係る合金は、析出粒子を5μ
m以下にすると、半導体機器のリード材として十分な強
度を具え、半田付は性、めっき密着性が良好であるため
、半導体機器のリード材として優れた合金となる。
m以下にすると、半導体機器のリード材として十分な強
度を具え、半田付は性、めっき密着性が良好であるため
、半導体機器のリード材として優れた合金となる。
以下余白
全文訂正明細書
平成1年10月18日
Claims (1)
- (1)ニッケル;0.4〜4.0重量%、 けい素;0.1〜1.0重量%、 銅及び不可避不純物;残 からなるリード材用銅合金の析出粒子が5μm以下であ
る半導体機器用リード材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25070589A JPH0310036A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 半導体機器用リード材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25070589A JPH0310036A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 半導体機器用リード材 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57006063A Division JPS6045698B2 (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | 半導体機器用リ−ド材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0310036A true JPH0310036A (ja) | 1991-01-17 |
| JPH0437151B2 JPH0437151B2 (ja) | 1992-06-18 |
Family
ID=17211820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25070589A Granted JPH0310036A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 半導体機器用リード材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0310036A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5178493A (en) * | 1989-11-16 | 1993-01-12 | Societe Civile Des Brevets De Henri Vidal | Counterfort wall |
| US7413619B2 (en) | 2005-03-11 | 2008-08-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Copper alloy |
| JP2010242154A (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | 銅合金及びその製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US307250A (en) * | 1884-10-28 | Safe-lock for toy banks | ||
| US2137282A (en) * | 1938-08-12 | 1938-11-22 | Mallory & Co Inc P R | Copper alloys |
| GB522482A (en) * | 1938-11-28 | 1940-06-19 | Mallory & Co Inc P R | Improvements in and relating to the production of copper base alloys |
| JPS572851A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Nippon Mining Co Ltd | Copper alloy for lead material of semiconductor device |
| JPS5895850A (ja) * | 1981-12-02 | 1983-06-07 | Kobe Steel Ltd | 集積回路のリ−ドフレ−ム用銅合金 |
-
1989
- 1989-09-28 JP JP25070589A patent/JPH0310036A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US307250A (en) * | 1884-10-28 | Safe-lock for toy banks | ||
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| JPS572851A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Nippon Mining Co Ltd | Copper alloy for lead material of semiconductor device |
| JPS5895850A (ja) * | 1981-12-02 | 1983-06-07 | Kobe Steel Ltd | 集積回路のリ−ドフレ−ム用銅合金 |
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| US5178493A (en) * | 1989-11-16 | 1993-01-12 | Societe Civile Des Brevets De Henri Vidal | Counterfort wall |
| US7413619B2 (en) | 2005-03-11 | 2008-08-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Copper alloy |
| US7727345B2 (en) | 2005-03-11 | 2010-06-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Copper alloy and method of manufacturing the same |
| DE102006010760B4 (de) * | 2005-03-11 | 2014-03-27 | Mitsubishi Denki K.K. | Kupferlegierung und Verfahren zur Herstellung derselben |
| JP2010242154A (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | 銅合金及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0437151B2 (ja) | 1992-06-18 |
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