JPH0310036A - 半導体機器用リード材 - Google Patents

半導体機器用リード材

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JPH0310036A
JPH0310036A JP25070589A JP25070589A JPH0310036A JP H0310036 A JPH0310036 A JP H0310036A JP 25070589 A JP25070589 A JP 25070589A JP 25070589 A JP25070589 A JP 25070589A JP H0310036 A JPH0310036 A JP H0310036A
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JP
Japan
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lead material
alloy
weight
rolled
copper alloy
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Application number
JP25070589A
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English (en)
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JPH0437151B2 (ja
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Michiharu Yamamoto
山本 道晴
Susumu Kawauchi
川内 進
Masahiro Tsuji
正博 辻
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、i〜ランジスタや集積回路(IC)などの半
導体機器のリード材に適する銅合金に関するものである
〔従来技術と問題点〕
従来、半導体機器のリード材としては、熱膨張係数が低
く、素子およびセラミックスとの接着および封着性の良
好なコバール合金、42合金などの高ニッケル合金が好
んで使われてきた。
しかし、近年、半導体回路の集積度の向上に伴い、消*
電力の高いICが多くなってきたため、使用されるリー
ド線も放熱性、熱伝導性が良好な銅基合金が使われるよ
うになってきた。
しかし、リード線としては、熱伝導性が良い、耐熱性が
良い、半田付は性、めっき密着性が良い、強度が高い、
耐食性がある。廉価である等の広範な諸条件を全て満足
する必要がある。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで本出願人は、先に安価で諸特性が優れた銅合金を
開発した(特願昭55−183967→特開昭57−1
09357、特願昭56−1630→特開昭57−11
6738)が、本発明は、この合金を半導体機器のリー
ド材として用いるには、析出粒子の大きさを厳密に調整
する必要があり、特に、半田付は性、めっき密着性を良
好にするには、析出粒子を5μm以下にする必要がある
ことを見出した。
そして本発明は、ニッケル0.4〜4.0重量%、けい
素0.1〜1.0重量%、銅及び不可避不純物からなる
リード材用銅合金の析出粒子が5μm以下である半導体
機器用リード材。
本発明に係る合金は、リード材に要求される放熱性、耐
熱性、強度、半田付は性、めっき密着性等のすべてが良
好なるものである。
〔発明の詳細な説明〕
次に1合金成分の限定理由を説明する。ニッケルの含有
量を0.4〜4.0の重量%とする理由はニッケルの含
有量が0.4重量%未満では、けい素を0.1重量%以
上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金が得られ
ず、逆にニッケル含有量が4.0重量%を超えると加工
性が低下し、半田付は性も低下する為である。
けい素含有量を0.1〜1.0重量%とじた理由は、け
い素含有量が0.1重量%未満ではニッケルを0.4′
重量%以上添加しても高強度でかつ高導電性を示す合金
が得られず、 けい素含有量が1.0重量%を超えると
加工性、導電性の低下が著しくなり、また半田付は性も
低下する為である。
析出粒子を5μm以下にした理由は、5μmを超えると
半田付は性、めっき密着性が低下するためである。
以下、実施例について説明する。
〔実施例〕
第1表に示した組成の合金を溶解し、厚さ100mの鋳
塊を得た。次に鋳塊を約800℃で熱間圧延し、厚さ7
.5nnにした後、表面を固剤する。そして冷間圧延で
厚さ1.5mmにしだ後800℃で5分焼鈍し、最終冷
間圧延で0.8mmにし、420℃で6時間熱処理する
なお、比較合金については時効処理等の条件を変えるこ
とによって析出粒子が第1表に示すように粗大化したも
のである。
この試料を5重量%の硫酸で約10秒間酸洗し、引張強
さ、伸び、硬さを測定した。また半田付は性は垂直式浸
漬法で230℃の半田浴(スズ6〇−鉛40)に5秒間
浸漬し、ハンダのぬれの状態を目視観察した。まためっ
き密着性は、材料表面に、めっき厚さ5μm程度銀めっ
きし350℃で5分間加熱し。
放冷後目視にてふくれの有無で評価した。
第1表に示す如く本発明に係る合金は、析出粒子を5μ
m以下にすると、半導体機器のリード材として十分な強
度を具え、半田付は性、めっき密着性が良好であるため
、半導体機器のリード材として優れた合金となる。
以下余白 全文訂正明細書 平成1年10月18日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ニッケル;0.4〜4.0重量%、 けい素;0.1〜1.0重量%、 銅及び不可避不純物;残 からなるリード材用銅合金の析出粒子が5μm以下であ
    る半導体機器用リード材。
JP25070589A 1989-09-28 1989-09-28 半導体機器用リード材 Granted JPH0310036A (ja)

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