JPH03109346A - シクロヘキサン―１，４―ジオンの製造方法 - Google Patents
シクロヘキサン―１，４―ジオンの製造方法Info
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- JPH03109346A JPH03109346A JP24869789A JP24869789A JPH03109346A JP H03109346 A JPH03109346 A JP H03109346A JP 24869789 A JP24869789 A JP 24869789A JP 24869789 A JP24869789 A JP 24869789A JP H03109346 A JPH03109346 A JP H03109346A
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- hydroquinone
- cyclohexane
- dione
- palladium
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- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
皮粟上勿科■光互
本発明は、シクロヘキサン−１，４−ジオンの製造方法
に関する。
に関する。
ｌ米■及歪
シクロヘキサン−１，４−ジオンは、重合体や医薬品製
造の中間原料として重要である。
造の中間原料として重要である。
従来、このようなシクロヘキサン−１，４−ジオンの製
造方法としては、コハク酸ジエチルをアルドール縮合さ
せた後、加水分解して、２．５−ジオキシシクロヘキサ
ンジカルボン酸ジエチルエステルとし、これを熱分解脱
炭酸する方法が知られている（Ｏｒｇ、 Ｓｙｎ、、
４５． ２５ （１９６５） 、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ。
造方法としては、コハク酸ジエチルをアルドール縮合さ
せた後、加水分解して、２．５−ジオキシシクロヘキサ
ンジカルボン酸ジエチルエステルとし、これを熱分解脱
炭酸する方法が知られている（Ｏｒｇ、 Ｓｙｎ、、
４５． ２５ （１９６５） 、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ。
４２７ （１９７１））。
しかし、このような方法は、収率が低いうえに、原料で
あるコハク酸ジエチルに対して、当量以上の塩基を必要
とし、更に、中和工程を必要として、工程数が多いので
、特に、工業的な製造方法としては、実用的ではない。
あるコハク酸ジエチルに対して、当量以上の塩基を必要
とし、更に、中和工程を必要として、工程数が多いので
、特に、工業的な製造方法としては、実用的ではない。
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本発明は、従来のシクロヘキサン−１，４−ジオンの製
造における上記した問題を解決するためになされたもの
であって、入手容易なハイドロキノンを原料として用い
、これを還元して、直ちに高収率にてシクロヘキサン−
１，４−ジオンを得ることができる工業上、非常に有利
な方法を提供することを目的とする。
造における上記した問題を解決するためになされたもの
であって、入手容易なハイドロキノンを原料として用い
、これを還元して、直ちに高収率にてシクロヘキサン−
１，４−ジオンを得ることができる工業上、非常に有利
な方法を提供することを目的とする。
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本発明によるシクロヘキサン−１，４−ジオンの製造方
法は、炭化水素溶剤中、パラジウム又はニッケル触媒の
存在下に、ハイドロキノンを水素にて還元することを特
徴とする特 本発明においては、触媒として、パラジウム又はニッケ
ル触媒が用いられる。通常、これらは、シリカ、アルミ
ナ、活性炭、グラファイト、ケイソウ土、軽石、テトラ
シリシックマイカ、ヘクトライト、テニオライト、モン
モリロナイト等を担体とし、これに担持させて用いられ
る。このような担持触媒の具体例としては、例えば、パ
ラジウム／活性炭、パラジウム／シリカ、パラジウム／
アルミナ、パラジウム／テトラシリシックマイカ、ニッ
ケル／ケイソウ土、ニッケル／軽石等を挙げることがで
きる。
法は、炭化水素溶剤中、パラジウム又はニッケル触媒の
存在下に、ハイドロキノンを水素にて還元することを特
徴とする特 本発明においては、触媒として、パラジウム又はニッケ
ル触媒が用いられる。通常、これらは、シリカ、アルミ
ナ、活性炭、グラファイト、ケイソウ土、軽石、テトラ
シリシックマイカ、ヘクトライト、テニオライト、モン
モリロナイト等を担体とし、これに担持させて用いられ
る。このような担持触媒の具体例としては、例えば、パ
ラジウム／活性炭、パラジウム／シリカ、パラジウム／
アルミナ、パラジウム／テトラシリシックマイカ、ニッ
ケル／ケイソウ土、ニッケル／軽石等を挙げることがで
きる。
このような担持触媒において、パラジウム又はニッケル
の担体への担持量は、特に、限定されるものではないが
、通常、担体に対して、０．０１〜２０重量％の範囲で
あり、好ましくは、０．３〜１０重量％の範囲である。
の担体への担持量は、特に、限定されるものではないが
、通常、担体に対して、０．０１〜２０重量％の範囲で
あり、好ましくは、０．３〜１０重量％の範囲である。
本発明においては、ラネーニッケルもまた、好ましく用
いられる。
いられる。
用いる触媒量は、担持触媒の場合、通常、ハイドロキノ
ン１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部、好ま
しくは、０．５〜１０重量部の範囲である。ラネーニッ
ケルの場合、還元ニッケル換算にて、ハイドロキノン１
００重量部に対して、０゜０１〜２０重量部、好ましく
は、０．５〜１０重量部の範囲である。
ン１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部、好ま
しくは、０．５〜１０重量部の範囲である。ラネーニッ
ケルの場合、還元ニッケル換算にて、ハイドロキノン１
００重量部に対して、０゜０１〜２０重量部、好ましく
は、０．５〜１０重量部の範囲である。
本発明による方法において、ハイドロキノンの還元は、
上記触媒の存在下に、非極性の炭化水素溶剤中にて、水
素を用いて行なわれる。上記炭化水素溶剤としては、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の
芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロへブタン等の
脂環式炭化水素、又はこれらの混合溶剤が用いられる。
上記触媒の存在下に、非極性の炭化水素溶剤中にて、水
素を用いて行なわれる。上記炭化水素溶剤としては、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の
芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロへブタン等の
脂環式炭化水素、又はこれらの混合溶剤が用いられる。
これら溶剤は、通常、溶剤１ｍｌに対して、ハイドロキ
ノン量が０．０５〜Ｉｇ、好ましくは、０．１〜０．５
ｇとなるように用いられる。
ノン量が０．０５〜Ｉｇ、好ましくは、０．１〜０．５
ｇとなるように用いられる。
反応は、通常、常圧又は加圧水素雰囲気下で０〜２００
°Ｃ１好ましくは、常温乃至１８０°Ｃ程度の温度で行
なわれる。
°Ｃ１好ましくは、常温乃至１８０°Ｃ程度の温度で行
なわれる。
反応終了後、反応混合物から濾過等の適宜手段にて触媒
を分離した後、抽出、蒸留等の通常の手段によって、目
的物であるシクロヘキサン−１，４−ジオンを得ること
ができる。
を分離した後、抽出、蒸留等の通常の手段によって、目
的物であるシクロヘキサン−１，４−ジオンを得ること
ができる。
光里勿苅果
以上のように、本発明の方法によれば、ハイドロキノン
を直接に還元して、高収率にシクロヘキサン−１，４−
ジオンを得ることができ、しかも、原料であるハイドロ
キノンは入手が容易である。
を直接に還元して、高収率にシクロヘキサン−１，４−
ジオンを得ることができ、しかも、原料であるハイドロ
キノンは入手が容易である。
従って、本発明の方法によれば、工業原料として重要な
シクロヘキサン−１，４−ジオンを低廉に製造すること
ができ、工業上、非常に有利である。
シクロヘキサン−１，４−ジオンを低廉に製造すること
ができ、工業上、非常に有利である。
裏施班
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこ
れら実施例により何ら限定されるものではない。
れら実施例により何ら限定されるものではない。
実施例１
反応容器中にてハイドロキノン４．０ｇ、２％パラジウ
ム／活性炭０．１ｇ及びメシチレン２５ｍ１からなる混
合物を加熱還流させつつ、この混合物に水素を５０ｍ１
／分の割合にて３時間吹き込んだ。
ム／活性炭０．１ｇ及びメシチレン２５ｍ１からなる混
合物を加熱還流させつつ、この混合物に水素を５０ｍ１
／分の割合にて３時間吹き込んだ。
反応成績はハイドロキノン転化率５２％、シクロヘキサ
ン−１，４−ジオン選択率９１％であった。
ン−１，４−ジオン選択率９１％であった。
実施例２
実施例１において、触媒として、２％パラジウム／活性
炭に代えて、３％パラジウム／シリカ０゜１ｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして、反応を行なった。
炭に代えて、３％パラジウム／シリカ０゜１ｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして、反応を行なった。
反応成績はハイドロキノン転化率５４％、シクロヘキサ
ン−１，４−ジオン選択率８９％であった。
ン−１，４−ジオン選択率８９％であった。
比較例１
実施例１において、溶媒として、メシチレンに代えて、
メタノール２５ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に
して、反応を行なった。
メタノール２５ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に
して、反応を行なった。
反応成績はハイドロキノン転化率５９％、シクロヘキサ
ン−１，４−ジオン選択率３８％であった。
ン−１，４−ジオン選択率３８％であった。
また、シクロヘキサン−１，４−ジオンが更に還元され
た４−ヒドロキシシクロヘキサノン及び１．４−ジヒド
ロキシシクロヘキサンが併せて選択率５８％にて生成し
ていることが認められた。
た４−ヒドロキシシクロヘキサノン及び１．４−ジヒド
ロキシシクロヘキサンが併せて選択率５８％にて生成し
ていることが認められた。
比較例２
実施例１において、触媒として、２％パラジウム／活性
炭に代えて、酸化白金０．０５ ｇを用いた以外は、実
施例１と同様にして、反応を行なった。
炭に代えて、酸化白金０．０５ ｇを用いた以外は、実
施例１と同様にして、反応を行なった。
反応成績はハイドロキノン転化率６２％、シクロヘキサ
ン−１４−ジオン選択率３１％であった。
ン−１４−ジオン選択率３１％であった。
シクロヘキサン−１，４−ジオンが更に還元された４−
ヒドロキシシクロヘキサノン及び１．４−ジヒドロキシ
シクロヘキサンが併せて選択率６２％にて生成している
ことが認められた。
ヒドロキシシクロヘキサノン及び１．４−ジヒドロキシ
シクロヘキサンが併せて選択率６２％にて生成している
ことが認められた。
比較例３
実施例１において、触媒として、２％パラジウム／活性
炭に代えて、２％イリジウム／シリカＯ０ｔｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして、反応を行なった。
炭に代えて、２％イリジウム／シリカＯ０ｔｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして、反応を行なった。
反応成績はハイドロキノン転化率５５％、シクロヘキサ
ン−１，４−ジオン選択率２１％であった。
ン−１，４−ジオン選択率２１％であった。
４−ヒドロキシシクロヘキサノン及び１．４−ジヒドロ
キシシクロヘキサンが併せて選択率７４％にて生成して
いることが認められた。
キシシクロヘキサンが併せて選択率７４％にて生成して
いることが認められた。
実施例３
ハイドロキノン４．０ｇ、ラネーニッケルＷ２を０．２
ｇ及びシクロヘキサン２５ｍ１をオートクレーブに仕込
み、水素を１０気圧導入した。この水素の導入後、５０
°Ｃにて１時間撹拌して、ハイドロキノンを還元した。
ｇ及びシクロヘキサン２５ｍ１をオートクレーブに仕込
み、水素を１０気圧導入した。この水素の導入後、５０
°Ｃにて１時間撹拌して、ハイドロキノンを還元した。
反応成績はハイドロキノン転化率７１％、シクロヘキサ
ン−１，４−ジオン選択率８０％であった。
ン−１，４−ジオン選択率８０％であった。
比較例４
実施例１において、反応基質として、ハイドロキノンに
代えて、レゾルシン４．０ｇを用いた以外は、実施例１
と同様にして、反応を行なった。
代えて、レゾルシン４．０ｇを用いた以外は、実施例１
と同様にして、反応を行なった。
反応成績は、レゾルシン転化率２１％、シクロヘキサン
−１，３−ジオン選択率２６％であった。
−１，３−ジオン選択率２６％であった。
ほかに、タール状物質の生成が認められた。
Claims (1)
- （１）炭化水素溶剤中、パラジウム又はニッケル触媒の
存在下に、ハイドロキノンを水素にて還元することを特
徴とするシクロヘキサン−１，４−ジオンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1248697A JP2739504B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサン―１，４―ジオンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1248697A JP2739504B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサン―１，４―ジオンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109346A true JPH03109346A (ja) | 1991-05-09 |
| JP2739504B2 JP2739504B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=17181991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1248697A Expired - Fee Related JP2739504B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサン―１，４―ジオンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2739504B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007157091A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Inx Japan Inc | 試験接触部を保護するためのメモリカード |
-
1989
- 1989-09-25 JP JP1248697A patent/JP2739504B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007157091A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Inx Japan Inc | 試験接触部を保護するためのメモリカード |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2739504B2 (ja) | 1998-04-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |