JPH0311127B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0311127B2
JPH0311127B2 JP55110912A JP11091280A JPH0311127B2 JP H0311127 B2 JPH0311127 B2 JP H0311127B2 JP 55110912 A JP55110912 A JP 55110912A JP 11091280 A JP11091280 A JP 11091280A JP H0311127 B2 JPH0311127 B2 JP H0311127B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
terminal
signal
power supply
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP55110912A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5735422A (en
Inventor
Hiroshi Iwahashi
Masamichi Asano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP11091280A priority Critical patent/JPS5735422A/ja
Publication of JPS5735422A publication Critical patent/JPS5735422A/ja
Publication of JPH0311127B2 publication Critical patent/JPH0311127B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/10Modifications for increasing the maximum permissible switched voltage
    • H03K17/102Modifications for increasing the maximum permissible switched voltage in field-effect transistor switches

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積回路化に適する半導体回路に関す
る。
一般にMOS集積回路のパツケージから導出さ
れる外部導出ピン(端子)数は、パツケージの小
形化等の面から少ない方がよい。この問題の一つ
の解決策として、集積回路の外部導出ピンを共用
することがあげられるが、信号ラインと電源ライ
ンを共用することを考えた場合、これらラインの
共通化ノードに、入力信号の能力(+10μA〜−
10μA程度)以上の電流を流すことは問題である
から、該能力範囲内に電流値を抑える必要があ
る。
そこで、本発明者は、上記要望事項を満たすよ
うにした第1図の如き回路を先に提案した(特願
昭54−23204号)。なお、ここで使用している
MOSトランジスタのチヤネル型は、凡て同一で
例えばNチヤネル型とする。第1図において1は
ゲートに制御信号Aが入力される駆動用のエンハ
ンスメント型MOSトランジスタで、このトラン
ジスタ1のソースは電圧Vs(アース電位)の供給
端に接続され、ドレインは出力端Oに接続され
る。負荷素子としてのデプレツシヨン型MOSト
ランジスタ2は、そのソースとゲートが出力端O
に接続され、ドレインがノードaに接続される。
このノードaにはエンハンスメント型MOSトラ
ンジスタ3のソースが接続され、該トランジスタ
3のドレインとゲートは電圧Vpの供給端に接続
される。この電圧Vpの供給端は信号ライン兼電
源ラインとなる個所である。また上記ノードaに
はデプレツシヨン型MOSトランジスタ4のソー
スが接続され、該トランジスタ4のドレインは通
常電源としての電圧Vcの供給端に、ゲートは制
御信号Bの供給端に接続される。
次に第1図の回路動作を説明する。まず電圧
Vpの供給ラインつまりノードbを信号ラインと
して用いる場合は、信号Bを“1”にする。この
時信号Aが“1”で、トランジスタ1がオン(導
通)してノードoが“0”になつても、ノードa
にはVc(例えば+5V)近くの電位が出るように
トランジスタ4,2,1の大きさ及びスレツシヨ
ルド電圧Vthを設定してやる。するとノードaの
電位がVc近辺であるため、電圧Vpが、ノードa
の電位とトランジスタ3のスレツシヨルド電圧
Vth3とを加えた値以下では、トランジスタ3には
電流が流れない。つまりトランジスタ3はオフ
(非導通)状態である。ところで上記信号Vpは、
これを他の回路の入力信号として用いる場合、通
常“Vc+1”ボルトが最大であり、ノードaの
電位はVc近辺であるため、Vth3を1V近辺にして
おけばVpが入力信号の時は該入力電流はほとん
ど流れず、充分他のMOSトランジスタ回路の入
力信号として通用する。
次にVpを電源(例えば25V)として使用する
場合は、信号Bを“0”にする。この時第1図の
回路は主にトランジスタ3,2,1で出力0を決
定することができ、その時ノードaの電位をトラ
ンジスタ4がオフする程度に設定してやれば、
Vp供給端からVc供給端へ流れ出る電流はなくな
る。即ち電源としてのVpは、Vc≦Vpの状態で
使用でき、ノードoには“Vp−Vth3”ボルトの
電位まで出力することができる。
以上のような動作を行なう第1図の回路にあつ
ては、ノードbに入力信号としての能力以上の電
流を流さずに済むから、集積回路化した際のピン
数削減が可能となる。
上記第1図の回路は、例えばEPROM
(Erasable and Programable Read Only
Memory)に用いられる。このEPROMは、予め
アドレス入力により指定されたメモリーセルに高
電圧Vp(例えば25V)を印加することによりプロ
グラムを行ない、その後通常のROMとして使用
する。そのため前記プログラム時に使用された端
子bは、その後のデータ読み出し動作では使用さ
れず、信号端子として使用される。第2図は、第
1図の回路をEPROMのデータ入力バツフア回路
11に用いた場合の例で、12はメモリーセル・
アレイ、13は行デコーダ、14は列デコーダ、
15は列ゲート回路、16はアウトプツト・イネ
ーブル・ロジツク、17は出力バツフアである。
上記データ入力バツフア11は、l1のルートでロ
ジツク16に信号OEを供給し、l2,l3のルートで
電源Vpを供給するものである。信号/PMは、
読み出しモードとプログラム・モードを切り換え
るためのもので、読み出しモードの時“0”、プ
ログラム・モードの時“1”となる。信号R/
PMはその逆である。信号PCは通常“1”で、
入力I1が供給された後一定時間(例えば1μ秒)経
過したら、プログラムに要する時間(例えば50ミ
リ秒)だけ“0”になり、入力I1が“0”なら
ば、行デコーダ13及び列デコーダ14によつて
選択されたメモリーセルに、トランジスタ18を
介して高電圧Vpを印加して書き込みを行なう。
一方読み出しモードでは、/PM=“0”、R/
PM=“1”、PC=“1”とする。すると入力I1
係わらず出力端0は“0”となり、トランジスタ
18はカツトオフする。
第3図はEPROMの行デコーダ部の一例であ
る。この回路でプログラムモードの時は、R/
PM=“0”となつて端子0には“Vp−Vth3
(Vth3はトランジスタ3のスレツシヨルド電圧)
の電位が電源ルートl4を介して出力され、トラン
ジスタ20がオンとなる。この時メモリーセルの
ゲートに高電圧Vpが印加されるか否かは、端子
21の論理レベルにより決定される。一方データ
読み出し時は、R/=“1”となり、端子0
は“0”でトランジスタ20はカツトオフして該
トランジスタに電流は流れず、信号ルートl5を介
して他の回路に入力信号を供給することができ
る。
しかしながら第1図のような回路にあつては、
MOSトランジスタ3にバツクゲートバイアス効
果があるため、Vp/の端子bに高電圧Vpが
印加された時に、出力端0に充分高い電圧が得ら
れない。つまり“Vp−Vth3”の電位が出力端0
に得られるが、この出力端0の電圧分だけトラン
ジスタ3のソース(a点)に印加されるため該ト
ランジスタ3のスレツシヨルド電圧Vth3が上昇し
てしまい、充分な電圧が出力端0に得られないも
のである。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので信号
兼電源端子に与えられる高電圧を出力端に導く素
子にダイオードを用いることにより、前記出力端
に充分高い電圧が得られる半導体回路を提供しよ
うとするものである。
以下第4図を参照して本発明の一実施例を説明
する。第4図は同実施例の一部回路図であり、こ
の第4図は、第1図のトランジスタ3をダイオー
ド31に置き換えた点が特徴であり、他の個所
は、第1図と対応するから、対応個所には同一符
号を付して構成の説明は省略する。
しかしてダイオードの電圧、電流特性は第7図
のようになることはよく知られている。VFは、
ダイオードに正方向の電圧を印加した際、電流の
流れ始める電圧であり、VBDは、ダイオードに逆
方向の電圧を印加した場合のブレークダウン電圧
である。第4図の回路において信号兼電源端子b
を信号用端子として使用する場合には、信号Bを
“1”(例えば5V)にする。すると信号Aの
“1”、“0”に係わらず端子aの電位を電源電圧
Vc(例えば5V)近辺に保持するように各トラン
ジスタの寸法を設定できる。この時端子bにおけ
る“a端電位+VF”以下の電位に対しては、ダ
イオード31がブレークダウンするまでは該ダイ
オードを介してほとんど電流が流れず、従つて端
子bは信号ラインとして使用できる。また端子b
を電源として使用する時は、信号Bを“0”とし
てトランジスタ4をカツトオフし、高電源Vpか
ら低電源Vcへの電流が流れないようにすればよ
い。この時出力端0には、“Vp−VF”という充
分高い電圧が得られるものである。
第5図は本発明の他の実施例の一部回路図であ
り、端子a,b間にダイオード311,312を直
列に設けた場合の例である。この回路動作は前実
施例と対応するが、端子a,b間のダイオード数
を増したため、端子bを信号用として使用する時
に、より高い電位の信号を端子bに与えても、ダ
イオード311,312を介して入力電流が流れな
いようにすることができる。
第6図は本発明の異なる実施例の一部回路図
で、スイツチ素子としてのトランジスタ4をダイ
オード41に置き換えた場合の例である。この回
路で端子bを信号用とする場合、端子aの電位は
“Vc−VF”となるから、端子aは“a端電位+
2VF”即ち“Vc+VF”以下で電流をほとんど零
にでき、信号ラインとして使用できる。また端子
bを電源として用いる時も、スイツチ素子として
のダイオード41により、該ダイオードを介して
端子aからVc側には電流は流れないから、電源
ラインとして使用できる。
第8図は本発明の一実施例の全体的回路図であ
る。即ち以上の説明は、本発明の回路をEPROM
に適用する場合を例にしたが、本発明の回路を、
例えば計算機のCPU(中央処理装置)に用いるこ
ともできる。例えばCPU中のRAM等において
は、電源切断と同時にその内容は破壊されてしま
う。よつて次に電源を入れて使用する時は、前の
処理を継続して行なうことはできない。このため
現在では、RAM部だけ別電源にしてLSI(大規模
集積回路)上にパツドを1つ余計に設けて、外部
より電源を供給し、電源が切断されてもRAM部
だけ電圧は保たれたままで、RAMの記憶内容は
そのまま保持される機能を有するCPUが販売さ
れている。この場合RAM部の電源のために外部
への導出ピンを1個増さねばならない。この時本
発明の回路を第8図の如く用いれば、他の信号ラ
インと共用することができ、外部導出ピンを増加
させずに済む。即ちVc電源が切られた時は外部
導出ピンS1が電源となつて、ダイオード311
312、トランジスタ2を通してRAM51へ電源
が供給され、またVc電源が投入された場合ピン
S1は信号ラインとなり、インバータ52等を介し
てCPU内部回路へ信号を伝達するものである。
ここで端子aは、“Vc−Vth4′”(Vth4′はトランジ
スタ4′のスレツシヨルド電圧)近辺に保たれる
ため、ピンS1の電位が“a点電位+VF1+VF2
(VF1,VF2はダイオード311,312のVF)以下
では、ダイオード311,312に流れる電流はな
く、通常の入力端子と同様に扱える。またa点と
内部回路との間に抵抗2を挿入し、この抵抗2を
通して内部回路に電源を供給しているので、b点
の信号のオーバーシユートとか電源Vc等のノイ
ズが抵抗2で吸収され、内部回路51に与えられ
る電源電圧は安定するという利点がある。
第9図は本発明の異なる実施例の一部回路図
で、端子aの電圧を、NチヤネルMOSトランジ
スタ61及びPチヤネルMOSトランジスタ62
よりなるCMOS回路の電源とした場合の例であ
る。前実施例のものとはこの点が相異するだけで
ある。
なお本発明は実施例のみに限られず、種々の応
用が可能である。例えば負荷MOSとしてのトラ
ンジスタ2にエンハンスメント型のものを用い、
そのゲートをノードa側に接続したり、該ゲート
に電圧Vcを供給したりしてもよい。また実施例
では、使用トランジスタにNチヤネル型のものを
用いたが、Pチヤネル型のものを用いた構造にも
応用できる。
以上説明した如く本発明によれば、信号兼電源
端子に能力以上の電流を流さずに済むので、集積
回路の小形化が可能となり、また信号兼電源端子
から電源電圧を導入する素子にダイオードを用い
たため、高電源電圧が得られ、集積回路において
外部導出ピン数の削減が可能となる等の利点を有
した半導体回路が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は信号兼電源端子を有する半導体回路
図、第2図及び第3図は同回路を含む半導体メモ
リー回路図、第4図は本発明の一実施例の一部回
路図、第5図、第6図は本発明の異なる実施例の
一部回路図、第7図はダイオードの電圧、電流特
性図、第8図は本発明の一実施例の全体的回路
図、第9図は本発明の異なる実施例の一部回路図
である。 2……負荷MOS(抵抗)、4,41……スイツ
チ素子、31,311,312……ダイオード、b
……信号兼電源端子。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 一端が第1の電位供給端に接続される駆動用
    の第1のMOSトランジスタと、このトランジス
    タの他端に一端が接続される負荷用の第2の
    MOSトランジスタと、このトランジスタの他端
    にカソードが接続されアノードが信号ライン兼電
    源ラインに接続されるバツクゲートバイアス効果
    のない通常のダイオードと、一端が前記第2の
    MOSトランジスタの他端に接続され他端が第2
    の電位供給端に接続される第3のMOSトランジ
    スタと、前記信号ライン兼電源ラインを信号ライ
    ンとして用いる場合は第3のMOSトランジスタ
    をオン状態とし前記信号ラインの最高電位を「第
    3のMOSトランジスタの一端の電位+ダイオー
    ド順方向電位降下分」以下に設定することにより
    前記ダイオードをオフ状態にする手段と、前記信
    号ライン兼電源ラインを電源ラインとして用いる
    場合は前記第3のMOSトランジスタをオフ状態
    としダイオードをオン状態とすることにより、第
    1、第2のMOSトランジスタに前記電源ライン
    より電源を供給する手段とを具備することを特徴
    とする半導体回路。
JP11091280A 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor circuit Granted JPS5735422A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11091280A JPS5735422A (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11091280A JPS5735422A (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5735422A JPS5735422A (en) 1982-02-26
JPH0311127B2 true JPH0311127B2 (ja) 1991-02-15

Family

ID=14547782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11091280A Granted JPS5735422A (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5735422A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4575823A (en) * 1982-08-17 1986-03-11 Westinghouse Electric Corp. Electrically alterable non-volatile memory
JPS6050697A (ja) * 1983-08-30 1985-03-20 Toshiba Corp 半導体集積回路
GB2156974B (en) * 1984-04-02 1988-10-05 Dow Chemical Co Combined thermal analyzer and x-ray diffractometer
JPS6161295A (ja) * 1984-08-31 1986-03-29 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5379365A (en) * 1976-12-23 1978-07-13 Nec Corp Capacitive load driving unit
JPS5423204A (en) * 1977-07-21 1979-02-21 Sato Yoshio Fluid pump

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5735422A (en) 1982-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4651304A (en) EPROM memory device having a test circuit
KR0155078B1 (ko) 강전계용의 mos 회로를 갖춘 반도체 회로
JP2723278B2 (ja) ハイキャパシタンス線プログラミング用デコーダ・ドライバ回路
US4906862A (en) Semiconductor integrated circuit device having power down mode
JPH08321196A (ja) 集積回路形式メモリの読出のための電流検出回路
KR930001654B1 (ko) 반도체 메모리 집적회로
KR910010188B1 (ko) 반도체 집적회로
US5663908A (en) Data input/output circuit for performing high speed memory data read operation
US4817055A (en) Semiconductor memory circuit including bias voltage generator
US4730133A (en) Decoder circuit of a semiconductor memory device
US5179537A (en) Semiconductor memory device having monitoring function
US4198700A (en) Column decode circuit for random access memory
EP0377840A2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device having reference potential generating circuit
EP0317939B1 (en) Input circuit incorporated in a semiconductor device
JPH0766675B2 (ja) プログラマブルrom
US5691944A (en) Non-volatile semiconductor memory device
KR100339656B1 (ko) 메모리구동장치
JP3147062B2 (ja) センスアンプ回路
US6463544B2 (en) Method for powering down unused configuration bits to minimize power consumption
KR100282761B1 (ko) I/o 클램프 회로를 구비한 반도체 메모리 장치
WO1998015060A1 (en) High voltage level shifting cmos buffer
US4780853A (en) Memory device
JP2001067886A (ja) 半導体記憶装置
JPS6025832B2 (ja) 半導体装置におけるチツプ選択回路
JP2509023B2 (ja) デコ―ダ回路