JPH03112951A - フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製造方法 - Google Patents
フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
〈従来の技術〉
有機化合物中に、フルオロアルキル基を含有する化合物
は、生理活性等の有用な性質を示すものとして近年注目
を集めている。特に芳香族窒素化合物中にフルオロアル
キル基が導入されたフルオロアルキル基含有窒素化合物
は、医薬、農薬、界面活性剤等の合成中間体及び高分子
材料の原料として有用であると考えられる。しかしなが
ら、これまでにフルオロアルキル基を芳香族窒素化合物
中に容易に、高収率でかつ工業的にも有効に導入する製
造方法に関してはほとんど知られていないのが現状であ
る。
は、生理活性等の有用な性質を示すものとして近年注目
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キル基が導入されたフルオロアルキル基含有窒素化合物
は、医薬、農薬、界面活性剤等の合成中間体及び高分子
材料の原料として有用であると考えられる。しかしなが
ら、これまでにフルオロアルキル基を芳香族窒素化合物
中に容易に、高収率でかつ工業的にも有効に導入する製
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〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、撥水撥油剤、医薬、農薬等の合成中間
体及びポリアミドやポリイミド等の高分子材料の原料と
して利用可能なフルオロアルキル基含有窒素化合物を、
工業的にも容易に製造することが可能な方法を提供する
ことにある。
体及びポリアミドやポリイミド等の高分子材料の原料と
して利用可能なフルオロアルキル基含有窒素化合物を、
工業的にも容易に製造することが可能な方法を提供する
ことにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明によれば、下記一般式〇)
(式中、又はフッ素原子、塩素原子、水素原子を示し、
nlは1〜10の整数を示す)で表わされるジ(ハロア
シル)ペルオキシドと、 下記一般式(II)または(III) (式中、R1およびR2は炭素数1−10のアシル基も
しくはフルオロアシル基を示し、R1は炭素数1〜10
のアルキル基又はフルオロアルキル基を示す。またX□
は酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン
、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メ
チン又は−A−/−ゝ−A−く一ゝ−+(〉− ヘーz−7A+lllを示す。ここで Aは酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチ
ン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)
メチンを示し、mはO〜3の整数を示す。R2は0また
は1を示し、n、はO〜3の整数を示す。)で表わされ
る芳香族窒素化合物とを反応させ、前記一般式(n)ま
たは(Iff)で示される芳香族窒素化合物中の芳香環
に前記一般式(I)で示されるジ(ハロアシル)ペルオ
キシド中のX(CFz)nニーを導入する方法であって
、前記反応を行う際の溶媒として、下記一般式() %式%() (式中R4は、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1
〜3のペルフルオロアルキル基を示す)で表わされるカ
ルボン酸を用いることを特徴とするフルオロアルキル基
含有芳香族窒素化合物の製造方法が提供される。
nlは1〜10の整数を示す)で表わされるジ(ハロア
シル)ペルオキシドと、 下記一般式(II)または(III) (式中、R1およびR2は炭素数1−10のアシル基も
しくはフルオロアシル基を示し、R1は炭素数1〜10
のアルキル基又はフルオロアルキル基を示す。またX□
は酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン
、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メ
チン又は−A−/−ゝ−A−く一ゝ−+(〉− ヘーz−7A+lllを示す。ここで Aは酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチ
ン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)
メチンを示し、mはO〜3の整数を示す。R2は0また
は1を示し、n、はO〜3の整数を示す。)で表わされ
る芳香族窒素化合物とを反応させ、前記一般式(n)ま
たは(Iff)で示される芳香族窒素化合物中の芳香環
に前記一般式(I)で示されるジ(ハロアシル)ペルオ
キシド中のX(CFz)nニーを導入する方法であって
、前記反応を行う際の溶媒として、下記一般式() %式%() (式中R4は、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1
〜3のペルフルオロアルキル基を示す)で表わされるカ
ルボン酸を用いることを特徴とするフルオロアルキル基
含有芳香族窒素化合物の製造方法が提供される。
以下本発明をさらに詳細に説明する。
本発明のフルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製
造方法では、特定のジ(ハロアシル)ペルオキシドと、
特定の芳香族窒素化合物とを反応させる際に、特定のカ
ルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする。
造方法では、特定のジ(ハロアシル)ペルオキシドと、
特定の芳香族窒素化合物とを反応させる際に、特定のカ
ルボン酸を溶媒として用いることを特徴とする。
本発明の製造方法で得られるフルオロアルキル基含有芳
香族窒素化合物は、下記一般式(V)または(TV)で
表わすことができ、 式中、R工及びR2は、アセチル、プロピオニル。
香族窒素化合物は、下記一般式(V)または(TV)で
表わすことができ、 式中、R工及びR2は、アセチル、プロピオニル。
ブチリル、ヘプタノイル、トリフルオロアセチル、ペン
タフルオロプロピオニル、ヘプタフルオロブチリル、ノ
ナフルオロヘプタノイル等の炭素数1〜10のアシル基
もしくはフルオロアシル基を示し、R1は、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、トリフルオロメチル、ペンタ
フルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオ
ロブチル等の炭素数1〜10のアルキル基若しくはフル
オロアルキル基を示す。またXlは酸素原子、スルホニ
ル、カルボニル、ジメチルメチン、メチレン、エチレン
、ビス(トリフルオロメチル)メチン又は−A−く二>
−A<二〉−÷く二>−A+、を示す。ここでAは酸
素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン、メ
チレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メチン
を示し、mはO〜3の整数を示す。更にXはフッ素原子
、塩素原子又は水素原子を示し、nlは1〜10の整数
を+n2及びR4は0または1を、n、はO〜3の整数
を示す。前記一般式(V)又は(VI)で表わされるフ
ルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物としては1例え
ばヘプタフルオロプロピル−N、N’ −ジアセチル−
p−フェニレンジアミン、ヘプタフルオロプロピル−4
,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル、
ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(ア
セチルアミノ)ジフェニルエーテル、トリデカフルオロ
へキシル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニ
ルエーテル、ビス(トリデカフルオロヘキシル)−4,
4’ −ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル、
ペンタデカフルオロへブチル−4,4′−ビス−(アセ
チルアミノ)ジフェニルエーテル、ビス(ペンタデカフ
ルオロヘプチル)−4,4’ −ビス(アセチルアミノ
)ジフェニルエーテル、ヘプタフルオロプロピル−4,
4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォン、
ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(ア
セチルアミノ)ジフェニルスルフォン、2−へブタフル
オロプロピル−3,5,3’ 、5’ −テトラメチル
−4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテ
ル、2,2′−ビス(ヘプタフルオロプロピル)−3,
5,3’ 、5’ −テトラメチル−4゜4′−ビス(
アセチルアミノ)シフ蔓ニルエーテル、2−(4−アセ
チルアミノ−3−へブタフルオロプロピルフェニル)−
2−(4−アセチルアミノフェニル)へキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(4−アセチルアミノ−3−へブ
タフルオロプロピルフェニル)へキサフルオロプロパン
、2− (4−(4−アセチルアミノ−3−へブタフル
オロプロピルフェノキシ)フェニル)−2−(4−(4
−アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス(4−(4−アセチルアミノ
−3−へブタフルオロプロピルフェノキシ)フェニル)
へキサフルオロプロパン等を好ましく挙げることができ
る。
タフルオロプロピオニル、ヘプタフルオロブチリル、ノ
ナフルオロヘプタノイル等の炭素数1〜10のアシル基
もしくはフルオロアシル基を示し、R1は、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、トリフルオロメチル、ペンタ
フルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオ
ロブチル等の炭素数1〜10のアルキル基若しくはフル
オロアルキル基を示す。またXlは酸素原子、スルホニ
ル、カルボニル、ジメチルメチン、メチレン、エチレン
、ビス(トリフルオロメチル)メチン又は−A−く二>
−A<二〉−÷く二>−A+、を示す。ここでAは酸
素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン、メ
チレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メチン
を示し、mはO〜3の整数を示す。更にXはフッ素原子
、塩素原子又は水素原子を示し、nlは1〜10の整数
を+n2及びR4は0または1を、n、はO〜3の整数
を示す。前記一般式(V)又は(VI)で表わされるフ
ルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物としては1例え
ばヘプタフルオロプロピル−N、N’ −ジアセチル−
p−フェニレンジアミン、ヘプタフルオロプロピル−4
,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル、
ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(ア
セチルアミノ)ジフェニルエーテル、トリデカフルオロ
へキシル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニ
ルエーテル、ビス(トリデカフルオロヘキシル)−4,
4’ −ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル、
ペンタデカフルオロへブチル−4,4′−ビス−(アセ
チルアミノ)ジフェニルエーテル、ビス(ペンタデカフ
ルオロヘプチル)−4,4’ −ビス(アセチルアミノ
)ジフェニルエーテル、ヘプタフルオロプロピル−4,
4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォン、
ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(ア
セチルアミノ)ジフェニルスルフォン、2−へブタフル
オロプロピル−3,5,3’ 、5’ −テトラメチル
−4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテ
ル、2,2′−ビス(ヘプタフルオロプロピル)−3,
5,3’ 、5’ −テトラメチル−4゜4′−ビス(
アセチルアミノ)シフ蔓ニルエーテル、2−(4−アセ
チルアミノ−3−へブタフルオロプロピルフェニル)−
2−(4−アセチルアミノフェニル)へキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(4−アセチルアミノ−3−へブ
タフルオロプロピルフェニル)へキサフルオロプロパン
、2− (4−(4−アセチルアミノ−3−へブタフル
オロプロピルフェノキシ)フェニル)−2−(4−(4
−アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス(4−(4−アセチルアミノ
−3−へブタフルオロプロピルフェノキシ)フェニル)
へキサフルオロプロパン等を好ましく挙げることができ
る。
本発明の製造方法に用いる前記ジ(ハロアシル)ペルオ
キシドは下記一般式(I)で表わすことができ、 式中、Xはフッ素原子、塩素原子、水素原子を示し、n
lは1〜10の整数を示す。前記一般式(I)中に適用
可能なフルオロアルキル基、すなわちX (CFz)
nx−は、CF。
キシドは下記一般式(I)で表わすことができ、 式中、Xはフッ素原子、塩素原子、水素原子を示し、n
lは1〜10の整数を示す。前記一般式(I)中に適用
可能なフルオロアルキル基、すなわちX (CFz)
nx−は、CF。
F (c Ft)2−1F (CF2)。
p (cF2)4−1F (c F2) 5F(CF
2)G−1” (CF2) ?F (CF2) *
F (CF2) *F (CF2) 5o−1CQC
F。
2)G−1” (CF2) ?F (CF2) *
F (CF2) *F (CF2) 5o−1CQC
F。
c Q(CF2) 2−1c n (c F2) 3
CQ (CF2) 4−1CQ (CF2) 5Cfl
(cFs)m−1C1(CF、)7CQ(CF2)
、−1CQ(CFz)sc a (c F2) z。
CQ (CF2) 4−1CQ (CF2) 5Cfl
(cFs)m−1C1(CF、)7CQ(CF2)
、−1CQ(CFz)sc a (c F2) z。
+、HCF2H(cps) 2+、H(CF、)3
H(CF2) 4−− H(CF2) 5H(CF2)
、−1H(CF2) t H(CF2) e−1H(CFz) 9H(CF2)
1.−であり、この中より適宜選択して用いることがで
きる。この際、フルオロアルキル基の炭素数、すなわち
n工が10を超える場合には、過酸化物の製造が困難と
なる。
、−1H(CF2) t H(CF2) e−1H(CFz) 9H(CF2)
1.−であり、この中より適宜選択して用いることがで
きる。この際、フルオロアルキル基の炭素数、すなわち
n工が10を超える場合には、過酸化物の製造が困難と
なる。
本発明の製造方法に用いる前記特定の芳香族窒素化合物
は、下記一般式(If)または(m)で表わすことがで
き、 式中、R1およびR2は炭素数1〜10のアシル基もし
くはフルオロアシル基を示し、R3は炭素数1〜10の
アルキル基又はフルオロアルキル基を示す、またX□は
酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン、
メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メチ
ン又は −A−く二〉−A−く二〉−÷〈二> A+w+を示す
。ここでAは酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメ
チルメチン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロ
メチル)メチンを示し、mは0〜3の整数を示す。R2
はOまたはlを示し、n、はO〜3の整数を示す。この
際R□及びR2のアシル基又はフルオロアシル基の炭素
数R3のアルキル基又はフルオロアルキル基の炭素数が
11以上の場合には、製造が困難となる。前記一般式(
n)または(m)で表わされる芳香族化合物としては、
例えばN。
は、下記一般式(If)または(m)で表わすことがで
き、 式中、R1およびR2は炭素数1〜10のアシル基もし
くはフルオロアシル基を示し、R3は炭素数1〜10の
アルキル基又はフルオロアルキル基を示す、またX□は
酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチン、
メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)メチ
ン又は −A−く二〉−A−く二〉−÷〈二> A+w+を示す
。ここでAは酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメ
チルメチン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロ
メチル)メチンを示し、mは0〜3の整数を示す。R2
はOまたはlを示し、n、はO〜3の整数を示す。この
際R□及びR2のアシル基又はフルオロアシル基の炭素
数R3のアルキル基又はフルオロアルキル基の炭素数が
11以上の場合には、製造が困難となる。前記一般式(
n)または(m)で表わされる芳香族化合物としては、
例えばN。
N′−ジアセチル−p−フェニレンジアミン、N。
N′−ジアセチル−m−フェニレンジアミン、N。
N′−ビス(トリフルオロアセチル)−p−フェニレン
ジアミン、N、N’−ビス(トリフルオロアセチル)−
m−フェニレンジアミン、N、N’−ビス(ヘプタフル
オロプロピオニル)−p−フェニレンジアミン、N、N
’−ビス(ヘプタフルオロプロピオニル) −m−フェ
ニレンジアミン。
ジアミン、N、N’−ビス(トリフルオロアセチル)−
m−フェニレンジアミン、N、N’−ビス(ヘプタフル
オロプロピオニル)−p−フェニレンジアミン、N、N
’−ビス(ヘプタフルオロプロピオニル) −m−フェ
ニレンジアミン。
4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル
、4.4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフ
ォン、4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルケ
トン、4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルメ
タン、1,2−ビス(4−アセチルアミノフェニル)エ
タン、2,2−ビス(4−アセチルアミノフェニル)プ
ロパン、4.4′−ビス(アセチルアミノ)ビフェニル
、1.2− [4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフ
ェニルケトン、2,2− [4,4’ −ビス(アセチ
ルアミノ)ジフェニルコプロパン、4゜4′−ビス(ア
セチルアミノ)ビフェニル−3゜5.3’ 、5’−テ
トラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェ
ニルエーテル、2,2−ビス(4−アセチルアミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(
4−アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフル
オロプロパン等を挙げることができる。
、4.4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフ
ォン、4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルケ
トン、4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルメ
タン、1,2−ビス(4−アセチルアミノフェニル)エ
タン、2,2−ビス(4−アセチルアミノフェニル)プ
ロパン、4.4′−ビス(アセチルアミノ)ビフェニル
、1.2− [4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフ
ェニルケトン、2,2− [4,4’ −ビス(アセチ
ルアミノ)ジフェニルコプロパン、4゜4′−ビス(ア
セチルアミノ)ビフェニル−3゜5.3’ 、5’−テ
トラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェ
ニルエーテル、2,2−ビス(4−アセチルアミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(
4−アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフル
オロプロパン等を挙げることができる。
本発明の製造方法に用いる前記特定のカルボン酸は、下
記一般式(rV)で表わすことができ。
記一般式(rV)で表わすことができ。
R4C0OH・・・(IV)
式中、R4はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルの炭素数1〜8の
アルキル基又はトリフルオロメチル。
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルの炭素数1〜8の
アルキル基又はトリフルオロメチル。
ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピルの炭素
数1〜3のペルフルオロアルキル基を示し。
数1〜3のペルフルオロアルキル基を示し。
特にペルフルオロアルキル基であるのが好ましい。
前記一般式(I’/)で表わされるカルボン酸とじては
1例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、トリフル
オロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオ
ロ酪酸等を好ましく挙げることができる。
1例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、トリフル
オロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオ
ロ酪酸等を好ましく挙げることができる。
本発明の製造方法では、前記ジ(ハロアシル)ペルオキ
シドと前記一般式(II)または(III)で示される
芳香族窒素化合物とを反応させるにあたり、前記一般式
CIV)で示されるカルボン酸を添加することにより、
芳香族窒素化合物の溶解性が高まるので収率良く、しか
も工業的にも有効にフルオロアルキル基含有芳香族窒素
化合物を得ることができる。前記カルボン酸と、前記芳
香族窒素化合物との仕込み量は、好ましくは芳香族窒素
化合物1 m o nに対して、カルボン酸Log〜5
0鯰、特に好ましくは100g〜10kgであるのが望
ましい。前記カルボン酸の仕込み量が10g未満ではカ
ルボン酸無添加の場合と変化なく、収率の向上効果が得
られないので好ましくない。また、50kgを超えると
ペルオキシドの分解が促進され収率が低下するので好ま
しくない。また前記ジ(ハロアシル)ベルオハシドと前
記芳香族窒素化合物との仕込みモル比は、1:0.1〜
20が好ましく、特に1:0.5〜10であることが望
ましい。前記芳香族窒素化合物との仕込みモル比が0.
1未満では生成するフルオロアルキル基含有芳香族窒素
化合物の収率が低下する傾向にあり、また20を超える
と反応終了後の未反応芳香族窒素化合物が残存し、目的
とする生成物の単離が困難となるので好ましくない。さ
らに本発明の製造方法における反応は常圧で行なうこと
が可能であり、反応温度は0−150℃、好ましくは1
0〜100℃の範囲であることが望ましい。前記反応温
度が0℃未満では、反応時間が長くなる傾向にあり、一
方150℃を超えると反応時の圧力が高くなり1反応操
作が困難であるので好ましくない。
シドと前記一般式(II)または(III)で示される
芳香族窒素化合物とを反応させるにあたり、前記一般式
CIV)で示されるカルボン酸を添加することにより、
芳香族窒素化合物の溶解性が高まるので収率良く、しか
も工業的にも有効にフルオロアルキル基含有芳香族窒素
化合物を得ることができる。前記カルボン酸と、前記芳
香族窒素化合物との仕込み量は、好ましくは芳香族窒素
化合物1 m o nに対して、カルボン酸Log〜5
0鯰、特に好ましくは100g〜10kgであるのが望
ましい。前記カルボン酸の仕込み量が10g未満ではカ
ルボン酸無添加の場合と変化なく、収率の向上効果が得
られないので好ましくない。また、50kgを超えると
ペルオキシドの分解が促進され収率が低下するので好ま
しくない。また前記ジ(ハロアシル)ベルオハシドと前
記芳香族窒素化合物との仕込みモル比は、1:0.1〜
20が好ましく、特に1:0.5〜10であることが望
ましい。前記芳香族窒素化合物との仕込みモル比が0.
1未満では生成するフルオロアルキル基含有芳香族窒素
化合物の収率が低下する傾向にあり、また20を超える
と反応終了後の未反応芳香族窒素化合物が残存し、目的
とする生成物の単離が困難となるので好ましくない。さ
らに本発明の製造方法における反応は常圧で行なうこと
が可能であり、反応温度は0−150℃、好ましくは1
0〜100℃の範囲であることが望ましい。前記反応温
度が0℃未満では、反応時間が長くなる傾向にあり、一
方150℃を超えると反応時の圧力が高くなり1反応操
作が困難であるので好ましくない。
さらに反応時間は通常30分〜20時間の範囲で行なう
ことができるが、実用的には3〜10時間になるように
条件を設定することが望ましい。
ことができるが、実用的には3〜10時間になるように
条件を設定することが望ましい。
本発明において、前記ジ(ハロアシル)ペルオキシドの
取り扱い及び反応を、より効率良く行なうために前記一
般式(IV)で示されるカルボン酸以外にハロゲン系の
溶媒を用いることが好ましい。
取り扱い及び反応を、より効率良く行なうために前記一
般式(IV)で示されるカルボン酸以外にハロゲン系の
溶媒を用いることが好ましい。
前記溶媒としては水素原子を含有しないハロゲン化脂肪
族溶媒が特に好ましく、具体的には例えば2−クロロ−
1,2−ジブロモ−1,1,2−トリフルオロエタン、
1,2−ジブロモへキサフルオロプロパン、1,2−ジ
ブロモテトラフルオロエタン、1,1−ジフルオロテト
ラクロロエタン、1.2−ジフルオロテトラクロロエタ
ン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−2,
3゜3−トリクロロブタン、1,1,1.3−テトラク
ロロテトラフルオロプロパン、1,1.1−トリクロロ
ペンタフルオロプロパン、1,1.2−トリクロロトリ
フルオロエタン等を用いることができ、特に工業的には
、1,1.2−トリクロロトリフルオロエタンを好まし
く挙げることができる。前記溶媒を使用する場合、通常
溶媒中の前記ジ(ハロアシル)ペルオキシドの濃度は、
2〜30重量%程度であることが望ましい。
族溶媒が特に好ましく、具体的には例えば2−クロロ−
1,2−ジブロモ−1,1,2−トリフルオロエタン、
1,2−ジブロモへキサフルオロプロパン、1,2−ジ
ブロモテトラフルオロエタン、1,1−ジフルオロテト
ラクロロエタン、1.2−ジフルオロテトラクロロエタ
ン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−2,
3゜3−トリクロロブタン、1,1,1.3−テトラク
ロロテトラフルオロプロパン、1,1.1−トリクロロ
ペンタフルオロプロパン、1,1.2−トリクロロトリ
フルオロエタン等を用いることができ、特に工業的には
、1,1.2−トリクロロトリフルオロエタンを好まし
く挙げることができる。前記溶媒を使用する場合、通常
溶媒中の前記ジ(ハロアシル)ペルオキシドの濃度は、
2〜30重量%程度であることが望ましい。
〈発明の効果〉
本発明のフルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製
造方法は、特定のカルボン酸を反応溶媒として用いてい
るため目的とするフルオロアルキル基含有芳香族窒素化
合物を高収率で容易にかつ工業的には有効に製造するこ
とができる。さらに本発明の製造方法で得られるフルオ
ロアルキル基含有芳香族窒素化合物は、撥水撥油剤、医
薬、農薬等の合成中間体およびポリアミド、ポリイミド
等の高分子材料の原料として利用することができる。
造方法は、特定のカルボン酸を反応溶媒として用いてい
るため目的とするフルオロアルキル基含有芳香族窒素化
合物を高収率で容易にかつ工業的には有効に製造するこ
とができる。さらに本発明の製造方法で得られるフルオ
ロアルキル基含有芳香族窒素化合物は、撥水撥油剤、医
薬、農薬等の合成中間体およびポリアミド、ポリイミド
等の高分子材料の原料として利用することができる。
〈実施例〉
以下本発明を実施例および比較例にもとすいて具体的に
説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
ス」1」Y
N、N’ −ジアセチル−P−フェニレンジアミン0.
19g (ImmoQ)をヘプタフルオロ酪酸4g (
I9mmoQ)に溶解させた後、ビス(ヘプタフルオロ
ブチリル)ペルオキシド0.43g (Immolll
)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエタン溶
液8.5gを添加し窒素気流下、40℃において、5時
間反応させた。反応終了後反応物を100mQの水、1
00mQの飽和重曹水、100mQの飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、反応生成物をガ
スクロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1元
素分析により分析した。その結果下記構造式で表わされ
るヘプタフルオロプロピル−N、N’−ジアセチル−p
−フェニレンジアミンが95%の収率で得られた。その
分析結果を下記に示す。
19g (ImmoQ)をヘプタフルオロ酪酸4g (
I9mmoQ)に溶解させた後、ビス(ヘプタフルオロ
ブチリル)ペルオキシド0.43g (Immolll
)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエタン溶
液8.5gを添加し窒素気流下、40℃において、5時
間反応させた。反応終了後反応物を100mQの水、1
00mQの飽和重曹水、100mQの飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、反応生成物をガ
スクロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1元
素分析により分析した。その結果下記構造式で表わされ
るヘプタフルオロプロピル−N、N’−ジアセチル−p
−フェニレンジアミンが95%の収率で得られた。その
分析結果を下記に示す。
GC−MS
IR(an−1)
”H−NMR
360(M”)、318,276.1573260(マ
NH)、1660(マCo)、1345(マCF、 )
1225(マCF、 ) (cocla)δ、9.50(I)1.b)。
NH)、1660(マCo)、1345(マCF、 )
1225(マCF、 ) (cocla)δ、9.50(I)1.b)。
8.75(I1(、b)、7.70〜7.42(3H,
m)。
m)。
2.12(3H,s)、2.10(3t(、s)元素分
析 理論値 C:43.34% H:3.08
%実測値 C:43.44% H:2.78%邦ff
i ヘプタフルオロ酪酸を用いない以外は実施例1と同様に
反応を行なったところ、ヘプタフルオロプロピル−N、
N’−ジアセチル−p−フェニレンジアミンが56%の
収率で得られた。
析 理論値 C:43.34% H:3.08
%実測値 C:43.44% H:2.78%邦ff
i ヘプタフルオロ酪酸を用いない以外は実施例1と同様に
反応を行なったところ、ヘプタフルオロプロピル−N、
N’−ジアセチル−p−フェニレンジアミンが56%の
収率で得られた。
1凰五至
ヘプタフルオロ酪酸の代わりにトリフルオロ酢酸4g
(35mmoQ)を用いた以外は実施例1と同様に反応
を行なったところ、ヘプタフルオロプロピル−N、N’
−ジアセチル−p−フェニレンジアミンが88%の収率
で得られた。
(35mmoQ)を用いた以外は実施例1と同様に反応
を行なったところ、ヘプタフルオロプロピル−N、N’
−ジアセチル−p−フェニレンジアミンが88%の収率
で得られた。
大意■且
ヘプタフルオロ酪酸のかわりに酢酸4g(67mmo1
2)を用いた以外は実施例1と同様に反応を行なったと
ころ、ヘプタフルオロプロピル−N。
2)を用いた以外は実施例1と同様に反応を行なったと
ころ、ヘプタフルオロプロピル−N。
N′−ジアセチル−p−フェニレンジアミンが80%の
収率で得られた。
収率で得られた。
失l盤土
4.4′−ジ(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル0
.28g (ImmoQ)を、ヘプタフルオロ酪酸4g
(I9mmoQ)に溶解させた後、ビス(ヘプタフル
オロブチリル)ペルオキシドQ、43g (Immof
2)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエタン
溶液8.5gを添加し、窒素気流下、40℃において、
5時間反応させた。反応終了後反応物を100mQの水
、100−の飽和重曹水、100mQの飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、反応生成物を
ガスクロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1
元素分析により分析した。その結果下記構造式で表わさ
れるヘプタフルオロプロピル−4゜4′−ジ(アセチル
アミノ)ジフェニルエーテルが60%の収率で、ビス(
ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチル
アミノ)ジフェニルエーテルが35%の収率で得られた
。その分析結果を下記に示す。
.28g (ImmoQ)を、ヘプタフルオロ酪酸4g
(I9mmoQ)に溶解させた後、ビス(ヘプタフル
オロブチリル)ペルオキシドQ、43g (Immof
2)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエタン
溶液8.5gを添加し、窒素気流下、40℃において、
5時間反応させた。反応終了後反応物を100mQの水
、100−の飽和重曹水、100mQの飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、反応生成物を
ガスクロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1
元素分析により分析した。その結果下記構造式で表わさ
れるヘプタフルオロプロピル−4゜4′−ジ(アセチル
アミノ)ジフェニルエーテルが60%の収率で、ビス(
ヘプタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチル
アミノ)ジフェニルエーテルが35%の収率で得られた
。その分析結果を下記に示す。
GC−MS
IR(aI+−’)
”H−NMR
元素分析
452(M”)、410,368,2493260(マ
N1()、1660(マCo)、1345(マCF3)
1225(ICF2) (CDC13)δ=9.60(I)!、b)。
N1()、1660(マCo)、1345(マCF3)
1225(ICF2) (CDC13)δ=9.60(I)!、b)。
8.69(LH,b) 、7.70−7.42(3)1
.m) 。
.m) 。
7.20−6.84(4H,m)、2.12(611,
s)理論値 C:50.44% H:3.34%実測
値 C:50.21% H:3.10c1C−MS IR((!!1−1) ’H−NMR 元素分析 620(M+)、578,536,4173260(マ
NH)、1670(マCo)、1340(ycF、)1
220(νCF2) (CDC1z)δ=9.60 (IH、b) 。
s)理論値 C:50.44% H:3.34%実測
値 C:50.21% H:3.10c1C−MS IR((!!1−1) ’H−NMR 元素分析 620(M+)、578,536,4173260(マ
NH)、1670(マCo)、1340(ycF、)1
220(νCF2) (CDC1z)δ=9.60 (IH、b) 。
8.70(LH,b) 、7.70−7.42(2H,
m) 。
m) 。
7.20−6.85(4)1.++)、2.15(68
,s)理論値 c:42−、sow H:2.28
%実測値 C:42.31% H:2.16対邦遣u
1λ ヘプタフルオロ酪酸を用いない以外は実施例4と同様に
反応を行ったところ、ヘプタフルオロプロピル−4,4
′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテルが31
%の収率で、ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4
’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテルが22
%の収率で得られた。
,s)理論値 c:42−、sow H:2.28
%実測値 C:42.31% H:2.16対邦遣u
1λ ヘプタフルオロ酪酸を用いない以外は実施例4と同様に
反応を行ったところ、ヘプタフルオロプロピル−4,4
′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテルが31
%の収率で、ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,4
’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテルが22
%の収率で得られた。
失立叢且
ヘプタフルオロ酪酸の代わりにトリフルオロ酢酸を用い
た以外は実施例4と同様に反応を行なったところ、ヘプ
タフルオロプロピル−4,4′ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが58%の収率で、ビス(ヘプタフ
ルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが33%の収率で得られた。
た以外は実施例4と同様に反応を行なったところ、ヘプ
タフルオロプロピル−4,4′ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが58%の収率で、ビス(ヘプタフ
ルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが33%の収率で得られた。
末1貫且
ビス(ヘプタフルオロブチリル)ペルオキシドのかわり
にビス(トリデカフルオロヘプタノイル)ペルオキシド
を用いた以外は実施例4と同様に反応を行ない同様な分
析方法を用い分析を行なったところ、トリデカフルオロ
へキシル−4,4′ビス(アセチルアミノ)ジフェニル
エーテルが52%の収率で、ビス(トリデカフルオロヘ
キシル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニ
ルエーテルが32%の収率で得られた。
にビス(トリデカフルオロヘプタノイル)ペルオキシド
を用いた以外は実施例4と同様に反応を行ない同様な分
析方法を用い分析を行なったところ、トリデカフルオロ
へキシル−4,4′ビス(アセチルアミノ)ジフェニル
エーテルが52%の収率で、ビス(トリデカフルオロヘ
キシル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニ
ルエーテルが32%の収率で得られた。
失凰且I
ビス(ヘプタフルオロブチリル)ペルオキシドのかわり
にビス(ペンタデカフルオロオクタノイル)ペルオキシ
ドを用いた以外は実施例4と同様に反応を行ない同様な
分析方法を用い分析を行なったところ、ペンタデカフル
オロヘプチル−4゜4′−ビス(アセチルアミノ)ジフ
ェニルエーテルが48%の収率で、ビス(ペンタデカフ
ルオロヘプチル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが30%の収率で得られた。
にビス(ペンタデカフルオロオクタノイル)ペルオキシ
ドを用いた以外は実施例4と同様に反応を行ない同様な
分析方法を用い分析を行なったところ、ペンタデカフル
オロヘプチル−4゜4′−ビス(アセチルアミノ)ジフ
ェニルエーテルが48%の収率で、ビス(ペンタデカフ
ルオロヘプチル)−4,4’−ビス(アセチルアミノ)
ジフェニルエーテルが30%の収率で得られた。
去】1」炙
4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ン0.33g (Immon)をヘプタフルオロ酪酸4
g (I9mmo Q)に溶解させた後、ビス(ヘプ
タフルオロブチリル)ペルオキシド0.43g (Im
moQ)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエ
タン溶液8.5gを添加し、窒素気流下、40℃におい
て、5時間反応させた。反応終了後反応物を100mQ
の水、100−の飽和重曹水、100mQの飽和食塩水
で洗浄し。
ン0.33g (Immon)をヘプタフルオロ酪酸4
g (I9mmo Q)に溶解させた後、ビス(ヘプ
タフルオロブチリル)ペルオキシド0.43g (Im
moQ)を含む1,1.2−トリクロロトリフルオロエ
タン溶液8.5gを添加し、窒素気流下、40℃におい
て、5時間反応させた。反応終了後反応物を100mQ
の水、100−の飽和重曹水、100mQの飽和食塩水
で洗浄し。
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、反応生成物をガスク
ロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1元素分
析により分析した。その結果下記構造式で表わされるヘ
プタフルオロプロピル−4゜4′−ビス(アセチルアミ
ノ)ジフェニルスルフォンが6o%の収率で、ビス(ヘ
プタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチルア
ミノ)ジフェニルスルフォンが30%の収率で得られた
。
ロマトグラフィー、GC−MS、IR,NMR1元素分
析により分析した。その結果下記構造式で表わされるヘ
プタフルオロプロピル−4゜4′−ビス(アセチルアミ
ノ)ジフェニルスルフォンが6o%の収率で、ビス(ヘ
プタフルオロプロピル)−4,4’−ビス(アセチルア
ミノ)ジフェニルスルフォンが30%の収率で得られた
。
その分析結果を下記に示す。
GC−MS 500(M”)、458,416,
297IR(an−1) H−NMR 元素分析 3260(yNH) 、 1660(wco) 、 1
345(tcF、 )1225(ycFz)、1140
(マSO□)(CDC1,)δ=9.60(IH,b)
。
297IR(an−1) H−NMR 元素分析 3260(yNH) 、 1660(wco) 、 1
345(tcF、 )1225(ycFz)、1140
(マSO□)(CDC1,)δ=9.60(IH,b)
。
8.70(LH,b) 、7.70〜7.40(7H,
m)。
m)。
2.12(6H,s)
理論値 C:45.60% H:3.02%実測値
C:45.33Z H:3.15xC−MS 丁R(CM−1) ”H−NMR 元素分析 668(M+)、626,584,4653260(t
NH)、1670(yco)、1340(tcF3)1
220(γCF2)、1140(マSO,)(CDC1
3)δ、9.60(LH,b)。
C:45.33Z H:3.15xC−MS 丁R(CM−1) ”H−NMR 元素分析 668(M+)、626,584,4653260(t
NH)、1670(yco)、1340(tcF3)1
220(γCF2)、1140(マSO,)(CDC1
3)δ、9.60(LH,b)。
8.70(IH,b) 、7.70〜7.40(6H,
m) 。
m) 。
2.15(6H,s)
理論値 C:39.53% H:2.11%実測値
C:39.31% H:2.22%共傭日」エ ヘプタフルオロ酪散を用いない以外は実施例8と同様に
反応を行ったところ、ヘプタフルオロプロピル−4,4
′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォンが3
5%の収率で、ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,
4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォンが
23%の収率で得られた。
C:39.31% H:2.22%共傭日」エ ヘプタフルオロ酪散を用いない以外は実施例8と同様に
反応を行ったところ、ヘプタフルオロプロピル−4,4
′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォンが3
5%の収率で、ビス(ヘプタフルオロプロピル)−4,
4’−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォンが
23%の収率で得られた。
失l涯1
4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ンの代わりに3,5,3’ 、5’ −テトラメチル−
4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル
を用いた以外は実施例8と同様に反応を行ない同様な分
析方法を用いて分析を行ったところ、下記構造式で示さ
れる2−へブタフルオロプロピル−3,5,3’ 、5
’ −テトラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ
)ジフェニルエーテルが5o%の収率で、2,2′−ビ
ス(ヘプタフルオロプロピル)−3,5,3’5′−テ
トラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェ
ニルエーテルが36%の収率で得られた。その分析結果
を下記に示す。
ンの代わりに3,5,3’ 、5’ −テトラメチル−
4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルエーテル
を用いた以外は実施例8と同様に反応を行ない同様な分
析方法を用いて分析を行ったところ、下記構造式で示さ
れる2−へブタフルオロプロピル−3,5,3’ 、5
’ −テトラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ
)ジフェニルエーテルが5o%の収率で、2,2′−ビ
ス(ヘプタフルオロプロピル)−3,5,3’5′−テ
トラメチル−4,4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェ
ニルエーテルが36%の収率で得られた。その分析結果
を下記に示す。
GC−MS
IR(as−1)
”H−NMR
元素分析
508 (M”) 、 389
3260 (yNH) 、 1660 bco) 、
1345 (?CF、)1225(νCF2) (CDCI、)δ=9.60(LH,b) 。
1345 (?CF、)1225(νCF2) (CDCI、)δ=9.60(LH,b) 。
8.69(IH,b)、7.42(IH,s)。
7.20(2N、s)、2.33(6H,s)。
2.30(3)1.s)、2.25(3H,s)。
2.12(6H,s)
理論値 C:54.33% H:4.561実測値
C:54.16% H:4.72%C−MS IR(C!l−1) 676 (I4” ) 、 557 3260hNH) 、 1670(tcO) 、 13
40(yCF、 )1220(マCF、 ) ’H−NMR(CDCI3)δ=9.60(2H,b)
。
C:54.16% H:4.72%C−MS IR(C!l−1) 676 (I4” ) 、 557 3260hNH) 、 1670(tcO) 、 13
40(yCF、 )1220(マCF、 ) ’H−NMR(CDCI3)δ=9.60(2H,b)
。
7.42(2H,s)、2.28(I2H,s)。
2.12(6H,s)。
元素分析 理論値 C:46.17% 113.
28対実測値 C:46.05% H:3.33%
去1劃[L更 4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ンの代わりに2,2−ビス(4−アセチルアミノフェニ
ル)へキサフルオロプロパンを用いた以外は実施例8と
同様に反応を行ない同様な分析方法を用いて分析を行っ
たところ、下記構造式で示される2−(4−アセチルア
ミノ−3−へブタフルオロプロピルフェニル)−2−(
4−アセチルアミノフェニル)へキサフルオロプロパン
が48%の収率で、2,2−ビス(4−アセチルアミノ
−3−へブタフルオロピロピルフェニル)へキサフルオ
ロプロパンが34%の収率で得られた。その分析結果を
下記に示す。
28対実測値 C:46.05% H:3.33%
去1劃[L更 4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ンの代わりに2,2−ビス(4−アセチルアミノフェニ
ル)へキサフルオロプロパンを用いた以外は実施例8と
同様に反応を行ない同様な分析方法を用いて分析を行っ
たところ、下記構造式で示される2−(4−アセチルア
ミノ−3−へブタフルオロプロピルフェニル)−2−(
4−アセチルアミノフェニル)へキサフルオロプロパン
が48%の収率で、2,2−ビス(4−アセチルアミノ
−3−へブタフルオロピロピルフェニル)へキサフルオ
ロプロパンが34%の収率で得られた。その分析結果を
下記に示す。
GC−MS
IR(C11−”)
”H−NMR
元素分析
586(H+)、467
3260 (yNH)、 1660 (?CO) 、
1345 (tcF3)1225(マCF2) (coct3)δ=9.60(IH,b) 。
1345 (tcF3)1225(マCF2) (coct3)δ=9.60(IH,b) 。
8.71(IH,b)、7.70−7.45(7H,m
)。
)。
2.18(6H,s)。
理論値 C:45.07% H:2.58%実測値
C:44.90% H:2.69%C−MS IR(all−’) H−NMR 元素分析 754 (M”) 、 635 3260(yNH)、1670(yco)、1340(
yCF、)1220(マCF2) (CDC1,)δ=9.60(2H,b) 。
C:44.90% H:2.69%C−MS IR(all−’) H−NMR 元素分析 754 (M”) 、 635 3260(yNH)、1670(yco)、1340(
yCF、)1220(マCF2) (CDC1,)δ=9.60(2H,b) 。
7.25−7.45(6H,m)、2.18(68,s
)。
)。
理論値 C:39.82% H:1.871実測値
C:39.65% H:2.01%去1■LLと 4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ンのかわりに2,2−ビス(4−(4−アセチルアミノ
フェノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパンを用い
た以外は実施例8と同様に反応を行ない同様な分析方法
を用いて分析を行なったところ、下記構造式で示される
2−(4−(4−アセチルアミノ−3−へブタフルオロ
プロピルフェノキシ)フェニル) −2−(4−(4−
アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロ
プロパンが46%の収率で、2,2−ビス(4−(4−
アセチルアミノ−3−へブタフルオロプロピルフェノキ
シ)フェニル)へキサフルオロプロパンが35%の収率
で得られた。その分析結果を下記に示す。
C:39.65% H:2.01%去1■LLと 4.4′−ビス(アセチルアミノ)ジフェニルスルフォ
ンのかわりに2,2−ビス(4−(4−アセチルアミノ
フェノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパンを用い
た以外は実施例8と同様に反応を行ない同様な分析方法
を用いて分析を行なったところ、下記構造式で示される
2−(4−(4−アセチルアミノ−3−へブタフルオロ
プロピルフェノキシ)フェニル) −2−(4−(4−
アセチルアミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロ
プロパンが46%の収率で、2,2−ビス(4−(4−
アセチルアミノ−3−へブタフルオロプロピルフェノキ
シ)フェニル)へキサフルオロプロパンが35%の収率
で得られた。その分析結果を下記に示す。
GC−MS
IR(aI+−’)
”H−NMR
しr。
770 (M”) 、 651
3260(sNH)、1660(tco)、1345(
yCF、)1225(マCF、 ) (CDC1,)δ、9.60(IH,b) 。
yCF、)1225(マCF、 ) (CDC1,)δ、9.60(IH,b) 。
元素分析
8.71(IH2b)、7.20−7.45(I5H2
m)t2.12(6H,s)。
m)t2.12(6H,s)。
理論値 C:53.00% )I:3.01%実測値
C:52.89% H:3.15%938(M+
)、819 3260(マNH)、1670(マCo)、1340(
マCF、 )1220(マCF2) (CDC13)δ=9.60(2H,b) 。
C:52.89% H:3.15%938(M+
)、819 3260(マNH)、1670(マCo)、1340(
マCF、 )1220(マCF2) (CDC13)δ=9.60(2H,b) 。
7.25〜7.45(I4H,m) 。
2.12(6H,s)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中、Xはフッ素原子、塩素原子、水素原子を示し、
n_1は1〜10の整数を示す)で表わされるジ(ハロ
アシル)ペルオキシドと、 下記一般式(II)または(III) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) (式中、R_1およびR_2は炭素数1〜10のアシル
基もしくはフルオロアシル基を示し、R_3は炭素数1
〜10のアルキル基又はフルオロアルキル基を示す。ま
たX_1は酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチ
ルメチン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメ
チル)メチン又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。ここで Aは酸素原子、スルホニル、カルボニル、ジメチルメチ
ン、メチレン、エチレン、ビス(トリフルオロメチル)
メチンを示し、mは0〜3の整数を示す。n_2は0ま
たは1を示し、n_3は0〜3の整数を示す。)で表わ
される芳香族窒素化合物とを反応させ、前記一般式(I
I)または(III)で示される芳香族窒素化合物中の芳香
環に前記一般式( I )で示されるジ(ハロアシル)ペ
ルオキシド中のX(CF_2)_n_1−を導入する方
法であって、前記反応を行う際の溶媒として、下記一般
式(IV) R_4COOH・・・(IV) (式中R_4は、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数
1〜3のペルフルオロアルキル基を示す)で表わされる
カルボン酸を用いることを特徴とするフルオロアルキル
基含有芳香族窒素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25029989A JPH03112951A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25029989A JPH03112951A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03112951A true JPH03112951A (ja) | 1991-05-14 |
Family
ID=17205843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25029989A Pending JPH03112951A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | フルオロアルキル基含有芳香族窒素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03112951A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019159652A1 (ja) | 2018-02-16 | 2019-08-22 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロジアシルパーオキサイド、溶液、重合開始剤、重合体の製造方法、及び、パーフルオロアシルクロリド |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP25029989A patent/JPH03112951A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019159652A1 (ja) | 2018-02-16 | 2019-08-22 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロジアシルパーオキサイド、溶液、重合開始剤、重合体の製造方法、及び、パーフルオロアシルクロリド |
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