JPH0311371B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0311371B2
JPH0311371B2 JP59021019A JP2101984A JPH0311371B2 JP H0311371 B2 JPH0311371 B2 JP H0311371B2 JP 59021019 A JP59021019 A JP 59021019A JP 2101984 A JP2101984 A JP 2101984A JP H0311371 B2 JPH0311371 B2 JP H0311371B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating
time
heated
high frequency
gas sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59021019A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60164128A (ja
Inventor
Shigeki Ueda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59021019A priority Critical patent/JPS60164128A/ja
Priority to US06/698,393 priority patent/US4582971A/en
Priority to AU38440/85A priority patent/AU551298B2/en
Priority to CA000473624A priority patent/CA1220529A/en
Priority to EP85300797A priority patent/EP0157473B1/en
Priority to DE8585300797T priority patent/DE3571296D1/de
Publication of JPS60164128A publication Critical patent/JPS60164128A/ja
Publication of JPH0311371B2 publication Critical patent/JPH0311371B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/66Circuits
    • H05B6/68Circuits for monitoring or control

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は気体センサを備えた高周波加熱装置に
係り、とりわけ茶わん蒸しや牛乳、酒かんなどの
微妙な火加減が必要とされる被加熱物の自動調理
を可能としたものに関する。
従来例の構成とその問題点 従来より気体センサを用いて茶わん蒸しや牛
乳、酒かんなどの微妙な火加減を必要とする食品
の自動調理できるよう構成した高周波加熱装置
は、広く実用に供されている。しかしながらこれ
らの食品はいずれも失敗なく上手に仕上げること
の困難なものばかりである。茶わん蒸しは卵液の
凝固が始まる時点の微量な蒸気を検出しないと過
加熱となつてしまい、たちまちスが入つてしま
う。牛乳や酒かんは仕上り温度が低く、従つてや
はり微量の蒸気やアルコールを確実にとられるこ
とができないと過加熱になりがちである。
第3図は茶わん蒸しの従来例を示す加熱パター
ンである。このような微妙な火加減を実現するた
め、加熱は2ステージに分かれている。高出力で
分量に応じて一定時間だけ加熱を行う前加熱と、
低出力でゆつくりと加熱を進め気体センサによる
仕上り検知を行う仕上げ加熱とである。
前加熱は茶わん蒸しの卵液と具の温度を短時間
に上昇させるステージであり、卵液の凝固が始ま
る前に打ち切られる。このステージはラフな加熱
で良く、トータル調理タイムを短縮するために設
けられ、センサは用いられない。前加熱タイム
TPは分量に応じて決定され、分量は手動により
入力される。この前加熱タイムTPはタイマによ
り計数される。
続く仕上げ加熱ではマイクロ波出力は断続さ
れ、低出力でゆつくりと加熱が進められる。この
とき卵液は凝固点に達し、蒸気の発生が始まる。
気体センサはこの蒸気の発生Δhをとらえ、加熱
タイムTFを自動的に算出し調理を終える。この
とき高周波発生手段たるマグネトロンを冷却し、
かつ加熱室内の換気を行うフアンは、一般に加熱
の実行中ずつと動作する。
さてかかる従来の茶わん蒸しの自動調理の問題
点は、少量ほど過加熱になりやすく、1碗でのス
立ちを妨ぐのが困難なことである。つまりもとも
と微量の蒸気が発生した時点を検出しなければな
らない茶わん蒸しにおいて、1碗は発生蒸気の総
重量自体が少なく、かつわずかな検知遅れの間に
加熱が進んでしまい、スが入つたり出来栄えが汚
なくなつたりしがちである。
発明の目的 本発明は上記従来の問題を解消するもので、茶
わん蒸しばかりでなく牛乳や酒かんなどの微妙な
火加減が必要な被加熱物の自動調理において、セ
ンサの検知感度を飛躍的に高めることを目的とす
る。
発明の構成 上記目的を達成するため、本発明の高周波加熱
装置は被加熱物から発生する水蒸気やガスを検出
する気体センサとを備え、マイクロ波を断続する
と共に換気手段たるフアンをマイクロ波よりは遅
延してオンさせ、マイクロ波のオン時間よりは短
いオン時間としながら両者を同期をとりながら断
続制御する構成であり、気体センサの検知感度を
高め、微妙な火加減が必要な被加熱物に対して最
適な加熱を自動的に行うことができる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について図面に基づいて
説明する。
第1図は本発明に係る高周波加熱装置の斜視図
である。本体1の前面には開閉自在に扉体2が軸
支され、操作パネル3が配されている。操作パネ
ル3上にはオート・キー4が具備され、ユーザは
所望のメニユーを自動調理することができる。
第2図はかかる操作パネルの要部詳細図であ
る。オート・キー4としては図示の通りさまざま
なメニユーが配されており、茶わん蒸しキー5も
これらオート・キーの一つとして設けられてい
る。この他に牛乳や酒かんもオート・キーとして
図示の通り配されている。
第4図は本発明の一実施例を示す茶わん蒸しの
加熱パターンである。加熱パターンは従来同様前
加熱TPと仕上げ加熱Fの2ステージから成る。従
来と異なるのは、仕上げ加熱での換気手段たるフ
アンの断続である。
第5図はかかる仕上げ加熱でのマイクロ波出力
とフアンの断続のタイミングを示す詳細図であ
る。
図示の通り、マイクロ波とフアンとの断続のタ
イミングは少しずらせてある。すなわちマイクロ
波のオンタイムt1とオフタイムt2に対し、遅延タ
イムt3だけ遅れてフアンが動作し、かつそのオン
タイムt4はマイクロ波のオンタイムt1より短い。
フアンの断続の1サイクルはマイクロ波のそれと
等しい。
さて、マグネトロンのオン時には、そのカソー
ドが十分加熱されるまで、数秒程度マイクロ波が
照射されないので、この間、フアンを停止しても
マグネトロンには何らダメージを与えることがな
く、よつてフアンをマグネトロンがオンした時点
からある所定時間t3だけ遅延してオンさせ、かつ
そのオン時間t4をマグネトロンのオン時間t1より
は短くすることができるのである。かかる制御に
より、マイクロ波出力がオフされている間に繰り
越し加熱(むらし加熱)によつて発生した蒸気
は、換気されることなく加熱室内に貯えられ、し
かもフアンのオン時間は極限まで抑制されてい
る。このため次にフアンがマイクロ波と共にオン
された際には、この貯えられた蒸気が一時に気体
センサに届くので、第4図に示すよう絶対湿度は
脈打ち現象を呈する(S)。このため第3図の従
来に比して気体センサの蒸気感度を大きくとれ
る。つまり従来マイクロ波のオフ時に排出してい
た蒸気を貯えておけ、微分的な検知感度を積分値
的な感度に改善することができるわけである。一
例を掲げると従来では1碗の検知に5分40秒を要
したのが、本発明によれば同一検知レベルで5分
10秒であつた。すなわちこの差が感度の向上によ
るものだと言える。
以上の加熱パターンにより少量の茶わん蒸しの
ス立ちを防止し、また牛乳や酒かもなどの低温調
理に応用すれば、微量な蒸気やガスを確実にとら
えることができ、過加熱を抑えて適切な調理が可
能となる。
さて続いてかかる高周波加熱装置の構成を説明
する。第6図において、操作パネル3上のオート
キー4から入力された自動調理指令は、制御部6
によつて解読される。このとき茶わん蒸しキーが
押されれば、制御部6は加熱室7内に載置された
被加熱物8たる茶わん蒸しの加熱を始める。加熱
はドライバ9を介して高周波発生手段10たるマ
グネトロンに給電されて制御される。換気手段1
1たるフアンはこのマグネトロンを冷却すると共
に、加熱室7内の換気を行い、排気ガイド12よ
り換気風を機体外へ排出する。気体センサ13は
この排気ガイド12内に配設され、検知回路14
を経て制御部6へ被加熱物8から発生する蒸気量
やガス量を伝送する。制御部6は仕上げ加熱モー
ドにおいてこの気体センサ13を用いて、加熱の
完了時点を検出し、調理を自動的に終了する。
なお載置皿14はモータ15により回転駆動さ
れ、マイクロ波加熱の際の焼きムラが改善され
る。
発明の効果 以上のように本発明によれば次の効果を得るこ
とができる。
(1) 茶わん蒸しや牛乳、酒かんなど微量な蒸気や
ガスを検出しなければならない被加熱物におい
て、その検知感度を飛躍的に高めることができ
る。特に少量の過加熱を大幅に改善できる。
(2) マイクロ波のオフ時に換気風が停止されるの
で被加熱物が冷却されず、従つて繰り越し加熱
(むらし加熱)が効果的に行え、加熱時間の短
縮がはかれる。
(3) 換気風のオンタイムが従来の1/2以下となり、
被加熱物の表面の乾燥を著しく改善できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装
置の本体斜視図、第2図は同操作パネル詳細図、
第3図は従来の茶わん蒸しの加熱パターンを示す
図、第4図は本発明の一実施例を示す茶わん蒸し
の加熱パターン図、第5図はその仕上げ加熱の詳
細図、第6図は本発明の一実施例を示す構成のブ
ロツク図である。 6……制御部、7……加熱室、8……被加熱
物、10……高周波発生手段、11……換気手
段、13……気体センサ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被加熱物を載置する加熱室と、この加熱室に
    結合された高周波発生手段と、前記加熱室を換気
    する換気手段と、被加熱物から発生する水蒸気あ
    るいはガスを検出する気体センサと、前記高周波
    発生手段への給電を制御する制御部とより成り、
    前記制御部は前記高周波発生手段を少なくともあ
    る期間断続動作させ、この断続動作中に前記気体
    センサを用いて被加熱物から発生する水蒸気ある
    いはガスを検出するとともに、前記換気手段を前
    記高周波発生手段がオンした時点からある所定時
    間だけ遅延してオンさせ、かつそのオン時間を前
    記高周波発生手段のオン時間よりは短くなるよう
    制御した高周波加熱装置。
JP59021019A 1984-02-07 1984-02-07 高周波加熱装置 Granted JPS60164128A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59021019A JPS60164128A (ja) 1984-02-07 1984-02-07 高周波加熱装置
US06/698,393 US4582971A (en) 1984-02-07 1985-02-05 Automatic high-frequency heating apparatus
AU38440/85A AU551298B2 (en) 1984-02-07 1985-02-05 High frequency heating apparatus
CA000473624A CA1220529A (en) 1984-02-07 1985-02-05 Automatic high-frequency heating apparatus
EP85300797A EP0157473B1 (en) 1984-02-07 1985-02-06 Automatic high-frequency heating apparatus
DE8585300797T DE3571296D1 (en) 1984-02-07 1985-02-06 Automatic high-frequency heating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59021019A JPS60164128A (ja) 1984-02-07 1984-02-07 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60164128A JPS60164128A (ja) 1985-08-27
JPH0311371B2 true JPH0311371B2 (ja) 1991-02-15

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ID=12043322

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59021019A Granted JPS60164128A (ja) 1984-02-07 1984-02-07 高周波加熱装置

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02178520A (ja) * 1988-12-28 1990-07-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 複合加熱調理器
EP0413333A3 (en) 1989-08-18 1991-07-24 Hitachi, Ltd. A superconductized semiconductor device

Family Cites Families (2)

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JPS5377365A (en) * 1976-12-21 1978-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Automatic heating controller
JPH0739568B2 (ja) * 1982-06-30 1995-05-01 旭化成工業株式会社 粘着剤用合成ラテツクス

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JPS60164128A (ja) 1985-08-27

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