JPH03117828U - - Google Patents

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JPH03117828U
JPH03117828U JP2715290U JP2715290U JPH03117828U JP H03117828 U JPH03117828 U JP H03117828U JP 2715290 U JP2715290 U JP 2715290U JP 2715290 U JP2715290 U JP 2715290U JP H03117828 U JPH03117828 U JP H03117828U
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JP
Japan
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wafer
wafer stage
exposure
reticle
reduction lens
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JP2715290U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案実施例の作用部位、又他の関連
部位の縮小投影露光装置概略構成側面図、第２図
は本考案実施例の具体的取付例の下面図、第３図
は本考案実施例の具体的取付例の側面図である。 １……照明系、２……レテイクル原画面、３…
…縮小レンズ、４……ウエハ・ステージ、５……
ウエハ、６……ウエハキヤリア、７……ジヨブカ
ード、８……ウエハキヤリア台、９……読み取り
機。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ウエハ等を載置してステツプ送りするウエハス
    テージと、このウエハステージを駆動するウエハ
    ステージ制御部と、ウエハステージ上方に配置さ
    れた縮小レンズと、この縮小レンズ上方に配置さ
    れたレテイクルと、このレテイクル上の回路パタ
    ーンを前述ウエハ上に転写する露光の光源と、装
    置全体を制御する全体制御部とを具備する投影露
    光装置に於いて、ウエハ露光条件をウエハキヤリ
    アに具備したジヨブカードから直接読み富み、自
    動起動露光処理を行い、オペレータのパラメータ
    入力を必要としない事を特徴とした投影露光装置
    。
JP2715290U 1990-03-19 1990-03-19 Pending JPH03117828U (ja)

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JP2715290U JPH03117828U (ja) 1990-03-19 1990-03-19

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JP2715290U JPH03117828U (ja) 1990-03-19 1990-03-19

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JPH03117828U true JPH03117828U (ja) 1991-12-05

Family

ID=31530020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2715290U Pending JPH03117828U (ja) 1990-03-19 1990-03-19

Country Status (1)

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JP (1) JPH03117828U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008277296A (ja) * 2007-05-07 2008-11-13 Hon Hai Precision Industry Co Ltd カード用コネクタ及びカード用コネクタ組立体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008277296A (ja) * 2007-05-07 2008-11-13 Hon Hai Precision Industry Co Ltd カード用コネクタ及びカード用コネクタ組立体

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