JPH03119077A - コーティング用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なポリボロシラザンを必須成分とする耐熱
性、耐摩耗性、耐薬品性及び耐食性に優れ、かつ高硬度
の膜を形成し得るコーティング用組成物に関し、更に詳
しくは特定のポリボロシラザンを必須成分とするコーテ
ィング用組成物に関する。

〔従来の技術〕

従来より金属材料や無機材料の表面をコーティング処理
して、該材料の耐熱性、耐摩耗性、更には耐薬品性を改
善することは広く行われている。

特に金属材料のコーティング法としては、メツキ、リン
酸処理、あるいはクロム酸処理して各種被膜を形成する
方法や種々の有機高分子系樹脂と顔料及び必要に応じ添
加剤を混合した塗料による塗装法が知られている。

しかしながら、メツキ、リン酸処理あるいはクロム酸処
理はその廃液による環境汚染が問題となり、廃液処理に
は多大の労力と費用を必要とする欠点があり、また各種
有機高分子系樹脂塗料は耐熱性が不充分であって、２０
０’Ｃ以上で劣化するものが多く、３００℃以上の高温
下で使用可能なものはほとんどない。

これらの欠点を解消する方法として、シリコーン系塗料
、ポリチタノカルボシラン系塗料、更にはポリ（ジシリ
ル）シラザン重合体等（特公昭６１−３８９３３号公報
）、ポリメタロシラザン重合体（特願昭６３−４５９１
３号）を使用する方法が提案されている。

しかしながら、シリコーン系塗料は２００’Ｃ以上の高
温雰囲気下でも耐熱効果に優れた被膜を与えるものの、
ピンホールが発生し易く、またこのピンホールの発生を
防止するためにその被膜の膜厚を厚くすると焼成中に被
膜にクラックやブリスターが生じたり剥離が生ずる場合
がある。このような現象は３００℃以上の温度領域下に
おいて特に顕著にみられるため、シリコーン系塗料を用
いる場合には、シリコーン樹脂の架橋密度を減少させる
必要があり、このため形成被膜の表面硬度が低下すると
いう難点が生じる。

また、ポリチタノカルボシラン系塗料は低温焼成（４０
０℃以下）における表面硬度が充分でない上、原料製造
工程が複雑であり、その製造コストが高価となるという
欠点がある。

また、ポリ（ジシル）シラザン系重合体を用いる方法は
、７５０℃以上の高温下で不活性雰囲気又は真空中で熱
分解を行うプロセスを採る必要があり、その施行性に多
く困難さを伴う、同様にポリシラザンから得られた窒化
珪素の被覆膜についての報告もなされているが、クラッ
クが生じており十分実用的価値を有するものが得られて
いない（Ｌ　Ｓ、　Ｃａｂｌｉｎｇ　ｅｔ　ａｌ、“Ｆ
ｏｒｍａｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣｅｒａｍｉｃＣｏｍｐｏｓ
ｉｔｉｏｎｓ　Ｕｔｉｌｉｚｉｎｇ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　
Ｐｙｒｏｌｙｓｉｓ”。

Ｐ２７１−２８５、Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５ｃｉｅｎｃ
ｅ　Ｒｅ５ｅａｒｃｈ　ｖｏｌｌ。

Ｅ＋＊ｅｒｇｅｎｔ　Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｍｅｔｈｏｄｓ
　Ｆｏｒ　Ｈｉｇｈ−ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＣｅｒａｍ
ｉｃｓ　ｅｄｉｔｅｄ　ｂｙ　Ｒ，Ｆ、Ｄａｂｉｓ　ｅ
ｔ＋ａｌ、　ＰｌｅｎｕｎＰｒｅｓｓ　Ｎ、　Ｙ、）。

また、ポリメタロシラザン系重合体は、上記コーテイン
グ材に比較して、耐熱性、耐摩耗性及び耐薬品性に優れ
ると共に、表面硬度の高い被膜を与えるという点で長所
を有するものの１５００℃以上の温度範囲ではポリメタ
ロシラザンの結晶化がおこり、それに伴なう体積収縮の
ため、クラックや剥離が生じるといフた難点がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は前記従来技術の有する前記欠点を克服し、耐熱
性、耐摩耗性及び耐薬品性に優れると共に１表面硬度の
高い被覆を与えるコーティング用組成物を提供すること
をその課題とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、下記一般式（ｉ）または（ｉｔ）また
は（ｉｉｉ）または（神）で表わされる架橋結合を有し
。

Ｂ／Ｓｉ原子比が０．０１〜３の範囲内かつ数平均分子
量が約２００〜５００，０００の新規ポリボロシラザン
を少なくとも含有するコーティング用組成物が提供され
る。

４ （ｉ）−Ｂ− ４ （ｉｉｉ）　　−０−Ｂ−０− （式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
〜２０個を有するアルキル基、アルケニル基。

シクロアルキル基、アリール基２アルコキシ基、アルキ
ルアミノ基、水酸基、又はアミノ基であり、Ｒ５はＲ４
のうち窒素原子を有する基の窒素原子に結合している残
基であり９式（短）では各３個の窒素原子及び硼素原子
からなる合計６個の原子のうち少なくとも２個が架橋に
使われ、残りの原子にはＲ９が結合することができる。

）本発明で用いるポリボロシラザンは有機溶媒に可溶で
あり、熱分解収率が高く、熱分解後のセラミックスは１
５００℃以上で非晶質であるといった利点を有する。

本発明のコーティング用組成物の必須成分であるポリボ
ロシラザンの第１の特徴はＢ／Ｓｉ原子比がｏ、ｏｉ〜
３．好ましくはＯ，ＯＳ〜２の範囲内にあることである
。

Ｂ／Ｓｉ原子比が０．０１未満であると硼素を含有させ
た著しい効果がみられず、熱分解後のセラミックスは１
４００℃付近から窒化珪素の結晶化のため、コーテイン
グ膜のはく離がおこり、耐熱性に劣る。

逆にＢ／Ｓｉｇ子比が３を越えると熱分解後のセラミッ
クスは、高温下において硼素化合物の結晶化のため、コ
ーテイング膜のはく離等の現像がみられるので本発明の
所期の目的を達成することができない。

本発明のコーティング組成物の必須成分であるポリボロ
シラザンの第２の特徴は数平均分子量が２００−５００
，０００．好ましくは５００−１０，０００の範囲内で
あることである。

数平均分子量が２００未満であると熱分解工程において
揮発成分が多く発生するため、セラミック収率が低く、
均質で良好なコーテイング膜が得られず、またｓｏｏ　
、　ｏｏｏを越えると基板への塗布が困難になり、作業
性が著しく落ちるので望ましくない。

本発明で用いる前記ポリボロシラザンは、たとえば前記
一般式（Ｉ） （式中、　Ｒ”、Ｒ”、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子
。

アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。但し、Ｒ１、Ｐ　、　Ｒ３の少な
くとも１個は水素原子である。） で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約１００〜５万のポリシラザンと、硼素化合物を反応
させることによって得られる。

この場合、一般式（１）におけるアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、デシル等が挙げられ、アルケ
ニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニ
ル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクチル、デセニル等が
挙げられ、アリール基としてはフェニル、トリル、キシ
リル、ナフチル等が挙げられる。

上記のポリシラザンとして好ましく使用されるものを具
体的に例示すれば、一般式 の繰り返し単位を有する数平均分子量が１００〜５０，
０００の環状無機ポリシラザン、鎖状無機ポリシラザン
又はこれらの混合物から構成されるものが挙げられる。

このようなポリベルヒドロシラザンを出発材料とすれば
、前記の珪素及び窒素を必須成分とし、水素を任意成分
とするポリボロシラザンを製造することができる。

このようなポリシラザンは、たとえばハロシラン、例え
ばジクロロシランをピリジンの如き塩基と反応させて得
られるジクロシランと塩基とのアダクトを更にアンモニ
アと反応させることにより得ることができる。（特願昭
６０−１４５９０３号明細書参照）。

また、繰り返し単位が一＋ＳｉＨ，Ｎ）Ｉ）−及び−（
ＳｉＨ，０（であり、重合度が５−３００、好ましくは
５〜１００のポリシロキサザン（特開昭６２−１９５０
２４号公報）も好ましく使用することができる。

また１組成式（ＲＳｉＨＮＨ）ｘ（（Ｒ３ｉＨ）、−５
Ｎ）ｘ−ｘ（但し、式中、Ｒはアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの基
以外でＳＬに直続する原子が炭素である基、アルキルシ
リル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表わし、そ
して０．４＜Ｘ＜１である。）で表わされるポリオルガ
ノヒドロシラザン（特願昭６０−２９３４７２号明細書
）も使用できる。

硼素化合物としては、有機、無機のいずれの硼素化合物
も使用できる。有機硼素化合物としては、アルコキシド
類、アルキル硼素類、アルケニル硼素類、アルキルアミ
ノホウ素類等が、無機硼素化合物としてはボラン類、ハ
ロゲン化硼素類、アミノ硼素類等が挙げられる。

本発明で好ましく使用される硼素化合物は、下記一般式
（Ｉｆ）〜（Ｖ）で示される化合物である。

Ｂ（Ｒ’）！ （ｒｌ） （Ｂ’ＢＯ）３ （ｍ） Ｂ（Ｒ’）３・Ｌ　　　　　　　　　　　　（Ｖ）（こ
れらの式中、Ｒ４は同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０個を有するア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又はアミ
ノ基であり、ＬはＢ（Ｒ’）３と錯体を形成する化合物
である。）以下、その具体的化合物を例示する。

ｏ（Ｐ）ａ　（ｎ　’）のうちＲ４としてハロゲン原子
を有するものとしては、フルオロボラン、トリブロモボ
ラン、トリフルオロボラン、トリクロロボラン、ジフル
オロボラン、シイオドボラン、イオドボラン、ジブロモ
メチルボラン、ジクロロメチルボラン、ジフルオロメチ
ルボラン、ジフルオロメトキシボラン、シイオドメチル
ボラン、エチニルジフルオロボラン、ジフルオロビニル
ボラン、ジブロモエチルボラン、ジグロロエチルボラン
、ジクロロエトキシボラン、エチルジフルオロボラン、
エチルシイオドボラン、ブロモジメチルボラン、ジブロ
モ（ジメチルアミノ）ボラン、クロロジメチルボラン、
クロロジメトキシボラン、フルオロジメチルボラン、フ
ルオロジメトキシボラン、ジクロロイソプロピルボラン
、ジクロロプロピルボラン、ジフルオロプロポキシボラ
ン、ブロモ（ジメチルアミノ）メチルボラン、クロロジ
ビニルボラン、ジブロモブチルボラン、ブチルジクロロ
ボラン、ブチルジフルオロボラン、ブトキシジフルオロ
ボラン、ブトキシジフルオロボラン、ブロモジエチルボ
ラン、ジブロモ（ジエチルアミノ）ボラン、クロロジエ
チルボラン、クロロジェトキシボラン、ジクロロ（ペン
タフルオロフェニル）ボラン、ジクロロ（ジエチルアミ
ノ）ボラン、（ジエチルアミノ）ジフルオロボラン、ブ
ロモビス（ジメチルアミノ）ボラン、クロロビス（ジメ
チルアミノ）ボラン、ビス（ジメチルアミノ）フルオロ
ボラン、ジブロモフェニルボラン、ジクロロフェニルボ
ラン、ジフルオロフェニルボラン、ジフルオロフェノキ
シボラン、シイオドフェニルボラン、ジブロモ（１，３
−ジメチル−１−ブテニル）ボラン、ジブロモ（３，３
−ジメチル−１−ブテニル）ボラン、ジブロモ（１−エ
チル−１−ブテニル）ボラン、ジブロモ−１−へキセニ
ルボラン、ジブロモ（２−メチルシクロベンジル）ボラ
ン、２−メチルシクロペンチル−ジクロロボラン、ジブ
ロモヘキシルボラン、ジブロモ（２−メチルペンチル）
ボラン、ジエルメトキシボラン、ジブロモ（ジプロピル
アミノ）ボラン、クロロジプロピルボラン、クロロ（１
，１，２−トリメチルプロピル）ボラン、ジクロロ（ジ
イソプロピルアミノ）ボラン、ブチル（ジメチルアミノ
）フルオロボラン、ジクロロ（４−メチルフェニル）ボ
ラン、ジクロロ（メチルフェニルアミノ）ボラン、ブロ
モ（ジメチルアミノ）フェニルボラン、クロロ（ジメチ
ルアミノ）フェニルボラン、９−ブロモ−９−ボラビシ
クロ（３，３，１）ノナン、９−クロロ−９−ボラビシ
クロ（３，３，１）ノナン、ジエチルアミノクロロ−（
１−ブテニルオキシ）ボラン、ジクロロオクチルボラン
、ブロモビス（１−メチルプロピル）ボラン、ブロモジ
ブチルボラン、ジブロモ（ジブチルアミノ）ボラン、ク
ロロビス（２−メチルプロピル）ボラン、ジブチルクロ
ロボラン、ジクロロ（ジブチルアミノ）ボラン、ジブチ
ルフルオロボラン、ブロモビス（ジエチルアミノ）ボラ
ン、クロロビス（ジエチルアミノ）ボラン、ジクロロ（
２゜４．６−トリメチルフエニル）ボラン、３−プロモ
ー７−メチル−３−ボラビシクロ（３，３，１３ノナン
、（ジエチルアミノ）クロロ（シクロペンテニルオキシ
）ボラン、ジクロロ（１，２，３，４，５−ペンタメチ
ル−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）ボラン、
ジブロモ（１，２，３，４，５−ペンタメチル−２，４
−シクロペンタジェン−１−イル）ボラン、シイオド（
１，２，３，４，５−ペンタメチル−２，４−シクロペ
ンタジェン−１−イル）ボラン、クロロジシクロペンチ
ルボラン、クロロ（ジエチルアミノ）フェニルボラン、
ブロモジシクロペンチルボラン、（ｌ−ブチル−１−へ
キセニル）ジクロロボラン、ブロモジペンチルボラン、
クロロジフェニルボラン。

ブロモジフェニルボラン、ジクロロ（ジフェニルアミノ
）ボラン、クロロ（ジイソプロピルアミノ）フェニルボ
ラン、クロロ（ジプロピルアミノ）フェニルボラン、ブ
ロモビス（２−ブロモ−１−へキセニル）ボラン、クロ
ロビス（２−クロロ−１−ヘキセニル）ボラン、クロロ
ジシクロヘキシルボラン、クロロジ＝１−へキセニルボ
ラン、クロロ（１−エチル−１−ブテニル）（１，１，
２−トリメチルプロピル）ボラン、クロロ−１−ヘキセ
ニル（１，１，２−トリメチルプロピル）ボラン、〔メ
チル（４−ブロモフェニル）アミノコクロロ（フェニル
）ボラン、クロロ（２−フェニルエチニル）（１，１，
２−トリメチルプロピル）ボラン、クロロ（ジブチルア
ミノ）フェニルボラン、クロロオクチル（１，１，２−
トリメチルプロピル）ボラン、クロロビス（ジブチルア
ミノ）ボラン、フルオロビス（２，４，６−トリメチル
フエニル）ボラン、（１−ブロモ−１−へキセニル）ビ
ス（２−メチルペンチル）ボラン、（ｌ−ブロモ−１−
ヘキセニル）ジクロロボラン、ビス（１−ブチル−１−
へキセニル）クロロボラン、（５−クロロ−１−ペンテ
ニル）ビス（１，２−ジメチルプロピル）ボラン。

などがある。

Ｒ４としてはアルコキシ基を有するものとしては、ジハ
イドロオキシメトキシボラン、ジメトキシボラン、メト
キシジメチルボラン、メチルジメトキシボラン、トリメ
トキシボラン、エチルジメトキシボラン、ジメチルアミ
ノメトキシメチルボラン、（ジメチルアミノ）ジメトキ
シボラン、ジエチルメトキシボラン、ジメトキシプロピ
ルボラン、ビス（ジメチルアミノ）メトキシボラン、エ
トキシジエチルボラン、ブチルジメトキシボラン、ジェ
トキシエチルボラン、トリエトキシボラン、シクロペン
チルジメトキシボラン、メトキシジプロピルボラン、ジ
メトキシフェニルボラン、（２−メチルシクロペンチル
）ジメトキシボラン、ブトキシジエチルボラン、エトキ
キジプロピルボラン、ヘキシルジメトキシボラン、３−
メトキシ−３−ボラビシクロ−（３，３，１３ノナン、
９−メトキシ−９−ボラビシクロ（３，３，１）ノナン
、ジブチルメトキシボラン、メトキシビス（１−メチル
プロピル）ボラン、メトキシビス（２−メチルプロピル
）ボラン、プロポキシジプロピルボラン、トリイソプロ
ポキシボラン、トリプロポキシボラン、ブトキシジプロ
ピルボラン、ジブチルエトキシボラン、ジエチル（ヘキ
シルオキシ）ボラン、ジブトキシエチルボラン、ジーｔ
ｅｒｔ−ブトキシエチルボラン、ジシクロペンチルメト
キシボラン、ジブチルプロポキシボラン、エトキシジペ
ンチルボラン、（ヘキシルオキシ）ジプロピルボラン、
トリブトキシボラン、トリーｔｅｒｔ−ブトキシボラン
、トリス（２−ブトキシ）ボラン、トリス（２−メチル
プロポキシ）ボラン、メトキシジフェニルボラン、ジシ
クロヘキシル（メトキシ）ボラン、ジブチル（２−ペン
テン−３−イルオキシ）ボラン、ジブトキシペンチルボ
ラン、エトキシジフェニルボラン、（２−アミノエトキ
シ）ジフェノキシボラン、ジブチル（１−シクロへキセ
ニルオキシ）ボラン、ブトキシジペンチルボラン、ジブ
チル（ヘキシルオキシ）ボラン、ジブトキシヘキシルボ
ラン、ジヘキシルオキシプロピルボラン、トリペンチル
オキシボラン、ブトキシジフェニルボラン、（２−メチ
ルプロポキシ）ジフェニルボラン、ジフェノキシフェニ
ルボラン、トリフエノキシボラン、トリシクロへキシル
オキシボラン、メトキシビス（２，４，６−トリメチル
フエニル）ボラン、トリベンジルオキシボラン、トリス
（３−メチルフェノキシ）ボラン。

トリオクチルオキシボラン、トリノニルオキシボラン、
トリオクタデシルオキシボランなどがある。

Ｒ４としてアルケニル基を有するものとしては。

エチニルボラン、ビニルボラン、ジハイドロキシビニル
ボラン、２−プロペニルボラン、エチニルジメトキシボ
ラン、メチルジビニルボラン、トリビニルボラン、１−
ヘキセニルジハイドロキシボラン、ジメトキシ（３−メ
チル−１，２−ブタジェンニル）ボラン、ジエチル−２
−プロペニルボラン、ジフェノキシ（２−フェニルエチ
ニル）ボラン、（ジエチルアミノ）ジェチニルボラン、
ジエチルアミノジー１−プロピニルボラン、２−ブテニ
ルジエチルボラン、ジエチル（２−メチル−２−プロペ
ニル）ボラン、ビス（ジメチルアミノ）（１−メチル−
２−プロペニル）ボラン、２−ブテニルビス（ジメチル
アミノ）ボラン、トリー２−プロペニルボラン、トリ（
２−プロペニルオキシ）ボラン、ジエチル（３−メチル
−２−ブテニル）ボラン、２−プロペニルジプロビルボ
ラン、（ジエチルアミノ）ジー１−プロピニルボラン、
ブチル−ジー２−プロペニルボラン、２−ブテニルジプ
ロピルボラン、ジエチル（１−エチル−２−ブテニル）
ボラン、（２−メチル−２−プロペニル）ジプロピルボ
ラン、ジエチル（１゜１〜ジメチル−３−ブテン−１−
イルオキシ）ボラン、ジエチル（１−ヘキセン−４−イ
ルオキシ）ボラン、９−（２−プロペニル）−９−ボラ
ビシクロ（３，３，１）ノナン、ジブチル−２−プロペ
ニルボラン、（３−メチル−２−ブテニル）ジプロピル
ボラン、９−（２−ブテニル）−９−ボラビシクロ（３
，３，１３ノナン、トリー２−ブテニルボラン。

トリス（２−メチル−２−プロペニル）ボラン、ヘキシ
ルジー２−プロペニルボラン、２−ブテニルジブチルボ
ラン、ビス（１，２−ジメチルプロピル）（２−フェニ
ルエチニル）ボラン、ビス（１，２−ジメチルプロピル
）−１−オクテニルボランなどが挙げられる。

Ｒ４としてアルキルアミノ基、アミノ基を有するものと
しては、アミノボラン、ジアミノボラン、アミノジメチ
ルボラン、（ジメチルアミノ）ボラン。

ジメチル（メチルアミノ）ボラン、メチルビス（メチル
アミノ）ボラン、トリス（メチルアミノ）ボラン、（ジ
メチルアミノ）ジメチルボラン、ビス（ジメチルアミノ
）ボラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルボラン、アミ
ノジプロピルボラン、（ジエチルアミノ）ジメチルボラ
ン、（ジメチルアミノ）ジエチルボラン、トリス（ジメ
チルアミノ）ボラン。

イソプロピルビス（ジメチルアミノ）ボラン、ジメチル
（フェニルアミノ）ボラン、ビス（メチルアミノ）フェ
ニルボラン、ビス（ジメチルアミノ）−１〜ピロリルボ
ラン、アミノジブチルボラン、ジエチルボラン、ジメチ
ルアミノジプロピルボラン、ビス（ジメチルアミノ）フ
ェニルボラン、ジブチル（ジメチルアミノ）ボラン、ジ
ーｔａｒｔ−ブチル（ジメチルアミノ）ボラン、ジブチ
ル（ジエチルアミノ）ボラン、トリス（ジエチルアミノ
）ボラン、ジメチルアミノジフェニルボラン、アミノビ
ス（２，４，６−トリメチルフエニル）ボランなどが挙
げられる。

Ｒ４として水酸基を有するものとしては、ホウ酸、ハイ
ドロオキシボラン、ジハイドロオキシ（メチル）ボラン
、ハイドロオキシジメチルボラン、エチルジハイド口オ
キシボラン、ジハイドロオキシプロビルボラン、２−フ
ラニルジハイドロオキシボラン、ジエチルハイドロボキ
シボラン、プチルジハイドロオキシボラン、シクロペン
チルジハイド口オキシボラン、ペンチルジハイドロオキ
シボラン、（３−アミノフェニル）ジハイドロオキシボ
ラン、フェニルハイドロオキシボラン、ヘプチルジハイ
ドロオキシボラン、ジハイドロオキシ（２−フェニルエ
チル）ボラン、ジハイドロオキシ（１−ナフタレニル）
ボラン、ハイドロオキシビス（２，４，６−トリメチル
フエニル）ボラン、ハイドロオキシジフェニルボランな
どが挙げられる。

Ｒ４としてアルキル基を有するものとしては、メチルボ
ラン、ジメチルボラン、エチルボラン、トリメチルボラ
ン、ジエチルボラン、エチルジメチルボラン、ジエチル
メチルボラン、３−メチル−２−ブチルボラン、トリエ
チルボラン、（ＬＬ、２−トリメチルプロピル）ボラン
、ジブチルボラン、トリイソプロピルボラン、トリプロ
ピルボラン、ビス（３−メチル−２−ブチル）ボラン、
ビス（１，１，２−トリメチルプロピル）ボラン、トリ
ーｔａｒｔ−ブチルボラン。

トリブチルボラン、トリス（１−メチルプロピル）ボラ
ン、トリス（２−メチルプロピル）ボラン、トリス（２
−メチルプロピル）ボラン、トリペンチルボラン、トリ
ス（１，２−ジメチルプロピル）ボラン、トリヘキシル
ボラン、トリオクチルボラン、などが挙げられる。

Ｒ４としてシクロアルキル基を有するものとしては、シ
クロペンチルボラン、シクロヘキシルボラン、ジシクロ
ヘキシルボラン、シクロヘキシル（１゜１．２−トリメ
チルプロピル）ボラン、トリシクロペンチルボラン、ト
リシクロヘキシルボラン　Ｒ４としてアリール基を有す
るものとしては、トリー１−ナフチルボラン、トリス（
２，４，６−トリメチルフエニル）ボラン、トリベンジ
ルボラン、トリス（４−メチルフェニル）ボラン、トリ
フェニルボラン、フェニルボラン、エチルジフェニルボ
ランなどが挙げられる。

Ｒ４として水素原子を有するものとしては、ボランを挙
げることができる。

（Ｒ’ＢＯ）１　（ｍ　）としては、ボロキシン、トリ
フルオロボロキシン、トリメチルボロキシン、トリメト
キシボロキシン、トリエチルボロキシン、トリエトキシ
ボロキシン、トリフェニルボロキシン、トリフエノキシ
ボロキシン、トリス（４−エチニルフェニル）ボロキシ
ン、トリス（ジメチルアミノ）ボロキシン、トリブチル
ボロキシン、トリブトキシボロキシン、トリシクロヘキ
シルボロキシンなどを挙げることができる。

リクロロボラジン、２，４．６−トリブロモボラジン、
２．４．６−ドリフロオロボラジン、ホラジン、１−メ
チルボラジン、２，４．６−ドリクロロー１，３．５−
トリメチルボラジン、　２，４，６−ドリブロモー１，
３．５−トリメチルボラジン、２，４．ロートリフルオ
ロ−１，３，５−トリメチルボラジン、１，３．５−ト
リメチルボラジン、２，４゜６−トリエチルボラジン、
２，４．６−　トリメトキシボラジン、２，４−ジクロ
ロ−１，３，５，６−チトラメチルボラジン、２−クロ
ロ−１，３，４，５，６−ペンタメチルボラジン、２，
４．６−ドリクロロー１，３．５−トリエチルボラジン
、ヘキサメチルボラジン、１，３．５−トリエチルボラ
ジン、２，４．６−トリエチルボラジン、　１，３．５
−トリプロピルボラジン、　２，４．６−ドリエチルー
１．３．５−トリメチルボラジン、１，３．５−トリブ
チル−２，４，６−トリクロロボラジン、ヘキサエチル
ボラジン、２，４゜６−ドリクロロー１，３．５−トリ
フェニルボラジン、２，４゜６−トリフェニルボラジン
、２，４．６−トリ（ジエチルアミノ）ボラジン、２，
４．６−トリ（ビス（トリメチルシリル）アミノ）ボラ
ジン、２，４．６−トリス（ジメチルアミノ）１，３．
５−トリメチルボラジン、１，３．５−トリメチル−２
，４，６−トリフェニルボラジンなどを挙げることがで
きる。

Ｂ（Ｒ’）、　：Ｌ（Ｖ　）としては、ボラン−フォス
フイン、ボラン−ヒドラジン、トリプルオボランーメタ
ノール、シアノボラン−アンモニア、ジフルオロボラン
−メチルアミン、ボラン−メチルアミン、トリブロモボ
ランージメチルサルサアイド、トリクロロボランージメ
チルサルサアイド、トリフルオロボラン−ジメチルエー
テル、トリフルオロボラン−エタノール、ボラン−イソ
シアノメタン、ジブロモボラン−ジメチルサルファイド
、ジクロロボラン−ジメチルサルファイド、トクロロボ
ランージメチルアミン、トリフルオロボラン−エチルア
ミン、ジアノボラン−メチルアミン、ブロモボラン−ジ
メチルサルファイド、クロロボラン−ジメチルサルファ
イド、ジフルオロボラン−ジメチルアミン、イオドボラ
ンージメチルサルファイド、クロロボラン−ジメチルア
ミン、ボラン−ジメチルアミン。

ボラン−ジメチルフォスフイン、トリブロモボラン−ト
リメチルフォスフイン、トリブロモボラン−トリメチル
アミン、トリクロロボラン−トリメチルアミン、トリク
ロロボラン−トリメチルフォスフイン、トリフルオロボ
ラン−トリメチルアミン、トリフルオロボラン−トリメ
チルフォスフイン、トリイオドボランートリメチルフォ
スフィン、ジアノボラン−ジメチルアミン、ジフルオロ
ボラン−トリメチルアミン、ブロモボラン−トリメチル
フォスフイン、クロロボラン−トリメチルフォスフイン
、フルオロボラン−トリメチルアミン、イオドボランー
トリメチルアミン、イオドボランートリメチルフオスフ
ィン、ボラン−トリメチルアミン、トリメチルボラン−
アンモニア、トリメトキシボラン−アンモニア、ボラン
−トリメチルフォスファイト、ボラン−トリメチルフォ
スフイン、トリフロオロボランー２−メチルイミダゾー
ル、トルフルオロボラン−テトラヒドロフラン、クロロ
ボラン−テトラヒドロフラン、トリクロロボラン−ジエ
チルエーテル、トリフルオロボラン−ジエチルエーテル
、ジブロモボラン−ジエチルエーテル、ジクロロボラン
−ジエチルエーテル、ジアノボラン−トリメチルアミン
、ブロモボラン−ジエチルエーテル、ジブロモボラン−
トリメチルアミン、ジブロモメチルボラン−トリメチル
フォスフイン、クロロボラン−ジエチルエーテル、ボラ
ン−ｔａｒｔ−ブチルアミン、ボラン−ジエチルアミン
、トリブロモボラン−ピリジン、トリクロロボラン−ピ
リジン、トリフルオロボラン−ピリジン、ボラン−ピリ
ジン、ボラン−４−アミノピリジン、ブロモジメチルボ
ラン−トリメチルフォスフイン、ジクロロシアノボラン
−ピリジン、トリフルオロボラン−フェノール、シアノ
ボラン−ピリジン、ジブロモメチルボラン−ピリジン、
ボラン−４−メチルピリジン、トリフルオロボラン−１
−ヘキサノール、トリブロモボラン−トリエチルアミン
、トリクロロボラン−トリエチルアミン、クロロボラン
−トリエチルアミン、ボラン−トリエチルアミン、トリ
メチルボラン−トリメチルアミン、ボラン−トリス（ジ
メチルアミノ）フォスフイン、トリフルオロボラン−メ
トキシベンゼン、トリフルオロボラン−４−メチルアニ
リン、ボラン−２，６−シメチルピリジン、トリフルボ
ラン−ジブチルエーテル、フエニルジクロロボラン−ト
リエチルアミン、トリブロモボラン−トリフェニルフォ
スフイン、トリクロロボラン−トリフェニルフォスフイ
ン、トリフルオロボラン−トリフェニルフォスフイン、
ボラン−トリフェニルアミン、ボラン−トリフェニルフ
ォスフイン、トリメチルボラン−トリフェニルアミン、
トリフェニルボラン−トリメチルアミン、トリフェニル
ボラン−ピリジン、トリフェニルボラン−トリエチルア
ミン、などを挙げることができる。上記物質の他に、テ
トラボラン（１０）、ペンタボラン（９）、ペンタボラ
ン（１１）、ヘキサボラン（１０）、ヘキサボラン（１
２）、オクタボラン（１２）、オクタボラン（工８）、
イソノナボラン（１５）、ノナボラン（１５）、デカボ
ラン（１４）。

１．１．’−ピペンタボラン（９）、１，２′−ビペン
タボラン（９）、２，２′−ピペンタボラン（９）、１
−力ルバヘキサボラン（７）、２−カルバヘキサボラン
（９）、■、２−ジカルバヘキサボラン（６）、１，２
−ジカルバペンタボラン（７）、２，４−ジカルバヘプ
タンボラン（７）、２，３−ジカルバヘキサボラン（８
）、１，７−ジフルオロボラン（８）、１．２−ジカル
パドデカボラン（１２）、１，７−ジカルバドデカボラ
ン（１２）、　１．１２−ジカルバドデカボラン（１２
）を用いても良好な結果が得られる。

これらの硼素化合物はほとんど上市されているが、上市
されていないものでも上市のものと同様の方法で製造可
能である。

ポリシラザンと硼素化合物との混合比は、Ｂ／Ｓｉ原子
比が０．０１−３になるように、好ましくは０．０５〜
２になるように、さらに好ましくは０．１〜１になる様
に加える。硼素化合物の添加量をこれより増やすとポリ
シラザンとの反応性を高めることなく、単に硼素化合物
が未反応のまま回収され、また、少ないと顕著な高分子
量化が起こらない。

反応は、無溶媒で行うこともできるが、有機溶媒を使用
する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成す
る場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い。

反応溶媒については、ポリシラザン、硼素化合物と反応
性を示さないものが用いられる。この様な非反応性溶媒
としては、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、
硫黄化合物等が使用される。

又反応温度、圧力については特に制限はないが。

反応温度は反応溶媒、硼素化合物の沸点以下が好ましい
。

本発明において、前記ポリボロシラザンを用いてコーテ
ィング用組成物を形成するには１通常ポリボロシラザン
を溶剤に溶解させればよい、溶剤としでは、脂肪族炭化
水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒
、ハロゲン化メタン。

ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテ
ル類が使用できる。好ましい溶媒は、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、塩化エチレン
、塩化エチリデン、トリクロロエタン、テトラクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ブチルエーテ
ル。

１．２−ジオキシエタン、ジオキサン、ジメチルジオキ
サン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエ
ーテル類、ペンタンヘキサン、イソヘキサン、メチルペ
ンタン、ヘプタン、イソへブタン。

オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メチルシク
ロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の炭
化水素等である。

これらの溶剤を使用する場合、前記ポリボロシラザンの
溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、２種類以上
の溶剤を混合してもよい。

溶剤の使用量（割合）は採用するコーティング方法によ
り作業性がよくなるように選択され、またポリボロシラ
ザンの平均分子量、分子量分布、その構造によって異な
るので、コーティング用組成物中溶剤は９０重量％程度
まで混合することができ、好ましくは１０〜５０重量％
の範囲で混合することができる。

また溶剤濃度は原料ポリボロシラザンの平均分子量、分
子量分布、その構造によって異なるが、通常０〜９０重
量％の範囲で良い結果が得られる。

また５本発明においては、必要に応じて適当な充填剤を
加えてもよい。充填剤の例としてはシリカ、アルミナ、
ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あるい
は炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉等が
挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜鉛、
銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤の例
を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ツバキュライト、ケ
イ藻土などのシリカ系二合成無定形シリカ：カオリナイ
ト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ
酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩ニガラ
ス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、抱
ガラス球等のガラス体：窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化
アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケ
イ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸
化物系無機物：炭酸カルシウム：酸化亜鉛、アルミナ。

マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化
物：硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、弗化炭素その他無機物ニアルミニウム、ブロンズ
、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末：カーボ
ンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボ
ン球等のカーボン体等があげられる。

これら充填剤は、針状（ウィスカーを含む、）、粒状、
鱗片状等種々の形状のものを単独又は２種以上混合して
用いることができる。又、これら充填剤の粒子の大きさ
は１回に塗布可能な膜厚よりも小さいことが望ましい、
また充填剤の添加量はポリボロシラザン１重社部に対し
、０．０５重量部〜１０重量部の範囲であり、特に好ま
しい添加量は０．２重量部−５重量部の範囲である。又
、充填剤の表面をカップリング剤処理、蒸着、メツキ等
で表面処理して使用してもよい。

コーティング用組成物には、必要に応じて各種顔料、レ
ベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、ＰＨ
調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、流
れ止め剤を加えてもよい。

上記のようにｉ製された本発明のコーティング用組成物
は均一に溶解、分解させて金属、セラミックス、プラス
チック等の基盤にコーティングされる。コーティングと
しての塗布手段としては、通常の塗布方法、つまり浸漬
、ロール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フ
ロー塗り等が用いられる。又、塗布前に基盤をヤスリか
け、脱脂、各種ブラスト等で表面処理しておくとコーテ
ィング組成物の付着性能は向上する。このような方法で
コーティングし、充分乾燥させた後、加熱・焼成する。

この焼成によってポリボロシラザンは架橋、縮合して硬
化し、強靭な被覆を形成する。

上記焼成条件はポリシラザンの分子量や構造によって異
なるが３℃／分の緩やかな昇温速度で６００℃〜１７５
０℃の範囲の温度で焼成する。好ましい焼成温度は８０
０℃−１７００℃の範囲である。

〔効果〕

本発明のコーティング用組成物は、前記ポリボロシラザ
ンを必須成分としたことから、取扱いが容易で、耐熱性
、耐熱衝撃性、耐食性に優れ、高硬度を有する窒化珪素
質コーテイング膜を容易に形成することができる。

従って、従来の有機高分子系塗料、シリコーン樹脂系塗
料、ポリシラザン重合体系塗料、ポリチタノカルボシラ
ン系塗料及びポリメタロシラザン系塗料では使用不可能
であった極めて厳しい条件でも使用可能であり、広い用
途に適用することができる。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

参考例１ 内容積ＩＱの四つロフラスコにガス吹きこみ管。

メカニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置し
た。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四
つロフラスコに脱気した乾燥ピリジン４９０−を入れ、
これを氷冷した。次にジクロロシラン５１．６ｇを加え
ると白色固体状のアダクト（ＳｉＨ２ＣＱ、・２Ｃ，Ｈ
ＧＮ）が生成した。反応混合物を氷冷し、撹拌しながら
、水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したア
ンモニア５１．０ｇを吹き込んだ。

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾液
８５０−を得た。濾液５−から溶媒を減圧留去すると樹
脂固体ベルヒドロポリシラザン０、ｌ０２ｇが得られた
。

得られたポリマーの数平均分子量はＧＰＣにより測定し
たところ、９８０であった。また、このポリマーのＩＲ
（赤外吸収）スペクトル（溶媒：乾燥０−キシレン；ベ
ルヒドロポリシラザンの濃度：１０．２ｇ＃２）を検討
すると、波数（ｃｍ−１）３３５０　（見かけの吸光係
数Ｅ　＝０．５５７９ｇ−１ｃｍ−１）及び１１７５の
ＮＨに基づく吸収；２１７０（ε＝３．１４）のＳｉＨ
に基づく吸収；１０２０〜８２０のＳｉＨ及び５ｉＮＳ
ｉに基づく吸収を示すことが確認された。

またこのポリマーの１ＨＮＮＲ（プロトン核磁気共鳴）
スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＣＤ（４，／基準物質Ｔ
ＭＳ）を検討すると、いずれも幅広い吸収を示している
ことが確認された。即ち６４．８及び４　、４　（ｂ　
ｒ　＋　Ｓ　ｘ　Ｈ）　＝　１−５（ｂｒ、　ＮＨ）の
吸収が確認された。

得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン溶液（ベル
ヒドロポリシラザンの濃度：５．２０重量％）６００−
とトリメチルボレート３０＋ｎＱ　（０，２５４ｍｏｌ
）を内容積ＩＱのオートクレーブに入れ、１６０℃で３
時間撹拌しながら反応を行なった。室温に冷却後、乾燥
０−キシレン５００−を加え、圧力３−５ｎ＋ｍ）Ｉｇ
、温度５０〜７０℃で溶媒を除いたところ、白色固体状
の数平均分子量が２１００のポリボロシラザン３８ｇ得
た。

参考例２ 参考例１と同一の装置を用いて反応を行った。

即ち、参考例１で示した四つロフラスコに脱気した乾燥
テトラヒドロフラン４５０−を入れ、これをドライアイ
ス−メタノール浴で冷却した。次にジクロロシラン４６
．２ｇを加えた。この溶媒を冷却し、撹拌しながら無水
メチルアミン４４．２ｇを窒素との混合ガスとして吹き
込んだ。

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥テトラヒド
ロフランを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲気下で濾
過して濾液８２０ｄを得た。溶媒を減圧留去すると粘性
油状Ｎ−メチルシラザンが８．４ｇ得られた。得られた
ポリマーの数平均分子量は、ＧＰＣにより測定したとこ
ろ１１００であった。

得られたＮ−メチルシラザンγ−ピコリン溶液（Ｎ−メ
チルシラザンの濃度：８．６０重量％）６００−とトリ
ブチルボレート１３０ｍｏ１（０，４８２ｍｏｌ）を内
容積ＩＱのオートクレーブに入れ、１６０℃で５時間撹
拌しながら反応を行なった。参考例１と同様に溶媒を減
圧留去したところ、淡黄色固体状の数平均分子量が１８
８０のポリボロシラザン４８ｇ得た。

参考例３ 内容積ＩＱの四つロフラスコにガス吹きこみ管、メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに乾燥ジクロロメタン３００ｍＱおよびメチルジ
クロロシラン２４．３ｇ（０，２１１ｍ。

Ｑ）を入れ、氷冷した。撹拌しながら水酸化ナトリウム
管および活性炭管を通して精製したアンモニア１８　、
１ｇ　（１、０６ｍｏＱ）を吹き込んだ。

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ジクロロメ
タンを用いて洗浄後、窒素雰囲気下で濾過した。濾液か
ら溶媒を減圧留去すると、無色透明のメチル（ヒドロ）
シラザンを８．８１ｇ得た。この生成物の数平均分子量
はＧＰＣにより測定したところ、３８０であった。

得られたメチル（ヒドロ）シラザンの０−キシレン溶液
（メチル（ヒドロ）シラザンの濃度：６．４０重量幻３
００−をＩＱ４つロフラスコに入れ、氷冷し、三塩化ホ
ウ素５０ｇ（０，４２７ｍｏｌ）を２時間かけて加えた
後、窒素気流下２５℃で３時間撹拌して反応を行なった
。

この溶液に２００ｍ１１の１．１．１−３．３．３へキ
サメチルジシラザンを加え、８０℃で３時間撹拌し、沈
殿物を生成された。この沈殿物を濾過し、濾液の溶媒を
減圧留去したところ、淡黄色固体状の数平均分子量が４
８００のポリボロシラザン５８ｇを得た。

参考例４ 内容積ＩＱの４つロフラスコに滴下コート、コンデンサ
ー、メカニカルスターラー、ガス吹込み管を装置した。

反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、４つロ
フラスコに乾燥クロロベンゼン２００ｍｇと三塩化ホウ
素５０ｇを入れ、これを水冷した。次に乾燥アセトニト
リル１７ｇを滴下すると白色固体状のアダクト（ＣＨ，
ＣＮ−ＢＣΩ、）が生成した。、滴下終了後、１１０℃
で乾燥させた塩化アンモニウム２２ｇを加えた。反応混
合物を５時間加熱還流して無色透明な溶液を得た。室温
に冷却後、４５−のジエチルアミンを滴下した。反応終
了後、窒素雰囲気下で濾過して、濾液の溶媒を除いたと
ころ、無透明液体の８−トリス（ジエチルアミノ）ボラ
ジンが２１ｇ得られた。

参考例１で得られたベルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液（ベルヒドロポリシラザンの濃度；４．７０重量％
）６００ｍｌと得られたＢ−トリス（ジエチルアミノ）
ボラジン５５ｇ（０，１８７ｍｏｌ）を内容積１塁ノオ
ートクレープに入れ、８０℃で２時間撹拌しながら反応
を行なった。室温に冷却後、参考例１と同様に溶媒を減
圧留去したところ、白色固体状の数平均分子量が２８０
０のポリボロシラザン６４ｇを得た。

実施例 参考例１〜４で得られたポリボロシラザンを用い。

表−１〜表−４に示すような配合で各成分を混合して窒
化珪素質コーティング用組成物を得た。

得られたコーティング用組成物２０ｍｍ　Ｘ　４０ｍｍ
　Ｘ　２ｍｍのカーボン板（グラツシーカーボン）に塗
布し。

窒素雰囲気下で６００℃〜１７５０℃で１時間という加
熱条件で焼成して厚さ３０μｍの窒化珪素質コーテイン
グ膜を形成した。

この窒化珪素質コーテイング膜の鉛筆硬度及び付着性（
基盤目剥離試験）を以下の検査方法に従って測定した。

その結果を表−１−表−４に示す。

（イ）鉛筆硬度：ＪＩＳ　Ｋ５４００に準する。

（ロ）基盤目剥離試験（密着性）：塗膜上に鋼ナイフで
１ｍｍ四方の素材に達する切れ目を基盤目に１００個作
り、その上にセロハンテープ（積木化学工業）をはりつ
けた後、そのセロハンテープを上方９０’の方向に強く
ひきはがした時に残っているます目の数で評価する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ｉ）または（ｉｉ）または（ｉｉｉ
   ）または（ｉｖ）で表わされる架橋結合を有し、Ｂ／Ｓ
   ｉ原子比が０．０１〜３の範囲内かつ数平均分子量が約
   ２００〜５００，０００の新規ポリボロシラザンを少な
   くとも含有するコーティング用組成物。 （ｉ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉｉ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｖ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
   １〜２０個を有するアルキル基、アルケニル基、シクロ
   アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミ
   ノ基、水酸基、又はアミノ基であり、Ｒ＾５はＲ＾４の
   うち窒素原子を有する基の窒素原子に結合している残基
   であり、式（ｉｖ）では各３個の窒素原子及び硼素原子
   からなる合計６個の原子のうち少なくとも２個が架橋に
   使われ、残りの原子にはＲ＾４が結合することができる
   。）（２）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３はそれぞれ独立に水素
   原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
   アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する
   基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ
   基、アルコキシ基を表わす。但し、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ
   ＾３の少なくとも１個は水素原子である。） で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
   が約１００〜５万のポリシラザンと、一般式（II）、（
   III）、（IV）又は（Ｖ）： Ｂ（Ｒ＾４）＿３（II） （Ｒ＾４ＢＯ）＿３（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） Ｂ（Ｒ＾４）＿３：Ｌ（Ｖ） （これらの式中、Ｒ＾４は同一でも異なっていてもよく
   、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０個を有
   するアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
   リール基、アルコキシ基、アルコキシアミノ基、水酸基
   又はアミノ基であり、ＬはＢ（Ｒ＾４）＿３と錯体を形
   成する化合物である。）で表わされる硼素化合物を反応
   させて得られるホウ素／ケイ素原子比が０．０１〜３の
   範囲内かつ数平均分子量が約２００〜５００，０００の
   新規なポリボロシラザンを少なくとも含有するコーティ
   ング用組成物。