JPH03120029U - - Google Patents

Info

Publication number
JPH03120029U
JPH03120029U JP2943190U JP2943190U JPH03120029U JP H03120029 U JPH03120029 U JP H03120029U JP 2943190 U JP2943190 U JP 2943190U JP 2943190 U JP2943190 U JP 2943190U JP H03120029 U JPH03120029 U JP H03120029U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
developing device
protrusion
substrate holder
developer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2943190U
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2943190U priority Critical patent/JPH03120029U/ja
Publication of JPH03120029U publication Critical patent/JPH03120029U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案による現像装置における基板
ホルダー部分の断面図、第２図は本考案による現
像時の基板への現像液への浸漬動作を示し、ａは
基板の現像液浸漬前の状態を示す図、ｂは現像液
面に基板が浮いた状態を示す図、ｃは基板が突起
により斜めに沈められた状態を示す図、ｄは基板
が完全に浸漬した状態を示す図、第３図は本実施
例により実際に行つた現像例で使用したマスク
ホルダーを示す図、第４図は本実施例により実際
に行つた現像例で使用したマスクホルダーを示
す図である。 １……現像装置、２……基板、３……基板ホル
ダー、４……スピンドル、５……突起部、６……
レジスト膜、７……現像液。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基板を載置する基板ホルダーを少なくとも
    備え、この基板ホルダーに載置された前記基板を
    現像液中に沈ませることにより現像するようにな
    つている現像装置において、 前記基板ホルダーに、前記基板を前記現像液に
    沈めるとき、前記基板の一側端部の浮上のみを所
    定量で抑える突起部を設けたことを特徴とする現
    像装置。 (2) 前記突起部は一対設けられていることを特
    徴とする請求項１記載の現像装置。 (3) 前記一対の突起部は、一方の突起部の設置
    位置に対して他方の突起部が前記基板ホルダーの
    中心まわりに９０°回転した位置に設けられてい
    ることを特徴とする請求項２記載の現像装置。
JP2943190U 1990-03-22 1990-03-22 Pending JPH03120029U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2943190U JPH03120029U (ja) 1990-03-22 1990-03-22

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2943190U JPH03120029U (ja) 1990-03-22 1990-03-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03120029U true JPH03120029U (ja) 1991-12-10

Family

ID=31532188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2943190U Pending JPH03120029U (ja) 1990-03-22 1990-03-22

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03120029U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010278094A (ja) * 2009-05-27 2010-12-09 Tokyo Electron Ltd 現像処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010278094A (ja) * 2009-05-27 2010-12-09 Tokyo Electron Ltd 現像処理装置
TWI384333B (zh) * 2009-05-27 2013-02-01 東京威力科創股份有限公司 Development processing device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ZA858130B (en) Developer for preparing printing forms and process therefor
KR900005565A (ko) 개선된 패턴 형성방법
JPH03120029U (ja)
US5876875A (en) Acoustic wave enhanced developer
JPS6079724A (ja) 回転処理装置
JPS649618A (en) Pattern formation
JPS5623746A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS52127173A (en) Pattern formation method
JPS5927554U (ja) 電子写真複写機用現像部シ−ル材
GB1453253A (en) Photomasking method
JPS60193551U (ja) 感光材料処理装置
JPS645443U (ja)
JPH0253060A (ja) 半導体装置の製造方法
KR970077296A (ko) 알루미늄 박막의 식각 방법
JPS58170644U (ja) 感光材料処理装置
JPS63309947A (ja) レジストパタ−ンの現像方法
JPS6290932A (ja) 基板上へのネガ形レジストパタ−ン形成方法
JPS5329720A (en) Developing device for diazo photo-sensitive paper
JPS6036670U (ja) 電子複写装置
JPS5550625A (en) Surface treatment of thin plate
JPS62101231U (ja)
JPS6011343U (ja) 処理液タンク
JPS57180127A (en) Formation of resist pattern
JPS5213779A (en) Selecteive etching method
JPS6185851U (ja)