JPH03134018A - 共役系有機ポリマーの製造方法 - Google Patents
共役系有機ポリマーの製造方法Info
- Publication number
- JPH03134018A JPH03134018A JP27348189A JP27348189A JPH03134018A JP H03134018 A JPH03134018 A JP H03134018A JP 27348189 A JP27348189 A JP 27348189A JP 27348189 A JP27348189 A JP 27348189A JP H03134018 A JPH03134018 A JP H03134018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- conjugated organic
- light
- organic polymer
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、共役系有機ポリマーの製造方法に関し、さら
に詳しくは、光照射により酸または酸化剤を生成する光
感応性物質の存在下で、光照射により得ることができる
ような共役系有機ポリマーの製造方法に関する。
に詳しくは、光照射により酸または酸化剤を生成する光
感応性物質の存在下で、光照射により得ることができる
ような共役系有機ポリマーの製造方法に関する。
発明の技術的背景
長い共役鎖を有する共役系有機ポリマーは、半導電性あ
るいは導電性を示し、また特異な電気化学的特性、電気
光学的特性、非線形光学特性を示すため、電子工学、電
気光学、電池、センサ、非線形光学などの分野における
用途が期待されている。しかしながら現在までに多くの
共役系有機ポリマーが知られているが、いずれも多くの
解決すべき問題点が残っている。
るいは導電性を示し、また特異な電気化学的特性、電気
光学的特性、非線形光学特性を示すため、電子工学、電
気光学、電池、センサ、非線形光学などの分野における
用途が期待されている。しかしながら現在までに多くの
共役系有機ポリマーが知られているが、いずれも多くの
解決すべき問題点が残っている。
たとえば、膜状に成形でき、しかも導電性を示す共役系
有機ポリマーとしては、ポリアセチレン−←CH=CH
う−が知られており、このポリアセm チレンはたとえば米国特許第4.204.216号明細
書および同第4.222.903号明細書に詳しく記載
されている。しかしこのポリアセチレンは、一般に空気
中で不安定であり実用には適さなかった。
有機ポリマーとしては、ポリアセチレン−←CH=CH
う−が知られており、このポリアセm チレンはたとえば米国特許第4.204.216号明細
書および同第4.222.903号明細書に詳しく記載
されている。しかしこのポリアセチレンは、一般に空気
中で不安定であり実用には適さなかった。
一方空気中で安定であり、しかも加工性に優れた共役系
有機ポリマーとして、ポリアリレンビニレン系の共役系
ポリマーが知られている。
有機ポリマーとして、ポリアリレンビニレン系の共役系
ポリマーが知られている。
この共役系有機ポリマーは、下記式[A]あるいは[A
°]で示される前駆体ポリマーを膜状あるいは繊維状に
成形した後、これを200〜250℃の温度で不活性ガ
ス雰囲気下あるいは真空下に加熱することによって得ら
れることが知られている。
°]で示される前駆体ポリマーを膜状あるいは繊維状に
成形した後、これを200〜250℃の温度で不活性ガ
ス雰囲気下あるいは真空下に加熱することによって得ら
れることが知られている。
ところが上記のような方法によって膜状あるいは繊維状
のポリアリレンビニレンを得ようとすると、前駆体ポリ
マーの加熱分解時にカルボニル基が残存することがあり
、このため、共役系有機ポリマーの特性たとえば光学的
特性に悪影響が認められることがあった。
のポリアリレンビニレンを得ようとすると、前駆体ポリ
マーの加熱分解時にカルボニル基が残存することがあり
、このため、共役系有機ポリマーの特性たとえば光学的
特性に悪影響が認められることがあった。
発明の目的
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決し
ようとするものであって、加工性および化学的安定性に
優れるとともに純度が高く、したがって導電性、電気光
学特性などに優れた共役系有機ポリマーを比較的低温で
簡便に製造する方法を提供することを目的としている。
ようとするものであって、加工性および化学的安定性に
優れるとともに純度が高く、したがって導電性、電気光
学特性などに優れた共役系有機ポリマーを比較的低温で
簡便に製造する方法を提供することを目的としている。
発明の概要
このような目的を達成するために本発明に係る共役系有
機ポリマーの製造方法は、 光照射により酸または酸化剤を生成する光感応性物質の
存在下に、 一般式 (式中R1は水酸基、アルコキシ基、またはキル基、水
素の一部あるいは全部をFで置換したアルキル基、フェ
ニル基であり、nは2以上の整数、Arはアリレーン基
を表わす)で示される前駆体ポリマーを光照射下で反応
させることを特徴としている。
機ポリマーの製造方法は、 光照射により酸または酸化剤を生成する光感応性物質の
存在下に、 一般式 (式中R1は水酸基、アルコキシ基、またはキル基、水
素の一部あるいは全部をFで置換したアルキル基、フェ
ニル基であり、nは2以上の整数、Arはアリレーン基
を表わす)で示される前駆体ポリマーを光照射下で反応
させることを特徴としている。
本発明では、−形成[i]で示される前駆体ポリマーを
、光照射により酸または酸化剤を生成する光感応物質の
存在下に、光照射下で反応させて共役系有機ポリマーを
製造しているので、共役系有機ポリマーを従来よりも低
温で簡便に得ることができるとともに、照射光パターン
にしたがう導電性高分子のパターンを極めて容易に形成
させることができる。
、光照射により酸または酸化剤を生成する光感応物質の
存在下に、光照射下で反応させて共役系有機ポリマーを
製造しているので、共役系有機ポリマーを従来よりも低
温で簡便に得ることができるとともに、照射光パターン
にしたがう導電性高分子のパターンを極めて容易に形成
させることができる。
以下本発明に係る共役系有機ポリマーの製造方法につい
て具体的に説明する。
て具体的に説明する。
本発明に係る共役系有機ポリマーを製造するには、下記
式[1]で示される前駆体ポリマーが用いられる。
式[1]で示される前駆体ポリマーが用いられる。
式中、艮 は水酸基、または−0CH3、一〇CH、−
QC3117等のアルコキシ基、5 または−〇?R2で表わされるアシロキシ基であり、こ
こでRは−Cll 、−CI 、−CII 等の
ア23251ff ルキル基、−CHF 、 −〇2H4F 、 −CF
3等の水素の一部あるいは全部をFで置換したアルキル
基、フェニル基であり、 nは2以上の整数を表わし、好ましくは10〜1ooo
oである。また、Arはアリレーン基をここで、R−R
12は、それぞれ独立に、水素7 原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基で
ある。
QC3117等のアルコキシ基、5 または−〇?R2で表わされるアシロキシ基であり、こ
こでRは−Cll 、−CI 、−CII 等の
ア23251ff ルキル基、−CHF 、 −〇2H4F 、 −CF
3等の水素の一部あるいは全部をFで置換したアルキル
基、フェニル基であり、 nは2以上の整数を表わし、好ましくは10〜1ooo
oである。また、Arはアリレーン基をここで、R−R
12は、それぞれ独立に、水素7 原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基で
ある。
このような前駆体ポリマーは、下記のような反応経路に
よって合成することができる。
よって合成することができる。
または
または
上記式において、Yはハロゲン原子またはハロゲン化物
イオンであり、Yがハロゲン化物である場合には、Y”
は化合物[IV]、[■′]および[V] 、[V’
]中で他のイオンで交換されうる。
イオンであり、Yがハロゲン化物である場合には、Y”
は化合物[IV]、[■′]および[V] 、[V’
]中で他のイオンで交換されうる。
式[■′]で表わされる化合物としては具体的には、た
とえば、 が挙げられ1、この場合、式[V′]で表わされるで表
わされる化合物が挙げられる。
とえば、 が挙げられ1、この場合、式[V′]で表わされるで表
わされる化合物が挙げられる。
なお上記式[V]で示される化合物あるいは上記式[I
]で示される前駆体ポリマーの製造方法は、それぞれ特
開昭61−148231号公報およびPolymer
P「ep+1nls、Iapa口、Vol 37
.No、IO(!988)P3161〜3163に記載
されている。
]で示される前駆体ポリマーの製造方法は、それぞれ特
開昭61−148231号公報およびPolymer
P「ep+1nls、Iapa口、Vol 37
.No、IO(!988)P3161〜3163に記載
されている。
上記式[I]で示される前駆体ポリマーとしては、たと
えば、 O F3 等を例示することができる。
えば、 O F3 等を例示することができる。
上記式[I]で示される前駆体ポリマーは、有機溶媒に
可溶であって、この前駆体ポリマーを溶解した溶液を、
石英ガラスなどの基板上にスピンコード法あるいはキャ
スティング法などによって塗布することにより、前駆体
ポリマーを膜状に成形することができる。
可溶であって、この前駆体ポリマーを溶解した溶液を、
石英ガラスなどの基板上にスピンコード法あるいはキャ
スティング法などによって塗布することにより、前駆体
ポリマーを膜状に成形することができる。
上記のような前駆体ポリマーを溶解しうる有機溶媒とし
ては、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタン
、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジオ
キサン、メチルイソブチルケトンなどが用いられる。
ては、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタン
、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジオ
キサン、メチルイソブチルケトンなどが用いられる。
本発明では、上記のような前駆体ポリマーを光照射によ
り酸または酸化剤を生成する光感応性物質の存在下に、
光照射下で反応させることにより下記式[U]で示され
る共役系有機ポリマーを製造している。
り酸または酸化剤を生成する光感応性物質の存在下に、
光照射下で反応させることにより下記式[U]で示され
る共役系有機ポリマーを製造している。
→A r−CH=CHモー −[I[](式中、
Arおよびnは上記[i1式と同じである) 本発明において使用する光感応性物質としては、酸化物
イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン
、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロヒ(IV)酸イオン
、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン(
V)酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン(V)酸イオ
ン等のようなハロゲンまたはメタルハライドを陰イオン
として有するジアリールヨードニウム塩、トリアリール
スルホニウム塩、アリールジアゾニウム塩、あるいは芳
香族スルホン化合物、ハロゲン化アルキル化合物等が挙
げられる。
Arおよびnは上記[i1式と同じである) 本発明において使用する光感応性物質としては、酸化物
イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン
、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロヒ(IV)酸イオン
、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン(
V)酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン(V)酸イオ
ン等のようなハロゲンまたはメタルハライドを陰イオン
として有するジアリールヨードニウム塩、トリアリール
スルホニウム塩、アリールジアゾニウム塩、あるいは芳
香族スルホン化合物、ハロゲン化アルキル化合物等が挙
げられる。
このような光感応性物質は、前駆体ポリマー100重量
部に対し、0.01重量部〜100重量部、好ましくは
0.1〜50重量部の量で用いられる。光感応性物質を
供給する方法は、前駆体ポリマーを溶解した溶液に光感
応性物質を混合し、溶解させた溶液を、石英ガラスなど
の基板上にスピンコード法あるいはキャスティング法な
どによって塗布することにより、光感応性物質を含む前
駆体ポリマーの膜状物を得る。その後、この膜状物に光
照射を行い、酸または酸化剤を発生させる。
部に対し、0.01重量部〜100重量部、好ましくは
0.1〜50重量部の量で用いられる。光感応性物質を
供給する方法は、前駆体ポリマーを溶解した溶液に光感
応性物質を混合し、溶解させた溶液を、石英ガラスなど
の基板上にスピンコード法あるいはキャスティング法な
どによって塗布することにより、光感応性物質を含む前
駆体ポリマーの膜状物を得る。その後、この膜状物に光
照射を行い、酸または酸化剤を発生させる。
あるいは光感応性物質を含む液相中に前駆体ポリマーを
浸し、その後、そのまま液相中あるいは液相下で光照射
を行い、酸または酸化剤を発生させることもできる。照
射する光の波長は、光感応性物質の吸収波長であれば特
に限定されない。−船釣には紫外部が好ましいが、他に
色素増感剤を添加すれば他の波長域でも可能である。一
方、光照射で生じた酸または酸化剤と前駆体ポリマーと
の反応の効率を高めるために光照射時あるいは光照射後
、20〜300℃、好ましくは50〜200℃の温度で
熱処理することも可能である。熱処理を行なう場合は、
真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で熱処理を行なうこ
とが好ましい。
浸し、その後、そのまま液相中あるいは液相下で光照射
を行い、酸または酸化剤を発生させることもできる。照
射する光の波長は、光感応性物質の吸収波長であれば特
に限定されない。−船釣には紫外部が好ましいが、他に
色素増感剤を添加すれば他の波長域でも可能である。一
方、光照射で生じた酸または酸化剤と前駆体ポリマーと
の反応の効率を高めるために光照射時あるいは光照射後
、20〜300℃、好ましくは50〜200℃の温度で
熱処理することも可能である。熱処理を行なう場合は、
真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で熱処理を行なうこ
とが好ましい。
上記のようにして得られた共役系有機ポリマーは、ドー
パントとともに用いることによって、高導電性組成物と
することができる。
パントとともに用いることによって、高導電性組成物と
することができる。
このようなドーパントとしては、p型ドーパントあるい
はn型ドーパントが用いられる。p型NO[IF4、N
0PF6、N03hF6、N0AsP6、N0CH3S
03、N02BF4、HO2PF6、N02BF4、N
03bF および110 CF 30 )、l
lBF4.2 6 233 1iclO,1180、+12So4、P−トルエンス
ルホン3 FeCl3、Fe (OTs) 3およびFc (CH
3S03 ) 3などを挙げることができる。このよう
なドーパントを用いて重合体をドーピング処理すれば、
たとえば13、No SBF 、PF 、
AsF63 4 6 SbF 、CF So 、CIO、OT+。
はn型ドーパントが用いられる。p型NO[IF4、N
0PF6、N03hF6、N0AsP6、N0CH3S
03、N02BF4、HO2PF6、N02BF4、N
03bF および110 CF 30 )、l
lBF4.2 6 233 1iclO,1180、+12So4、P−トルエンス
ルホン3 FeCl3、Fe (OTs) 3およびFc (CH
3S03 ) 3などを挙げることができる。このよう
なドーパントを用いて重合体をドーピング処理すれば、
たとえば13、No SBF 、PF 、
AsF63 4 6 SbF 、CF So 、CIO、OT+。
6 33 4
S03、CHCOlB「3、CH3S0352
およびFeCl4−をドーパントとして含有する重合体
が得られる。
が得られる。
本発明で用いることのできるp型ドーパントとしては、
上記したドーパントの他に、LiCIO4、LiA+F
、 NaPF 、 8u NClO4、Bu4
NOTs。
上記したドーパントの他に、LiCIO4、LiA+F
、 NaPF 、 8u NClO4、Bu4
NOTs。
4 6 4
Bo3 NCF 3 SO3、いCF3 S03 、
八gOTs 。
八gOTs 。
N (C2)Is ) 4 PF6などのような電解質
塩を挙げることができる。
塩を挙げることができる。
またn型ドーパントとしては、具体的には、アルカリ金
属(Li、Na、 に、llbおよびC+)ナツタリ
ドおよびペンゾフェノンケチル(bonxopheno
nekelrl)のテトラ−アルキルアンモニウム塩を
挙げることができる。
属(Li、Na、 に、llbおよびC+)ナツタリ
ドおよびペンゾフェノンケチル(bonxopheno
nekelrl)のテトラ−アルキルアンモニウム塩を
挙げることができる。
上記のような高導電性組成物では、ドーパントは0.0
1〜50重量%好ましくは0,01〜10重量%の量で
用いられることが望ましい。
1〜50重量%好ましくは0,01〜10重量%の量で
用いられることが望ましい。
発明の効果
本発明によって加工性および化学安定性に優れた共役系
有機ポリマーを従来よりも低温で簡便に得ることができ
るとともに照射光パターンにしたがって導電性高分子の
パターンを極めて容易に形成させることが可能となった
。
有機ポリマーを従来よりも低温で簡便に得ることができ
るとともに照射光パターンにしたがって導電性高分子の
パターンを極めて容易に形成させることが可能となった
。
[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1
(a)2.5−ビス(クロロメチル)チオフェンの製造
塩化水素ガス発生器として、500gの塩化ナトリウム
の入った11の2つロフラスコに濃硫酸200 mlを
入れた滴下ロートを取り付けた。
の入った11の2つロフラスコに濃硫酸200 mlを
入れた滴下ロートを取り付けた。
146 mlの37%ホルムアルデヒド水溶液と36m
1の36%塩酸のはいった4つロフラスコにはチオフェ
ン50g (0,594モル)の入った滴下ロートおよ
び温度計、HCIガス導入管を取り付けた。さらに、過
剰の塩化水素ガスを吸収するために2N水酸化ナトリウ
ム水溶液トラツプを設けた。
1の36%塩酸のはいった4つロフラスコにはチオフェ
ン50g (0,594モル)の入った滴下ロートおよ
び温度計、HCIガス導入管を取り付けた。さらに、過
剰の塩化水素ガスを吸収するために2N水酸化ナトリウ
ム水溶液トラツプを設けた。
混合液を撹拌しつつ、初め濃硫酸の滴下速度を調節して
ガス発生量を抑え徐々に系内に導入した(約1時間)。
ガス発生量を抑え徐々に系内に導入した(約1時間)。
その後、やや発生量を多くし塩化水素ガスを充分吸収さ
せた(約2時間)。
せた(約2時間)。
この操作を2回行ない混合液を塩化水素飽和溶液とした
。(この間、温度は25℃→40℃へと上昇した。)混
合液を30℃まで冷却後、5時間かけてチオフェンをゆ
っくり滴下した。
。(この間、温度は25℃→40℃へと上昇した。)混
合液を30℃まで冷却後、5時間かけてチオフェンをゆ
っくり滴下した。
滴下終了後、約2時間撹拌を続けた。混合液を静置する
と2層に分離した。上層の水層をデカンテーションし、
下層の黒色のオイルを冷水で洗浄、エーテルで抽出、重
曹(N a HCO3)で中和後、再び冷水で洗浄した
。エーテル層をぼう硝(Na2S04)で乾燥後、エー
テルを留去し減圧蒸留により生成物(受器中で結晶化、
透明針状晶)を得た。 H−NMRによればこの結晶は
純粋な2.5−ビス(クロロメチル)チオフェンである
ことが確認された。
と2層に分離した。上層の水層をデカンテーションし、
下層の黒色のオイルを冷水で洗浄、エーテルで抽出、重
曹(N a HCO3)で中和後、再び冷水で洗浄した
。エーテル層をぼう硝(Na2S04)で乾燥後、エー
テルを留去し減圧蒸留により生成物(受器中で結晶化、
透明針状晶)を得た。 H−NMRによればこの結晶は
純粋な2.5−ビス(クロロメチル)チオフェンである
ことが確認された。
(b12,5−ビス(メチレン ジメチルスルホニウム
クロライド)チオフェンの製造 上記実施例1(りで製造した18.11g(0,1モル
)の2.5−ビス(クロロメチル)チオフェンに対して
2.5〜3当量のメチルスルフィドと、10m1のジメ
チルホルムアミドを加え、室温(25〜27℃)または
低温(5〜7℃)で24〜144時間撹拌し、反応させ
た。
クロライド)チオフェンの製造 上記実施例1(りで製造した18.11g(0,1モル
)の2.5−ビス(クロロメチル)チオフェンに対して
2.5〜3当量のメチルスルフィドと、10m1のジメ
チルホルムアミドを加え、室温(25〜27℃)または
低温(5〜7℃)で24〜144時間撹拌し、反応させ
た。
反応停止後、DMF、エーテルで洗浄し白色の固体を得
た。固体の構造確認は’H−NMRおよび’C−NMR
により行なった。
た。固体の構造確認は’H−NMRおよび’C−NMR
により行なった。
(c)2.5−ビス(メチレン ジメチルスルホニウム
クロライド)チオフェンの重合 上記実施例1(b)の生成物30.53g(0,1モル
)を、攪拌器および100 mlの滴下ロートを取り付
けた500m1の3つ日丸底フラスコ中で水−メタノー
ル混合溶媒(体積比=1:2)200 mlに溶解させ
た。この溶液を冷媒を用いて一20℃に冷却した。滴下
ロートに当モルのテトラメチルアンモニウム ヒドロキ
シドの水−メタノール溶液を入れ系内を窒素置換した。
クロライド)チオフェンの重合 上記実施例1(b)の生成物30.53g(0,1モル
)を、攪拌器および100 mlの滴下ロートを取り付
けた500m1の3つ日丸底フラスコ中で水−メタノー
ル混合溶媒(体積比=1:2)200 mlに溶解させ
た。この溶液を冷媒を用いて一20℃に冷却した。滴下
ロートに当モルのテトラメチルアンモニウム ヒドロキ
シドの水−メタノール溶液を入れ系内を窒素置換した。
次にスルホニウム塩溶液を撹拌しつつアルカリ溶液を約
1時間かけて滴下した。滴下終了後、−20℃で保持し
たまま5時間撹拌を行なった。pfl= 7となってい
ることを万能指示薬紙により確認し反応の終了点とした
。
1時間かけて滴下した。滴下終了後、−20℃で保持し
たまま5時間撹拌を行なった。pfl= 7となってい
ることを万能指示薬紙により確認し反応の終了点とした
。
(d)前駆体高分子の製造
上記実施例1(C)で得られた一20℃の溶液を室温(
20℃)まで2時間かけて昇温させた。温度上昇にした
がって前駆体高分子が淡黄色の析出物として得られた。
20℃)まで2時間かけて昇温させた。温度上昇にした
がって前駆体高分子が淡黄色の析出物として得られた。
得られた析出物を濾過し減圧13
下で乾燥させた。 H−NMR,C−NMR。
IR,元素分析の結果から析出物の構造確認を行なった
。
。
(e)ポリ2.5−チェニレンビニレンの製造上記実施
例1(d)で得られた前駆体高分子1gおよび光感応性
物質としてジフェニルヨードニウムクロライド0.2g
とを塩化メチレン100m1に溶解させ、ガラスシャー
レにそそぎ、空気中、20℃で溶媒を蒸発させることに
より厚さ10μmの膜状物を得た。
例1(d)で得られた前駆体高分子1gおよび光感応性
物質としてジフェニルヨードニウムクロライド0.2g
とを塩化メチレン100m1に溶解させ、ガラスシャー
レにそそぎ、空気中、20℃で溶媒を蒸発させることに
より厚さ10μmの膜状物を得た。
このフィルムにXeランプを用いて紫外光を空気中で3
0分間照射した。照射後1O−61of+の真空下80
℃で1時間熱処理を行なった。その後IRスペクトルを
測定した。光照射した部分に1+an+−viBlen
e基のC−H面外変角振動(930cII+−1)を確
認した。
0分間照射した。照射後1O−61of+の真空下80
℃で1時間熱処理を行なった。その後IRスペクトルを
測定した。光照射した部分に1+an+−viBlen
e基のC−H面外変角振動(930cII+−1)を確
認した。
比較例1
光照射を行なわなかった以外は、実施例1と同様に行な
い、IRスペクトルを測定した結果、t+xns−yi
n71ene基のC−H面外変角振動は認められず、前
駆体高分子のものと同一であった。
い、IRスペクトルを測定した結果、t+xns−yi
n71ene基のC−H面外変角振動は認められず、前
駆体高分子のものと同一であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)光照射により酸または酸化剤を生成する光感応性物
質の存在下に、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式中R_1は水酸基、アルコキシ基、または▲数式、
化学式、表等があります▼で表わされるアシロキシ基で
、R_2はアルキル基、水素の一部あるいは全部をFで
置換したアルキル基、フェニル基であり、nは2以上の
整数、Arはアリレーン基を表わす)で示される前駆体
ポリマーを 光照射下で反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[II] (式中、Arおよびnは上記[ I ]式と同じである)
で示される共役系有機ポリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27348189A JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27348189A JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03134018A true JPH03134018A (ja) | 1991-06-07 |
| JP2502155B2 JP2502155B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=17528512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27348189A Expired - Fee Related JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502155B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2699542A1 (fr) * | 1992-12-21 | 1994-06-24 | Thomson Csf | Procédé d'obtention de polymères conducteurs de type polyarylène vinylène. |
| WO2003080698A1 (en) * | 2002-03-23 | 2003-10-02 | Cranfield University | Polymerisation method, polymers and uses thereof |
| WO2014046145A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | コニカミノルタ株式会社 | 光電変換素子およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP27348189A patent/JP2502155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2699542A1 (fr) * | 1992-12-21 | 1994-06-24 | Thomson Csf | Procédé d'obtention de polymères conducteurs de type polyarylène vinylène. |
| WO2003080698A1 (en) * | 2002-03-23 | 2003-10-02 | Cranfield University | Polymerisation method, polymers and uses thereof |
| US7449497B2 (en) | 2002-03-23 | 2008-11-11 | Cranfield University | Polymerisation method, polymers and uses thereof |
| WO2014046145A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | コニカミノルタ株式会社 | 光電変換素子およびその製造方法 |
| US9959982B2 (en) | 2012-09-24 | 2018-05-01 | Konica Minolta, Inc. | Photoelectric conversion element and method for producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2502155B2 (ja) | 1996-05-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6008265A (en) | Fluorinated ionic sulfonylimides and sulfonylmethylides, process of preparing same and use thereof as photoinitiators | |
| KR20050047713A (ko) | 트리플루오로비닐이써 기능기를 함유한 실록산 단량체와이 단량체를 이용하여 제조된 졸-겔 하이브리드 중합체 | |
| KR20090127732A (ko) | 신규한 티오펜 화합물, 티오펜 중합체, 전도성 고분자 박막및 이를 이용한 전도성 고분자 패턴형성방법 | |
| JPH03134018A (ja) | 共役系有機ポリマーの製造方法 | |
| JP2601897B2 (ja) | 共役系有機ポリマーの製造方法 | |
| JP2601898B2 (ja) | 共役系有機ポリマーの製造方法 | |
| JP3161058B2 (ja) | ポリ(ピリジン−2,5−ジイルビニレン)重合体及び製造法 | |
| JP6656531B2 (ja) | トリアジン化合物および重合体 | |
| US5439990A (en) | Photolytic polymer and photoresist composition | |
| JP4171861B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| KR102867388B1 (ko) | 수분 함량 측정을 위한 형광 공액 고분자 및 이의 제조방법 | |
| JPH0371453B2 (ja) | ||
| US5510456A (en) | Bridged cyclic arleneethylene polymers | |
| JP4937515B2 (ja) | 硫黄原子含有環状化合物およびその製造方法並びに架橋性組成物 | |
| TWI872526B (zh) | 脂環族二酸酐單體及其應用 | |
| JPH0232121A (ja) | ポリ−p−フェニレンビニレンの製造方法 | |
| JPH0415813B2 (ja) | ||
| US20030104311A1 (en) | Bis-o-aminophenol derivatives, poly-o-hydroxyamides, and polybenzoxazoles, usable in photosensitive compositions, dielectrics, buffer coatings, and microelectronics | |
| JP2959075B2 (ja) | ポリアリレンビニレン系高分子組成物の製造方法 | |
| WO1991005769A1 (fr) | Nouveau monomere de pyrrole, procede de preparation et film polymere fonctionnel | |
| Abu-Abdoun | Cationic Polymerization Induced by Tris-(pbromophenyl) Amine Cation-Radical Salts | |
| KR910008301B1 (ko) | 전기 전도성 폴리머의 제조방법 | |
| JPH01234418A (ja) | 新規高分子化合物、その製造法及びその高分子化合物から共役系高分子を製造する方法 | |
| JP6774815B2 (ja) | 重合体およびその製造方法 | |
| JPH04359020A (ja) | ポリアニリンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |