JPH03135111A - Output buffer circuit - Google Patents
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- JPH03135111A JPH03135111A JP1271544A JP27154489A JPH03135111A JP H03135111 A JPH03135111 A JP H03135111A JP 1271544 A JP1271544 A JP 1271544A JP 27154489 A JP27154489 A JP 27154489A JP H03135111 A JPH03135111 A JP H03135111A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は出力バッファ回路に関し、特に半導体集積囲路
に設けられた出力バッファ回路に使用されるものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION OBJECTS OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an output buffer circuit, and is particularly used for an output buffer circuit provided in a semiconductor integrated circuit.
(従来の技術)
従来のICによる出力バッファ回路例を以下に示す。第
9図の出力バッファ回路は、vDD電源にソースが接続
されたPチャネルMosトランジスタTPOIとGND
(接地)電位にソースが接続されたNチャネルMos
トランジスタTNOIのドレインを共通接続して出力線
13に接続し、両トランジスタのゲートを共通接続し、
信号入力線2oに接続したCMOSインバータIVOI
からなる。第10図は第9図に示す出力バッファ凹路が
動作した時の入力及び出力の波形を示すものである。第
11図は、第9図のCMOSインバータにょる出力バッ
ファ回路をパターンにより構成したときの一例で、Pチ
ャネルMOSトランジスタTPOI及びNチャネルMO
SトランジスタTNOIのゲートを形成しているポリシ
リコンPGOI及びNGOIは金属配線による入力線2
0により一括接続されている。(Prior Art) An example of an output buffer circuit using a conventional IC is shown below. The output buffer circuit in FIG. 9 connects a P-channel Mos transistor TPOI whose source is connected to the vDD power supply and GND.
N-channel Mos with source connected to (ground) potential
The drains of the transistors TNOI are commonly connected and connected to the output line 13, the gates of both transistors are commonly connected,
CMOS inverter IVOI connected to signal input line 2o
Consisting of FIG. 10 shows input and output waveforms when the output buffer channel shown in FIG. 9 operates. FIG. 11 shows an example of the output buffer circuit of the CMOS inverter shown in FIG.
The polysilicon PGOI and NGOI forming the gate of the S transistor TNOI are connected to the input line 2 by metal wiring.
They are connected together by 0.
ここで、第9図における出力バッファ回路では、電源線
11.12及び出力線13による寄生インダクタンスL
O1,LO2,LO3や出力線13の負荷容量cO1か
らなる共振回路によって、出力バッファ駆動時に電源線
11,12、出力線13に電圧振動が生じ、第10図に
も示すように出力信号にオーバーシュート、アンダーシ
ュート現象が発生する。また第11図に示すパターンの
ように、いくつかに分割されたポリシリコンゲートを金
属配線20により一括して接続しである場合には、接続
されたすべてのトランジスタ(To1〜TO6あるいは
T11〜T16)が同時にオンする為、出力負荷の充放
電は急速におこなわれるので前述のオーバーシュート、
アンダーシュート現象はますます顕著になる。その結果
電源電圧の変動をまねき、上記出力バッファ回路と同−
電源線に接続されている他素子の誤動作やラッチアップ
現象を誘発するという問題がある。Here, in the output buffer circuit shown in FIG.
Due to the resonant circuit consisting of O1, LO2, LO3 and the load capacitance cO1 of the output line 13, voltage oscillations occur in the power supply lines 11, 12 and the output line 13 when the output buffer is driven, and as shown in FIG. Shoot and undershoot phenomena occur. Furthermore, as in the pattern shown in FIG. 11, when polysilicon gates divided into several parts are connected together by metal wiring 20, all the connected transistors (To1 to TO6 or T11 to T16 ) are turned on at the same time, the output load is rapidly charged and discharged, resulting in the above-mentioned overshoot and
The undershoot phenomenon becomes more and more noticeable. As a result, the power supply voltage fluctuates, and the output buffer circuit described above
There is a problem in that it induces malfunctions and latch-up phenomena in other elements connected to the power supply line.
また第12図は第9図のCMOSインバータによる出力
バッファ回路を他のパターンにより構成した時の一例で
、第11図のパターンにおいては、ゲートを金属配線に
より一括して接続しているのに対して、第12図の出力
バッファ回路では、ゲートの遅延を利用する為に、金属
配線による一括接続はせずに、分割されたゲートをゲー
ト電極材料であるポリシリコンPGO2,NGO2によ
り直列に接続しているので、ポリシリコンゲートのCR
の遅延により、第12図におけるPチャネル、Nチャネ
ルMOSトランジスタ(T21〜T26あるいはT31
〜T36)が同時にオンする事が無くなり、Pチャネル
MOSトランジスタではT21−T22・・・・・・T
7というように、またNチャネルMOSトランジスタで
はT31−T32・・・・・・T、というように徐々に
オンする為、第9図における負荷容量cO1に蓄積され
た電荷のGNDへの流入及び負荷容jiicO1のVD
D電源からの電流の流入による充電が緩やかに行われる
ので、前述のオーバーシュート、アンダーシュート現象
は抑制される。しかし、第12図のような出力バッファ
回路においては、ゲートのCRによる遅延がトランジス
タのゲート寸法により決定されるので、所定のゲート遅
延量を得ようとする場合、出力バッファを構成するPチ
ャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジ
スタのサイズを調整しなければならないが、ここでMO
Sトランジスタにおいては、同じプロセス上では移動度
の違いなどにより同じトランジスタサイズの場合、Nチ
ャネルMOSトランジスタの単位サイズ当りの出力電流
値はPチャネルMOSトランジスタのそれに比べて2〜
3倍程度になり、必要なトランジスタ特性に対するトラ
ンジスタサイズの設定がPチャネル、Nチャネルトラン
ジスタでアンバランスになるので、所定のゲート遅延量
を得る為のトランジスタサイズの調整が難しくなる。ま
た、近年の半導体技術の進歩によるデバイスの微細化に
伴い、ゲート電極材料として従来用いられてきたポリシ
リコンの層抵抗が20〜30Ω/。と高く、配線遅順の
原因となっている。その為新たなゲート材料として、高
融点金属のシリサイドが用いられようとしており、Mo
S i2 、WS i2 。Fig. 12 is an example of the output buffer circuit using the CMOS inverter shown in Fig. 9 configured using another pattern. In the output buffer circuit shown in Fig. 12, in order to take advantage of gate delay, the divided gates are connected in series using polysilicon PGO2 and NGO2, which are gate electrode materials, instead of being connected all at once using metal wiring. Therefore, the CR of the polysilicon gate is
Due to the delay, the P-channel, N-channel MOS transistors (T21 to T26 or T31
~T36) are no longer turned on at the same time, and in the P-channel MOS transistor, T21-T22...T
7, and in the case of an N-channel MOS transistor, it gradually turns on as T31-T32...T, so the charge accumulated in the load capacitance cO1 flows into GND and the load in FIG. YongjiicO1's VD
Since charging is performed slowly due to the inflow of current from the D power source, the above-mentioned overshoot and undershoot phenomena are suppressed. However, in the output buffer circuit shown in FIG. 12, the delay due to the gate CR is determined by the gate dimensions of the transistor, so if you want to obtain a predetermined amount of gate delay, the P-channel MOS constituting the output buffer The size of the transistor and N-channel MOS transistor must be adjusted, but here the MO
In S transistors, the output current value per unit size of an N-channel MOS transistor is 2 to 2 to 2 times higher than that of a P-channel MOS transistor when the transistor size is the same due to differences in mobility in the same process.
This becomes about three times as large, and the setting of the transistor size with respect to the required transistor characteristics becomes unbalanced between P-channel and N-channel transistors, making it difficult to adjust the transistor size to obtain a predetermined amount of gate delay. In addition, with the miniaturization of devices due to recent advances in semiconductor technology, the layer resistance of polysilicon, which has been conventionally used as a gate electrode material, has increased to 20 to 30 Ω/. This is high and causes slow wiring. Therefore, silicide, a high-melting point metal, is being used as a new gate material, and Mo
S i2 , WS i2 .
TaSi2をゲート電極として用いた場合の層抵抗は2
〜3Ω/口とポリシリコンに比べて1桁小さい値となっ
ている。そしてこれらシリサイドは化学的性質がポリシ
リコンに酷似しており、一部の工程を除いてプロセス上
はぼポリシリコンと同様に取り扱うことができる。The layer resistance when TaSi2 is used as the gate electrode is 2
~3Ω/mouth, which is an order of magnitude smaller than that of polysilicon. The chemical properties of these silicides are very similar to that of polysilicon, and with the exception of some steps, they can be handled in the same manner as polysilicon.
このようにデバイスの微細化に伴いゲート電極材料の層
抵抗を減少させようとしているとき、第12図における
出力バッファのようにゲート電極材料の遅延を利用して
、出力バッファスイッチング時に出力信号に発生するオ
ーバーシュート、アンダーシュート現象を抑制しようと
しても、その実現は不可能となる。In this way, when trying to reduce the layer resistance of the gate electrode material with the miniaturization of devices, using the delay of the gate electrode material as shown in the output buffer in Figure 12, we can reduce the layer resistance that occurs in the output signal during output buffer switching. Even if an attempt is made to suppress the overshoot and undershoot phenomena that occur, it will be impossible to achieve this goal.
(発明が解決しようとする課題)
以上のように、半導体デバイスの高速化に伴い従来の出
力バッファ回路においては、第9図に示すように配線に
よる寄生インダクタンスや出力線の負荷容量が原因とな
り、出力バッファのスイッチング時において、電源線、
出力線に電圧振動が生じ、第10図のようにオーバーシ
ュート、アンダーシュート現象を発生し、その結果電源
電圧の変動をまねく為、同一電源線に接続されている他
素子の誤動作やラッチアップ現象誘発の原因になってい
た。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, as the speed of semiconductor devices increases, in conventional output buffer circuits, as shown in FIG. 9, parasitic inductance due to wiring and load capacitance of output lines cause When switching the output buffer, the power line,
Voltage oscillations occur in the output line, causing overshoot and undershoot phenomena as shown in Figure 10, resulting in fluctuations in the power supply voltage, which may cause malfunctions and latch-up phenomena in other elements connected to the same power supply line. It was causing the trigger.
また上述の問題を改善するために考案された第12図の
回路では、ゲート電極材料のCRによる遅延を利用し出
力バッファに用いられるトランジスタが徐々にオンする
為、出力バッファの出力線に接続されている負荷容量の
充放電は緩やかに行われるのでオーバーシュート、アン
ダーシュート現象は抑制される。しかし所定のゲート遅
延量を得る為のトランジスタサイズの調整がむずがしい
ことがある。また上記ゲート電極のCRによる遅延が大
だと、第9図のトランジスタTPO1゜TNOIが同時
オンする期間が大となって、電源VDDSGND間に大
きな貫通電流が流れてしまう。また近年半導体技術の進
歩によるデバイスの微細化に伴い、ゲート電極材料の低
抵抗化が計られている今、ゲート電極材料のCRによる
遅延を利用して出力バッファスイッチング時に、出力信
号に発生するオーバーシュート、アンダーシュート現象
を抑制しようとしても、その実現は不可能である。In addition, in the circuit shown in FIG. 12, which was devised to improve the above-mentioned problem, the transistor used for the output buffer is gradually turned on using the delay caused by the CR of the gate electrode material, so that the transistor connected to the output line of the output buffer is not connected to the output line of the output buffer. Since the load capacity is charged and discharged slowly, overshoot and undershoot phenomena are suppressed. However, it may be difficult to adjust the transistor size to obtain a predetermined amount of gate delay. Furthermore, if the delay due to the CR of the gate electrode is large, the period during which the transistors TPO1 and TNOI in FIG. 9 are simultaneously turned on becomes long, and a large through current flows between the power supplies VDDSGND and VDDSGND. In addition, in recent years, with the miniaturization of devices due to advances in semiconductor technology, the resistance of gate electrode materials has been reduced. Even if attempts are made to suppress the shoot and undershoot phenomena, it is impossible to achieve this goal.
そこで本発明の目的は、上記従来の各問題点を改善する
ことができる出力バッファ回路を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an output buffer circuit that can improve the above-mentioned conventional problems.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段と作用)
本発明は、(1)出力が共通接続されたPチャネルMO
Sトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタの各
ゲートが複数個に分割されており、その分割されたPチ
ャネルMOSトランジスタのゲート間を第1の抵抗素子
で接続し、かつNチャネルMOSトランジスタのゲート
間を第2の抵抗素子で接続した事を特徴とする出力バッ
ファ回路である。また本発明は、(2)前記第1゜第2
の抵抗素子として、拡散層を用いる事を特徴とする上記
(1)に記載の出力バッファ回路である。また本発明は
、(3)前記第1.第2の抵抗素子として、MOSトラ
ンジスタにより構成された第1.第2の遅延回路を用い
た事を特徴とする上記(1)に記載の出力バッファ回路
である。[Structure of the Invention] (Means and Effects for Solving the Problems) The present invention provides (1) a P-channel MO whose outputs are commonly connected;
Each gate of the S transistor and the N channel MOS transistor is divided into a plurality of parts, and the gates of the divided P channel MOS transistors are connected by a first resistance element, and the gates of the N channel MOS transistors are connected by a first resistance element. This is an output buffer circuit characterized by connecting two resistive elements. The present invention also provides (2) the first and second
The output buffer circuit according to (1) above is characterized in that a diffusion layer is used as the resistance element. The present invention also provides (3) the above-mentioned first aspect. As the second resistance element, the first . The output buffer circuit according to (1) above is characterized in that a second delay circuit is used.
即ち本発明では、出力バッファのトランジスタゲートを
分割し、そのゲート間を抵抗素子で接続する事によりト
ランジスタのオンを徐々に行う事ができるので出力線に
接続された負荷容量の充放電を緩やかに行うことができ
る。又、前記抵抗素子を所定のサイズに設定されたトラ
ンジスタで構成する事により、出力バッファスイッチン
グ時に発生する貫通電流を減少させる事ができる。従っ
て本発明では、半導体デバイスの高速化に伴い従来の出
力バッファにおいて出力バッファスイッチング時に発生
していたオーバーシュート、アンダーシュート現象を抑
制し、出力バッファスイッチング時における電源、接地
間の貫通電流を防ぐことができるので、電源を共用する
他素子の誤動作やラッチアップ現象を防ぐ事ができる。That is, in the present invention, by dividing the transistor gate of the output buffer and connecting the gates with a resistor element, the transistor can be turned on gradually, so that the load capacitance connected to the output line can be gradually charged and discharged. It can be carried out. Furthermore, by configuring the resistance element with a transistor set to a predetermined size, it is possible to reduce the through current generated during output buffer switching. Therefore, the present invention suppresses overshoot and undershoot phenomena that occur during output buffer switching in conventional output buffers as semiconductor devices increase in speed, and prevents through current between the power supply and ground during output buffer switching. Therefore, it is possible to prevent malfunctions and latch-up phenomena of other elements that share the power supply.
又、本発明では、近年の半導体技術の進歩によるデバイ
スの微細化に伴い、ゲート電極の低抵抗化が図られても
、上記分割ゲート電極間に設けた抵抗素子により、第1
2図で述べたような問題を生じることがない。In addition, in the present invention, even if the resistance of the gate electrode is lowered due to the miniaturization of devices due to recent advances in semiconductor technology, the resistance element provided between the divided gate electrodes allows the first
The problem described in FIG. 2 does not occur.
(実施例)
本発明の実施例を以下に示す。第1〜8図は本発明の実
施例をパターン・イメージの回路図で表現したものであ
る。第1図においては出力バッファのPチャネルトラン
ジスタTP01のゲートをPC11〜PG14に分割し
、その隣接ゲート間を拡散層による抵抗素子DFOI〜
DFO3より接続し、NチャネルトランジスタTNOI
のゲートはNGII〜N013に分割し、その隣接ゲー
ト間を拡散層による抵抗素子DF11゜DF12により
接続しており、それぞれソースSは電源側で共通接続さ
れており、それぞれのドレインDは出力線42により共
通接続されている。(Example) Examples of the present invention are shown below. 1 to 8 are pattern image circuit diagrams representing embodiments of the present invention. In FIG. 1, the gate of the P-channel transistor TP01 of the output buffer is divided into PC11 to PG14, and the resistance elements DFOI to DFOI by diffusion layers are connected between adjacent gates.
Connected from DFO3, N-channel transistor TNOI
The gates of are divided into NGII to N013, and adjacent gates are connected by resistance elements DF11 and DF12 using diffusion layers.The sources S of each are commonly connected on the power supply side, and the drains D of each are connected to the output line 42. are commonly connected.
この回路では、入力40が接続されるCMOSインバー
タによるプリバッファI V 1.0の出力41が、最
初にPチャネルトランジスタのゲー)Pに11.Nチャ
ネルトランジスタゲートNGIIに接続されており、そ
の後はそれぞれのゲート間を接続している拡散層の抵抗
を介して、PチャネルトランジスタにおいてはT41→
’1”42→T43→・・・T48、Nチャネルトラン
ジスタにおいてはT51→T52→T53→・・・T5
6と徐々にオンしてゆく為、出力線42に接続された負
荷容量 CO1の充放電は緩やかに行なわれる。このた
め第10図のオーバーシュート。In this circuit, the output 41 of a pre-buffer I V 1.0 by a CMOS inverter, to which the input 40 is connected, is first applied to the gate 11.0 of a P-channel transistor. It is connected to the N-channel transistor gate NGII, and then T41→
'1''42→T43→...T48, T51→T52→T53→...T5 in N channel transistor
6, the load capacitor CO1 connected to the output line 42 is gradually charged and discharged. This causes the overshoot in Figure 10.
アンダーシュート現象は抑制される。また第1図の如く
抵抗素子で分割ゲートを結ぶ構成では、遅延量の設定が
容品で、しかも拡散層の抵抗値は通常50〜100Ω1
0程度であり、拡散層パターンの形状により可変である
ので、所定のゲート遅延量を得る為の設定は容易である
。The undershoot phenomenon is suppressed. In addition, in the configuration shown in Figure 1, in which the divided gates are connected by resistive elements, the delay amount can be set appropriately, and the resistance value of the diffusion layer is usually 50 to 100Ω1.
Since it is approximately 0 and variable depending on the shape of the diffusion layer pattern, it is easy to set it to obtain a predetermined gate delay amount.
第2図は本発明の異なる実施例である。この実施例にお
いては、出力バッファのPチャネルトランジスタのゲー
トをPCII〜PG14に、Nチャネルトランジスタの
ゲートをNGII〜Nに13に分割し、その隣接ゲート
間を、入力側及び出力側にそれぞれ共通接続され、ゲー
トににND (接地)の電位が与えられたPチャネルト
ランジスタ(Pチャネル側はTPII〜TP13、Nチ
ャネル側はTP14.TP15)及びゲートにVDDg
位が与えられたNチャネルトランジスタ(Pチャネル側
はTN11〜TN13、Nチャネル側はTM14.TM
01)を用いて接続しており、Pチャネルトランジスタ
TPOIのゲート間を接続しているPチャネルトランジ
スタTP11〜TP13それぞれのgm(コンダクタン
ス)が、NチャネルトランジスタTNOIのゲート間を
接続しているPチャネルトランジスタTP 14〜TP
15それぞれのgmより大きく、Nチャネルトランジス
タTNOIのゲート間を接続しているNチャネルトラン
ジスタTN14〜TN15それぞれのgmが、Pチャネ
ルトランジスタTPOIのゲート間を接続しているNチ
ャネルトランジスタTN11〜TN13それぞれのgm
より大きく設定されている。そして、それぞれのドレイ
ンDは出力線42により共通接続されており、入力点4
0のCMOSインバータによるプリバッファIVIOの
出力41が、出力バッファのPチャネルトランジスタT
POIのゲートPに11及びNチャネルトランジスタT
NOIのゲートNG11に接続されている。FIG. 2 shows a different embodiment of the invention. In this embodiment, the gates of the P-channel transistors of the output buffer are divided into 13 parts PCII to PG14, and the gates of the N-channel transistors are divided into 13 parts, NGII to N. Adjacent gates are commonly connected to the input side and the output side, respectively. P-channel transistors (TPII to TP13 on the P-channel side, TP14 and TP15 on the N-channel side) whose gates are given a potential of ND (ground) and VDDg at their gates.
N-channel transistors (TN11 to TN13 on the P-channel side, TM14.TM on the N-channel side)
01), and the gm (conductance) of each of the P-channel transistors TP11 to TP13 connecting the gates of the P-channel transistor TPOI is the same as that of the P-channel transistor connecting the gates of the N-channel transistor TNOI. Transistor TP 14~TP
15, and the gm of each of the N-channel transistors TN14 to TN15 connecting the gates of the N-channel transistor TNOI is greater than the gm of each of the N-channel transistors TN11 to TN13 connecting the gates of the P-channel transistor TPOI. gm
is set larger. The respective drains D are commonly connected by an output line 42, and the input point 4
The output 41 of the pre-buffer IVIO by the CMOS inverter of 0 is connected to the P-channel transistor T of the output buffer.
11 and N channel transistor T at the gate P of POI
It is connected to the gate NG11 of NOI.
第2図の回路において、入力INの入力点40をVDD
[位からGND電位に下げていくと、CMOSインバー
タIV10のPチャネルトランジスタがオンになり、ノ
ード41の電位はGND電位からあがり始める。次に出
力バッファにおいてはそのゲートPGII、NGIIの
電位があがり始める。モしてPチャネルトランジスタで
は、各分割されたゲート間を接続しているPチャネルト
ランジスタTP11〜TP13がオンになる事によりP
チャネルトランジスタ741〜748は急速にオフにな
り、貫通電流を防止できる。In the circuit of Fig. 2, input point 40 of input IN is set to VDD.
When the potential of the node 41 is lowered from the GND potential to the GND potential, the P-channel transistor of the CMOS inverter IV10 is turned on, and the potential of the node 41 starts to rise from the GND potential. Next, in the output buffer, the potentials of its gates PGII and NGII begin to rise. In the P-channel transistor, P-channel transistors TP11 to TP13 connecting between each divided gate are turned on.
Channel transistors 741-748 are quickly turned off to prevent through current.
この後出力バッファのNチャネルトランジスタTNO1
においては、各分割されたゲート間を接続しているNチ
ャネルトランジスタTN14〜TN15がオンになるこ
とによってトランジスタ751〜T56が徐々にオンし
ていく。この時NチャネルトランジスタTN14〜TN
15のオン抵抗は、前記Nチャネルトランジスタ753
〜T56のゲート電位が上がるにしたがってバックゲー
トバイアス効果により上昇し、前記ゲート電位の上昇は
緩やかなものになる。またトランジスタTP14、TP
15は前記ゲート電位を最終的に完全な“1“レベルに
する働きをする。次に前記とは逆に信号入力ノード40
をGND電位からVDD電位に上げていくと、CMOS
インバータIVIOのNチャネルトランジスタがオンに
なり、ノード41の電位はVDD電位から下がり始める
。次に出力バッファにおいては、そのゲートPGI 1
、Nに11の電位が下がり始め、Nチャネルトランジス
タTNOIにおいては、各分割されたゲート間を接続し
ているNチャネルトランジスタTN14、TM01がオ
ンになる事によりNチャネルトランジスタT51〜T5
6は急速にオフになり、貫通電流を防止できる。この後
出力バッファのPチャネルトランジスタTPOIにおい
ては、各分割されたゲート間を接続しているPチャネル
トランジスタTPII〜TP13がオンになる事によっ
てトランジスタT41〜T48が徐々にオンしていく。After this, the N-channel transistor TNO1 of the output buffer
In this case, the transistors 751 to T56 are gradually turned on by turning on the N channel transistors TN14 to TN15 connecting the divided gates. At this time, N channel transistors TN14 to TN
The on-resistance of 15 is the N-channel transistor 753.
As the gate potential of ~T56 rises, it increases due to the back gate bias effect, and the rise in the gate potential becomes gradual. In addition, transistors TP14 and TP
15 serves to finally bring the gate potential to a complete "1" level. Next, contrary to the above, the signal input node 40
When increasing from GND potential to VDD potential, CMOS
The N-channel transistor of inverter IVIO is turned on, and the potential of node 41 begins to fall from the VDD potential. Next, in the output buffer, its gate PGI 1
, N11 begins to fall, and in the N-channel transistor TNOI, the N-channel transistors TN14 and TM01 that connect the divided gates are turned on, and the N-channel transistors T51 to T5 are turned on.
6 is quickly turned off and can prevent through current. Thereafter, in the P-channel transistor TPOI of the output buffer, the P-channel transistors TPII-TP13 connecting the divided gates are turned on, and the transistors T41-T48 are gradually turned on.
この時PチャネルトランジスタTP11〜TP13のオ
ン抵抗は、前記Pチャネルトランジスタ743〜T48
のゲート電位が下がるにしたがってバックゲートバイア
ス効果により上昇し、前記ゲート電位の上昇は緩やかな
ものになる。またトランジスタTNII〜TN13は前
記ゲート電位を最終的に完全な“0“レベルにする働き
をする。At this time, the on-resistance of the P-channel transistors TP11 to TP13 is equal to the on-resistance of the P-channel transistors 743 to T48.
As the gate potential decreases, it increases due to the back gate bias effect, and the increase in the gate potential becomes gradual. Further, the transistors TNII to TN13 function to finally bring the gate potential to a complete "0" level.
第3図は本発明の異なる実施例である。この第3図にお
いては、出力バッファのPチャネルトランジスタのゲー
トをPC11〜PG14に、Nチャネルトランジスタの
ゲートをNGII〜N013に分割し、その隣接ゲート
間を、Pチャネルトランジスタのゲート側は入力側及び
出力側がそれぞれ共通接続されゲートに入力INが与え
られているPチャネルトランジスタTP11〜TP13
及びゲートにVDD電位が与えられNチャネルトランジ
スタTNII〜TN13を用いて接続しており、Nチャ
ネルトランジスタのゲート側は、入力側及び出力側がそ
れぞれ共通接続されゲートにGND電位が与えられたP
チャネルトランジスタTP14、TP15及びゲートに
入力INが与えられているNチャネルトランジスタTN
14、TM01を用いて接続しており、Pチャネルトラ
ンジスタのゲート間を接続しているPチャネルトランジ
スタTP11〜TP13それぞれのgmが、Nチャネル
トランジスタ間を接続しているPチャネルトランジスタ
TP14、TP15それぞれのgmより大きく、Nチャ
ネルトランジスタのゲート間を接続しているNチャネル
トランジスタTN14、TM01それぞれのgmが、P
チャネルトランジスタのゲート間を接続しているNチャ
ネルトランジスタTN11〜TN13それぞれのgmよ
り大きく設定されている。FIG. 3 shows a different embodiment of the invention. In FIG. 3, the gates of the P-channel transistors of the output buffer are divided into PC11 to PG14, and the gates of the N-channel transistors are divided into NGII to N013. P-channel transistors TP11 to TP13 whose output sides are commonly connected and whose gates are supplied with input IN
The N-channel transistors are connected using N-channel transistors TNII to TN13 whose gates are given a VDD potential, and the gates of the N-channel transistors are connected to P transistors whose input and output sides are respectively commonly connected and whose gates are given a GND potential.
channel transistors TP14, TP15 and an N-channel transistor TN whose gate is supplied with input IN;
14. The gm of each of the P-channel transistors TP11 to TP13 that connects the gates of the P-channel transistors is the same as that of each of the P-channel transistors TP14 and TP15 that connects the N-channel transistors. gm, and the gm of each of the N-channel transistors TN14 and TM01, which connect the gates of the N-channel transistors, is P
It is set larger than the gm of each of the N-channel transistors TN11 to TN13 connecting the gates of the channel transistors.
そして、それぞれのドレインDは出力線42により共通
接続されており、ノード40を入力点とするCMOSイ
ンバータによるプリバッファIVIOの出力41が出力
バッファのPチャネルトランジスタのゲートPGII及
びNチャネルトランジスタのゲートNGIIに接続され
ている。The respective drains D are commonly connected by an output line 42, and the output 41 of the pre-buffer IVIO by the CMOS inverter with the node 40 as the input point is connected to the gate PGII of the P-channel transistor and the gate NGII of the N-channel transistor of the output buffer. It is connected to the.
今、この第3図の回路において信号入力IVをVDD電
位からGND電位に下げていくと、CMOSインバータ
IVIOのPチャネルトランジスタがオンになり、ノー
ド41の電位はGND電位から上がり始め、出力バッフ
ァにおいてはゲートPG11、NG11の電位が上がり
始める。Now, when the signal input IV is lowered from the VDD potential to the GND potential in the circuit shown in FIG. The potentials of gates PG11 and NG11 begin to rise.
そしてPチャネルトランジスタTPOIでは、各分割さ
れたゲート間を接続しているPチャネルトランジスタT
PII〜TP13ではゲートに“0”レベルが与えられ
ており、これらのトランジスタがオンする事によりPチ
ャネルトランジスタ741〜748は急速にオフになる
。この後出力バッファのNチャネルトランジスタTNO
Iにおいては、各分割されたゲート間を接続しているP
チャネルトランジスタTP14、TP15がオンになる
ことによってトランジスタ751〜T56が徐々にオン
していく。この時NチャネルトランジスタTN14、T
M01のゲートには、入力ノード40の“0°レベルが
与えられている為、TM14、TM01はオフ状態にあ
る。次に前記とは逆に、信号入力INをGND電位から
VDD電位に上げていくと、CMOSインバータIVI
OのNチャネルトランジスタがオンになり、ノード41
の電位はVDD電位から下がり始め、出力バッファにお
いてはゲートPG11、NG11の電位が下がり始める
。そしてNチャネルトランジスタTNOIでは、各分割
されたゲート間を接続しているNチャネルトランジスタ
TN14、TM01では、ゲートに入力ノード40の“
1”レベルが与えられており、これらのトランジスタが
オンする事によりNチャネルトランジスタT51〜T5
6は急速にオフになる。In the P-channel transistor TPOI, the P-channel transistor TPOI connects each divided gate.
A "0" level is applied to the gates of PII to TP13, and when these transistors are turned on, the P channel transistors 741 to 748 are rapidly turned off. After this, the N-channel transistor TNO of the output buffer
In I, P connecting between each divided gate
By turning on channel transistors TP14 and TP15, transistors 751 to T56 are gradually turned on. At this time, N-channel transistors TN14, T
Since the "0° level of the input node 40 is applied to the gate of M01, TM14 and TM01 are in the off state.Next, contrary to the above, the signal input IN is raised from the GND potential to the VDD potential. Then, CMOS inverter IVI
The N-channel transistor at node 41 turns on.
The potential begins to drop from the VDD potential, and in the output buffer, the potentials of gates PG11 and NG11 begin to fall. In the N-channel transistor TNOI, the N-channel transistors TN14 and TM01, which connect the divided gates, have their gates connected to the input node 40.
1” level is given, and by turning on these transistors, the N-channel transistors T51 to T5
6 turns off quickly.
その後出力バッファのPチャネルトランジスタTPOI
においては、各分割されたゲート間を接続しているNチ
ャネルトランジスタTN11〜TN13がオンになるこ
とによって、トランジスタT41〜748が徐々にオン
していく。この時PチャネルトランジスタTP11〜T
P13のゲートには入力ノード40の“1mレベルが与
えられている為、TP11〜TP13はオフ状態にある
。Then the P-channel transistor TPOI of the output buffer
In , the transistors T41 to 748 are gradually turned on by turning on the N channel transistors TN11 to TN13 connecting between the respective divided gates. At this time, P channel transistors TP11 to T
Since the "1m level" of the input node 40 is applied to the gate of P13, TP11 to TP13 are in the off state.
第4図は本発明の異なる実施例である。ここで出力バッ
ファのPチャネルトランジスタTPO1のゲートをPC
II〜PC;14に、NチャネルトランジスタTNOI
のゲートをNGII〜N013に分割し、そのゲート間
をPチャネルトランジスタのゲート側は、ゲートにVD
D電位が与えられたNチャネルトランジスタTN21〜
TN23で接続し、それぞれ分割されたゲートPG12
〜PG141.:は、ゲートに入力点4oを接続しソー
スにインバータIVIOの出力41を接続したPチャネ
ルトランジスタTP21〜TP23のドレインをそれぞ
れ接続している。FIG. 4 shows a different embodiment of the invention. Here, the gate of the P-channel transistor TPO1 of the output buffer is connected to PC.
II to PC; 14, N-channel transistor TNOI
The gate of the P-channel transistor is divided into NGII to N013, and the gate side of the P-channel transistor is connected to VD.
N-channel transistor TN21 to which D potential is applied
Connected by TN23 and divided gates PG12
~PG141. : connects the drains of P-channel transistors TP21 to TP23 whose gates are connected to the input point 4o and whose sources are connected to the output 41 of the inverter IVIO.
NチャネルトランジスタTNOIのゲート側は、ゲート
にGNDTIi位が与えられたPチャネルトランジスタ
TP24、TP25で接続し、それぞれの分割されたゲ
ートNG12、NG13には、ゲートに入力点40を接
続しソースにインバータIVIOの出力41を接続した
NチャネルトランジスタTN24、TN25のドレイン
をそれぞれ接続している。そして前記Pチャネルトラン
ジスタTP21〜TP23それぞれのgmがTP24、
TP25のそれより大きく、前記Nチャネルトランジス
タTN24、TN25それぞれのgmがT21〜TN2
3のそれより大きく設定されている。そしてトランジス
タ741〜748.751〜T56それぞれのドレイン
は出力線42により共通接続されており、ノード40を
入力点とするCMOSインバータによるプリバッファ!
N10の出力41が出力バッファのPチャネルトランジ
スタのゲートPG11及びNチャネルトランジスタのゲ
ートNG11に接続されている。The gate side of the N-channel transistor TNOI is connected to the P-channel transistors TP24 and TP25 whose gates are given GNDTIi level, and the respective divided gates NG12 and NG13 are connected to the input point 40 at the gate and connected to the inverter at the source. The drains of N-channel transistors TN24 and TN25 connected to the output 41 of IVIO are connected to each other. The gm of each of the P-channel transistors TP21 to TP23 is TP24,
larger than that of TP25, and the gm of each of the N-channel transistors TN24 and TN25 is T21 to TN2.
It is set larger than that of 3. The drains of the transistors 741 to 748 and 751 to T56 are commonly connected by an output line 42, and are pre-buffered by a CMOS inverter whose input point is the node 40.
The output 41 of N10 is connected to the gate PG11 of the P-channel transistor and the gate NG11 of the N-channel transistor of the output buffer.
今この第4図の回路において信号入力ノード40をVD
D7@位からGND電位に下げていくと、インバータI
VIOのPチャネルトランジスタがオンになり、ノード
41の電位はGNDから上がり始める。モして出力バッ
ファのPチャネルトランジスタTPOIにおいてはTP
21〜TP23の入力点40の“0°レベルが与えられ
ているので、これらのトランジスタがオンすることによ
り、Pチャネルトランジスタ741〜748は急速にオ
フする。この後出力バッファのNチャネルトランジスタ
TNO1においては、各分割されたゲート間を接続して
いるPチャネルトランジスタTP24、TP25がオン
になる市によってトランジスタT51〜T56は徐々に
オンしていく。この時NチャネルトランジスタTN24
、TN25は、ゲート入力ノード40の“0″レベルが
与えられている為オフ状態にある。次に前記とは逆に、
信号入力ノード40をGND電位からVDD電位に上げ
ていくと、CMOSインバータIVIOのNチャネルト
ランジスタがオンになり、ノード41の電位はVDDか
ら下がり始める。そして、出力バッファのNチャネルト
ランジスタTNO1においては、トランジスタTN24
、TN25のゲートに入力点40“1”レベルが与えら
れているので、これらのトランジスタがオンする事によ
り、Nチャネルトランジスタ751〜T56は急速にオ
フする。この後出力バッファのPチャネルトランジスタ
TPOIにおいては、各分割されたゲート間を接続して
いるNチャネルトランジスタTN21〜TN23がオン
になることによってトランジスタT41〜748は徐々
にオンしていく。この時PチャネルトランジスタTP2
1〜TP2Bは、ゲートに入力ノード40の“1″レベ
ルが与えられている為オフ状態にある。Now, in the circuit of FIG. 4, the signal input node 40 is connected to VD.
When lowering the potential from D7@ level to GND potential, the inverter I
The P-channel transistor of VIO is turned on, and the potential of node 41 begins to rise from GND. In the P-channel transistor TPOI of the output buffer, TP
Since the "0° level" of the input point 40 of 21 to TP23 is applied, when these transistors turn on, the P channel transistors 741 to 748 quickly turn off.After this, the N channel transistor TNO1 of the output buffer The transistors T51 to T56 are gradually turned on depending on when the P channel transistors TP24 and TP25 connecting between the divided gates are turned on.At this time, the N channel transistor TN24 is turned on.
, TN25 are in an off state because the "0" level of the gate input node 40 is applied. Next, contrary to the above,
When the signal input node 40 is raised from the GND potential to the VDD potential, the N-channel transistor of the CMOS inverter IVIO is turned on, and the potential of the node 41 begins to fall from VDD. In the N-channel transistor TNO1 of the output buffer, the transistor TN24
, TN25 are given the "1" level at the input point 40, so when these transistors are turned on, the N-channel transistors 751 to T56 are quickly turned off. Thereafter, in the P-channel transistor TPOI of the output buffer, the N-channel transistors TN21-TN23 connecting the divided gates are turned on, so that the transistors T41-748 are gradually turned on. At this time, P channel transistor TP2
1 to TP2B are in an off state because the "1" level of the input node 40 is applied to their gates.
上記の第2図〜第4図における実施例においては、抵抗
素子として用いているトランジスタのgmを変化させて
やる事により、トランジスタのオン抵抗値を自由に設定
可能である。そして実施例にも示すように抵抗素子とし
て用いる各トランジスタのgmを所定の値に設定する事
よって出力バッファスイッチング時にオフ側のトランジ
スタゲートの充放電(スイッチング)を速く、オン側の
トランジスタゲートの充放電を遅くしてやる事により、
スイッチング時にVDD−出力バッファPチヤネルトラ
ンジスタTPOI−出力バッファNチャネルトランジス
タTNO1−GND間に流れる貫通電流を減少させてい
る。In the embodiments shown in FIGS. 2 to 4 above, the on-resistance value of the transistor can be freely set by changing the gm of the transistor used as a resistance element. As shown in the example, by setting the gm of each transistor used as a resistance element to a predetermined value, charging and discharging (switching) of the off-side transistor gate can be made faster during output buffer switching, and charging and discharging (switching) of the on-side transistor gate can be made faster. By slowing down the discharge,
The through current flowing between VDD, output buffer P channel transistor TPOI, output buffer N channel transistor TNO1 and GND during switching is reduced.
第5図は第2図の変形例で、プリバッファ部をNチャネ
ルトランジスタTI、PチャネルトランジスタT2で構
成している。これらトランジスタはゲート入力INで制
御され、トランジスタT1がオンのときPチャネル出力
バッファTPO1が制御され、トランジスタT2がオン
のときNチャネル出力バッファTNOIが制御される。FIG. 5 shows a modification of FIG. 2, in which the pre-buffer section is composed of an N-channel transistor TI and a P-channel transistor T2. These transistors are controlled by the gate input IN; when transistor T1 is on, the P-channel output buffer TPO1 is controlled, and when the transistor T2 is on, the N-channel output buffer TNOI is controlled.
第6図も第2図の変形例で、ゲートと61〜G3のプリ
バッファ部とし、本山力バッファ回路をトライステート
回路としている。即ち入力IN、ENの組み合わせによ
り、出力バッファトランジスタTP01、TNolを、
オンとオフの動作関係以外に、ゲートG2、G3の出力
によりTPOI、TNOIを同時に、オフの動作即ち出
力42をハイ・インピーダンス状態とすることができる
ようにしである。FIG. 6 is also a modification of FIG. 2, in which the gate and pre-buffer sections 61 to G3 are used, and the Riki Motoyama buffer circuit is a tri-state circuit. That is, depending on the combination of inputs IN and EN, the output buffer transistors TP01 and TNol are
In addition to the on-off operation relationship, the outputs of the gates G2 and G3 enable the TPOI and TNOI to be turned off at the same time, that is, the output 42 can be placed in a high impedance state.
また第7図及び第8図は本発明の片方チャネルの出力バ
ッファとしての実施例で、第7図はPチャネルトランジ
スタで第8図はNチャネルトランジスタにより出力バッ
ファを構成したものである。7 and 8 show an embodiment of the present invention as a one-channel output buffer, in which the output buffer is configured by a P-channel transistor in FIG. 7 and an N-channel transistor in FIG. 8.
即ち、第7図においては、分割ゲートの接続用トランジ
スタTN11〜TN13、TPII〜TP13、第8図
においてはTM14、TM01、TP14、TP15の
うち、オンさせる方のトランジスタのgmは小として徐
々にオンさせるようにし、オフさせる方のトランジスタ
のgmは大として早くオフさせるようにして貫通電流(
トランジスタTPOIまたはTNOIを介した電源間電
流)を小とし、前実施例と同様の効果を得ることができ
る。That is, in FIG. 7, among the transistors TN11 to TN13 and TPII to TP13 for connecting the divided gates, and in FIG. The through current (
The current between the power supplies via the transistor TPOI or TNOI can be made small, and the same effects as in the previous embodiment can be obtained.
尚、本発明はこれらに実施例示された回路に限定される
ものではなく他にもいろいろな変形実施が可能である。It should be noted that the present invention is not limited to the circuits illustrated in these embodiments, and various other modifications are possible.
[発明の効果]
以上のように本発明によれば、出力バッファのトランジ
スタゲートを分割しそのゲート間を抵抗素子で接続する
事によりトランジスタのオンを徐々に行う事ができるの
で出力線に接続された負荷容量の充放電を緩やかに行う
ことができる。又、前記抵抗素子を所定のサイズに設定
されたトランジスタで構成する事により、出力バッファ
スイッチング時に発生する貫通電流を減少させる事がで
きる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by dividing the transistor gate of the output buffer and connecting the gates with a resistor element, the transistor can be turned on gradually. The load capacity can be charged and discharged slowly. Furthermore, by configuring the resistance element with a transistor set to a predetermined size, it is possible to reduce the through current generated during output buffer switching.
このように、本発明によれば半導体デバイスの高速化に
伴い従来の出力バッファにおいて出力バッファスイッチ
ング時に発生していたオーバーシュート、アンダーシュ
ート現象を抑制し、出力バッファスイッチング時におけ
るVDD−GND間の貫通電流を防ぐことができるので
電源を共用する他素子の誤動作やラッチアップ現象を防
ぐ事ができる。又、本発明によればトータルとしての出
力バッファサイズが従来と変わらない為従来と比較して
も同等の出力電流特性を得る事ができる。As described above, according to the present invention, as the speed of semiconductor devices increases, overshoot and undershoot phenomena that occur in conventional output buffers during output buffer switching can be suppressed, and the penetration between VDD and GND during output buffer switching can be suppressed. Since current can be prevented, malfunctions and latch-up phenomena of other elements sharing the power source can be prevented. Further, according to the present invention, since the total output buffer size remains the same as in the conventional case, it is possible to obtain output current characteristics equivalent to those in the conventional case.
またゲート電極の低抵抗化が図られても、分割ゲートに
別途抵抗素子を接続するので、問題は生じないし、信号
遅延時間の正確化もはかれる。Further, even if the resistance of the gate electrode is reduced, no problem will occur because a resistive element is separately connected to the divided gate, and the signal delay time can be made more accurate.
第1図ないし第8図は本発明の各実施例の回路図、第9
図は従来の出力バッファ回路図、第10図はその入出力
特性図、第11図及び第12図は第9図を更に具体化し
て示す回路図である。
TPOI・・・出力バッファのPチャネルトランジスタ
、TNOl・・・出力バッファのNチャネルトランジス
タ、PGII〜PG14・・・Pチャネル側分割ゲート
、NGII〜N013・・・Nチャネル併1分割ゲート
、S・・・ソース、D・・・ドレイン、DFO1〜DF
O3、DFll、DF12・・・抵抗素子、TN11〜
TN15、TP11〜TP15・・・抵抗素子用トラン
ジスタ、IVIO・・・CMOSインバータ。
第1図1 to 8 are circuit diagrams of each embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a circuit diagram of each embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram of a conventional output buffer circuit, FIG. 10 is an input/output characteristic diagram thereof, and FIGS. 11 and 12 are circuit diagrams that further embody FIG. 9. TPOI: P-channel transistor of output buffer, TNOl: N-channel transistor of output buffer, PGII-PG14: P-channel side division gate, NGII-N013: N-channel and 1-channel division gate, S...・Source, D...Drain, DFO1~DF
O3, DFll, DF12...resistance element, TN11~
TN15, TP11 to TP15...transistor for resistance element, IVIO...CMOS inverter. Figure 1
Claims (8)
スタ及びNチャネルMOSトランジスタの各ゲートが複
数個に分割されており、その分割されたPチャネルMO
Sトランジスタのゲート間を第1の抵抗素子で接続し、
かつNチャネルMOSトランジスタのゲート間を第2の
抵抗素子で接続した事を特徴とする出力バッファ回路。(1) Each gate of a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor whose outputs are commonly connected is divided into multiple parts, and the divided P-channel MOS
Connecting the gates of the S transistors with a first resistance element,
An output buffer circuit characterized in that the gates of the N-channel MOS transistors are connected by a second resistance element.
る事を特徴とする請求項1に記載の出力バッファ回路。(2) The output buffer circuit according to claim 1, wherein diffusion layers are used as the first and second resistance elements.
ンジスタにより構成された第1、第2の遅延回路を用い
た事を特徴とする請求項1に記載の出力バッファ回路。(3) The output buffer circuit according to claim 1, wherein first and second delay circuits constituted by MOS transistors are used as the first and second resistance elements.
に、入力側及び出力側がそれぞれ共通接続されゲートに
低レベル電位が与えられたPチャネルMOSトランジス
タ及びゲートに高レベル電位が与えられたNチャネルM
OSトランジスタを用い、第1の遅延回路のPチャネル
MOSトランジスタのgmが第2の遅延回路のPチャネ
ルMOSトランジスタのgmより大きく、第2の遅延回
路のNチャネルMOSトランジスタのgmが第1の遅延
回路のNチャネルMOSトランジスタのgmより大きい
事を特徴とする請求項3に記載の出力バッファ回路。(4) The first and second delay circuits used as the resistance elements are P-channel MOS transistors whose input sides and output sides are respectively commonly connected and whose gates are given a low-level potential, and whose gates are given a high-level potential. N channel M
OS transistors are used, the gm of the P-channel MOS transistor of the first delay circuit is larger than the gm of the P-channel MOS transistor of the second delay circuit, and the gm of the N-channel MOS transistor of the second delay circuit is larger than the first delay. 4. The output buffer circuit according to claim 3, wherein the gm is larger than the gm of an N-channel MOS transistor in the circuit.
に、入力側及び出力側が共通接続されたPチャネルMO
Sトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタを用
い、第1の遅延回路のPチャネルMOSトランジスタの
ゲートには、出力バッファの入力信号と反転の入力が与
えられ、NチャネルMOSトランジスタのゲートには高
レベル電位が与えられており、第2の遅延回路のPチャ
ネルMOSトランジスタのゲートには低レ ベル電位が
与えられ、NチャネルMOSトランジスタのゲートには
出力バッファの入力信号と反転の入力が与えられており
、第1の遅延回路のPチャネルMOSトランジスタのg
mが第2の遅延回路のPチャネルMOSトランジスタの
gmより大きく、第2の遅延回路のNチャネルMOSト
ランジスタのgmが第1の遅延回路のNチャネルMOS
トランジスタのgmより大きい事を特徴とする請求項3
に記載の出力バッファ回路。(5) A P-channel MO whose input side and output side are commonly connected to the first and second delay circuits used as the resistance elements.
Using an S transistor and an N channel MOS transistor, the gate of the P channel MOS transistor of the first delay circuit is given an input signal of the output buffer and an inverted input, and a high level potential is applied to the gate of the N channel MOS transistor. A low level potential is applied to the gate of the P-channel MOS transistor of the second delay circuit, and an input signal and an inverted input of the output buffer are applied to the gate of the N-channel MOS transistor. g of the P-channel MOS transistor of the first delay circuit
m is larger than gm of the P-channel MOS transistor of the second delay circuit, and gm of the N-channel MOS transistor of the second delay circuit is larger than the gm of the N-channel MOS transistor of the first delay circuit.
Claim 3 characterized in that it is larger than the gm of the transistor.
The output buffer circuit described in .
ートに高レベル電位が与えられたNチャネルMOSトラ
ンジスタを用い、第2の遅延回路にはゲートに低レベル
電位が与えられたPチャネルMOSトランジスタを用い
、出力バッファのPチャネルMOSトランジスタの分割
されたゲート各々に、ソース側に出力バッファの入力が
接続されゲートに出力バッファの入力と反転の信号が与
えられた第2の遅延回路のPチャネルMOSトランジス
タよりgmが大きいPチャネルMOSトランジスタのド
レイン側を接続し、出力バッファのNチャネルMOSト
ランジスタの分割されたゲート各々に、ソース側に出力
バッファの入力が接続されゲートに出力バッファの入力
と反転の信号が与えられた第1の遅延回路のNチャネル
MOSトランジスタよりgmが大きいNチャネルMOS
トランジスタのドレイン側を接続する事を特徴とする請
求項3に記載の出力バッファ回路。(6) The first delay circuit used as the resistance element is an N-channel MOS transistor whose gate is given a high-level potential, and the second delay circuit is a P-channel MOS transistor whose gate is given a low-level potential. A second delay circuit using a transistor, the input of the output buffer is connected to the source side of each divided gate of the P-channel MOS transistor of the output buffer, and the input of the output buffer and an inverted signal are applied to the gate. The drain side of a P-channel MOS transistor whose gm is larger than that of the channel MOS transistor is connected, and the input of the output buffer is connected to the source side of each divided gate of the N-channel MOS transistor of the output buffer, and the input of the output buffer is connected to the gate. An N-channel MOS whose gm is larger than that of the N-channel MOS transistor of the first delay circuit to which an inverted signal is applied.
4. The output buffer circuit according to claim 3, wherein the drain side of the transistor is connected.
れた出力バッファのNチャネル側回路を除去し、分割さ
れたゲートを持つトランジスタをPチャネル側出力バッ
ファだけで構成する事を特徴とする請求項1ないし6の
いずれか1つの項に記載の出力バッファ回路。(7) A claim characterized in that the N-channel side circuit of the output buffer connected between the divided gates by a resistor element is removed, and the transistor having the divided gate is configured only with the P-channel side output buffer. The output buffer circuit according to any one of items 1 to 6.
れた出力バッファのPチャネル側回路を除去し、分割さ
れたゲートを持つトランジスタをNチャネル側出力バッ
ファだけで構成する事を特徴とする請求項1ないし6の
いずれか1つの項に記載の出力バッファ回路。(8) A claim characterized in that the P-channel side circuit of the output buffer connected between the divided gates by a resistive element is removed, and the transistor having the divided gate is configured only with the N-channel side output buffer. The output buffer circuit according to any one of items 1 to 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1271544A JP2714184B2 (en) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | Output buffer circuit |
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| JP1271544A JP2714184B2 (en) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | Output buffer circuit |
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| JP2714184B2 JP2714184B2 (en) | 1998-02-16 |
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ID=17501546
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| JP1271544A Expired - Lifetime JP2714184B2 (en) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | Output buffer circuit |
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1989
- 1989-10-20 JP JP1271544A patent/JP2714184B2/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JP2714184B2 (en) | 1998-02-16 |
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