JPH0313686B2 - - Google Patents
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- JPH0313686B2 JPH0313686B2 JP56079590A JP7959081A JPH0313686B2 JP H0313686 B2 JPH0313686 B2 JP H0313686B2 JP 56079590 A JP56079590 A JP 56079590A JP 7959081 A JP7959081 A JP 7959081A JP H0313686 B2 JPH0313686 B2 JP H0313686B2
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- composite
- plating
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はNb3Sn系の極細多芯超電導線を製造
する方法に関するものである。
する方法に関するものである。
金属間化合物系の超電導材料としては、Nb3Sn
のほか、Nb3Ga,Nb3Ge,Nb3Al,V3Ga等が知
られている。この種の金属間化合物系超電導材料
は一般的に超電導特性の点からは合金系超電導材
料よりも優れているが、その反面加工性、特に展
性や延性が低い問題があり、そのため超電導金属
間化合物の棒材等を加工することは困難であるか
ら、未だ金属間化合物となつていない複合状態で
加工を加え、その加工後に拡散熱処理を加えて金
属間化合物を生成させるのが通常である。
のほか、Nb3Ga,Nb3Ge,Nb3Al,V3Ga等が知
られている。この種の金属間化合物系超電導材料
は一般的に超電導特性の点からは合金系超電導材
料よりも優れているが、その反面加工性、特に展
性や延性が低い問題があり、そのため超電導金属
間化合物の棒材等を加工することは困難であるか
ら、未だ金属間化合物となつていない複合状態で
加工を加え、その加工後に拡散熱処理を加えて金
属間化合物を生成させるのが通常である。
ところで従来の金属間化合物系の極細多芯超電
導線の製造方法について、代表的なNb3Sn系の極
細多芯超電導線の場合を例にとつて説明すると、
従来の方法はブロンズ法とSnメツキ法とに大別
される。前者のブロンズ法は、第1図に示すよう
に、望ましくは10〜15wt%程度のSn濃度を有す
るCu−Sn合金(ブロンズ)の基地1中に多数の
Nbフイラメント2を配して所定の線径の極細多
芯複合線を作り、その後拡散熱処理を施してCu
−Sn合金基地1中のSnを拡散させて多数の
Nb3Snフイラメントを有する極細多芯Nb3Sn系超
電導線を得る方法であり、また後者のSnメツキ
法は第2図に示すように純Cuの基地3中に多数
のNbフイラメント2を配して所定の線径とした
後、Cu基地の外周上にSnメツキ4を施し、その
後拡散熱処理を施して外側のSnメツキ層4から
Cu基地3を介してSnを拡散させて前記同様な極
細多芯Nb3Sn超電導線を製造する方法である。し
かしながら従来のこれらの方法はそれぞれ一長一
短があり、いずれも満足すべきものでないのが実
情である。
導線の製造方法について、代表的なNb3Sn系の極
細多芯超電導線の場合を例にとつて説明すると、
従来の方法はブロンズ法とSnメツキ法とに大別
される。前者のブロンズ法は、第1図に示すよう
に、望ましくは10〜15wt%程度のSn濃度を有す
るCu−Sn合金(ブロンズ)の基地1中に多数の
Nbフイラメント2を配して所定の線径の極細多
芯複合線を作り、その後拡散熱処理を施してCu
−Sn合金基地1中のSnを拡散させて多数の
Nb3Snフイラメントを有する極細多芯Nb3Sn系超
電導線を得る方法であり、また後者のSnメツキ
法は第2図に示すように純Cuの基地3中に多数
のNbフイラメント2を配して所定の線径とした
後、Cu基地の外周上にSnメツキ4を施し、その
後拡散熱処理を施して外側のSnメツキ層4から
Cu基地3を介してSnを拡散させて前記同様な極
細多芯Nb3Sn超電導線を製造する方法である。し
かしながら従来のこれらの方法はそれぞれ一長一
短があり、いずれも満足すべきものでないのが実
情である。
すなわち、前者のブロンズ法にあつては比較的
簡単な熱処理でNb3Snを生成させることができ、
しかもSnメツキ処理を必要としない等の長所を
有するが、その反面、縮径加工における加工性に
劣る重大な問題がある。すなわちブロンズ法にお
いては充分な量のNb3Snを生成させるためには
Sn濃度が10〜15%程度と相当に高いCu−Sn合金
を基地として用いる必要があるが、このような
Sn濃度が高いCu−Sn合金では加工硬化がきわめ
て生じ易く、そのため中間焼鈍を頻繁に行なわな
ければならず、特に極細多芯超電導線の製造にお
いては1本のNb芯材の径が数μm程度のフイラメ
ントとなるまで縮径加工を行なわなければならな
いため焼鈍回数が著しく多くなり、そのため作業
工数が著しく多くなつて生産性が著しく低下する
問題がある。これに対し後者のSnメツキ法にあ
つては、基地として加工性が良好な純銅を用いて
いるため縮径加工における焼鈍回数はブロンズ法
と比較して著しく少なくすることが可能である
が、その反面、充分な量のNb3Snを生成させるた
めには相当に厚いSnメツキ層を必要とし、この
ような厚いメツキ層を生成させるためにはメツキ
に相当な長時間を要し、しかもメツキ厚みの制御
が困難となる問題があり、またこの方法では
Nb3Snを生成させるためのSnがNbフイラメント
から相当に離れていて、長い拡散距離を必要とす
るため、Nb3Snの生成効率を高めるためには拡散
熱処理に長時間を要し、しかもその熱処理条件も
種々の工夫をする必要があるほか、熱処理時に外
周上のSnが溶け落ちたり、下側に廻り込んだり
する不都合が生じる。このようなSnメツキ法の
欠点は特に太径の極細多芯Nb3Sn系超電導線を製
造する場合に顕著となる。すなわち線径が太くな
ればそれに伴つて多量のSnを必要とするように
なるためSnメツキ層の厚みを著しく厚くする必
要が生じ、また中心部のNbフイラメントとSnメ
ツキ層との間の距離が大きくなつてSnの拡散移
動すべき距離が長くなり、そのため多量のSnを
長い距離拡散移動させて充分な量のNb3Snを生成
させるためには、通常の拡散熱処理の前に予備熱
処理を必要とし、しかもその予備熱処理を数段階
に行なわなければならない等の不都合が生じる。
そしてまたこのような予備熱処理の間にはSnリ
ツチな脆いCu−Sn系金属間化合物が生成されて
しまつて、特性を低下させるおそれもある。さら
にSnメツキ法の最大の欠点は、後に詳細に説明
するように、最外周に安定化のための純銅を配し
てその内側に拡散障壁(バリヤ)を設ける所謂安
定化銅付きの超電導線の製造に適用できないこと
である。
簡単な熱処理でNb3Snを生成させることができ、
しかもSnメツキ処理を必要としない等の長所を
有するが、その反面、縮径加工における加工性に
劣る重大な問題がある。すなわちブロンズ法にお
いては充分な量のNb3Snを生成させるためには
Sn濃度が10〜15%程度と相当に高いCu−Sn合金
を基地として用いる必要があるが、このような
Sn濃度が高いCu−Sn合金では加工硬化がきわめ
て生じ易く、そのため中間焼鈍を頻繁に行なわな
ければならず、特に極細多芯超電導線の製造にお
いては1本のNb芯材の径が数μm程度のフイラメ
ントとなるまで縮径加工を行なわなければならな
いため焼鈍回数が著しく多くなり、そのため作業
工数が著しく多くなつて生産性が著しく低下する
問題がある。これに対し後者のSnメツキ法にあ
つては、基地として加工性が良好な純銅を用いて
いるため縮径加工における焼鈍回数はブロンズ法
と比較して著しく少なくすることが可能である
が、その反面、充分な量のNb3Snを生成させるた
めには相当に厚いSnメツキ層を必要とし、この
ような厚いメツキ層を生成させるためにはメツキ
に相当な長時間を要し、しかもメツキ厚みの制御
が困難となる問題があり、またこの方法では
Nb3Snを生成させるためのSnがNbフイラメント
から相当に離れていて、長い拡散距離を必要とす
るため、Nb3Snの生成効率を高めるためには拡散
熱処理に長時間を要し、しかもその熱処理条件も
種々の工夫をする必要があるほか、熱処理時に外
周上のSnが溶け落ちたり、下側に廻り込んだり
する不都合が生じる。このようなSnメツキ法の
欠点は特に太径の極細多芯Nb3Sn系超電導線を製
造する場合に顕著となる。すなわち線径が太くな
ればそれに伴つて多量のSnを必要とするように
なるためSnメツキ層の厚みを著しく厚くする必
要が生じ、また中心部のNbフイラメントとSnメ
ツキ層との間の距離が大きくなつてSnの拡散移
動すべき距離が長くなり、そのため多量のSnを
長い距離拡散移動させて充分な量のNb3Snを生成
させるためには、通常の拡散熱処理の前に予備熱
処理を必要とし、しかもその予備熱処理を数段階
に行なわなければならない等の不都合が生じる。
そしてまたこのような予備熱処理の間にはSnリ
ツチな脆いCu−Sn系金属間化合物が生成されて
しまつて、特性を低下させるおそれもある。さら
にSnメツキ法の最大の欠点は、後に詳細に説明
するように、最外周に安定化のための純銅を配し
てその内側に拡散障壁(バリヤ)を設ける所謂安
定化銅付きの超電導線の製造に適用できないこと
である。
上述のような問題を解決するため、本発明者等
は既にブロンズ法とSnメツキ法を組合せた改良
方法を提案している。その改良方法の第1は、前
述のSnメツキ法における純銅基地1(第2図参
照)の代りに10wt%未満の低Sn濃度のCu−Sn合
金基地を用い、その低Sn濃度のCu−Sn合金基地
中に多数のNbフイラメントを配し、所定の線径
まで縮径した後、その外周面にSnメツキを施す
方法である。また第2の改良方法は、第3図に示
すようにCu−Sn合金基地5中に多数のNbフイラ
メント2を配すと共に前記Cu−Sn合金基地5の
周囲に純銅6を配して、所定の線径まで縮径した
後、その外周面にSnメツキ4を施し、その後前
記同様に拡散熱処理を施す方法である。さらに第
3の改良方法は、第4図に示すように従来のブロ
ンズ法と同程度の高Sn濃度のCu−Sn合金基地7
中に多数のNbフイラメント2を配してその高Sn
濃度Cu−Sn合金基地7の周囲に低Sn濃度のCu−
Sn合金基地8を配し、所定の線径まで縮径した
後、その外周面に薄いSnメツキ4を施し、その
後前記同様に拡散熱処理を施す方法である。
は既にブロンズ法とSnメツキ法を組合せた改良
方法を提案している。その改良方法の第1は、前
述のSnメツキ法における純銅基地1(第2図参
照)の代りに10wt%未満の低Sn濃度のCu−Sn合
金基地を用い、その低Sn濃度のCu−Sn合金基地
中に多数のNbフイラメントを配し、所定の線径
まで縮径した後、その外周面にSnメツキを施す
方法である。また第2の改良方法は、第3図に示
すようにCu−Sn合金基地5中に多数のNbフイラ
メント2を配すと共に前記Cu−Sn合金基地5の
周囲に純銅6を配して、所定の線径まで縮径した
後、その外周面にSnメツキ4を施し、その後前
記同様に拡散熱処理を施す方法である。さらに第
3の改良方法は、第4図に示すように従来のブロ
ンズ法と同程度の高Sn濃度のCu−Sn合金基地7
中に多数のNbフイラメント2を配してその高Sn
濃度Cu−Sn合金基地7の周囲に低Sn濃度のCu−
Sn合金基地8を配し、所定の線径まで縮径した
後、その外周面に薄いSnメツキ4を施し、その
後前記同様に拡散熱処理を施す方法である。
これらの改良方法は、前記ブロンズ法と比較す
れば相対的に縮径加工が容易で縮径加工中の焼鈍
回数が比較的少なくて済み、また前記Snメツキ
法と比較すればSnメツキ工程およびNb3Snの生
成のための熱処理工程が比較的簡単となるが、い
ずれも未だ充分に満足できる程度には至つていな
い。すなわち前記第1の改良方法では基地として
加工性が比較的良好な低Sn濃度のCu−Sn合金を
用い、また第2の改良方法では望ましくは低Sn
濃度のCu−Sn合金基地の外側に加工性が良好な
Cuを被せているため、いずれも前記ブロンズ法
の場合よりは加工性が良好となつて焼鈍回数が少
なくて済むが、ある程度の厚みのSnメツキ層を
形成する必要があり、その場合太径となれば外側
のSnメツキ層中のSnを充分に拡散させるために
はブロンズ法の場合よりも充分な熱処理を行う必
要がある。また第3の改良方法では加工性が劣る
高Sn濃度のCu−Sn合金基地の上に比較的加工性
が良好な低Sn濃度のCu−Sn合金を被せてはいる
が、従来の単なるブロンズ法の場合と比較してわ
ずかしか加工性は良好とならず、したがつて焼鈍
回数もさほど減少しない。
れば相対的に縮径加工が容易で縮径加工中の焼鈍
回数が比較的少なくて済み、また前記Snメツキ
法と比較すればSnメツキ工程およびNb3Snの生
成のための熱処理工程が比較的簡単となるが、い
ずれも未だ充分に満足できる程度には至つていな
い。すなわち前記第1の改良方法では基地として
加工性が比較的良好な低Sn濃度のCu−Sn合金を
用い、また第2の改良方法では望ましくは低Sn
濃度のCu−Sn合金基地の外側に加工性が良好な
Cuを被せているため、いずれも前記ブロンズ法
の場合よりは加工性が良好となつて焼鈍回数が少
なくて済むが、ある程度の厚みのSnメツキ層を
形成する必要があり、その場合太径となれば外側
のSnメツキ層中のSnを充分に拡散させるために
はブロンズ法の場合よりも充分な熱処理を行う必
要がある。また第3の改良方法では加工性が劣る
高Sn濃度のCu−Sn合金基地の上に比較的加工性
が良好な低Sn濃度のCu−Sn合金を被せてはいる
が、従来の単なるブロンズ法の場合と比較してわ
ずかしか加工性は良好とならず、したがつて焼鈍
回数もさほど減少しない。
さらに、前記Snメツキ法、および第1〜第3
の改良方法に共通する欠点として、いずれも所定
の線径まで縮径した後にSnメツキを施して拡散
熱処理を行う関係上、拡散バリヤを伴う安定化銅
付きの極細多芯超電導線の製造には適用できない
問題がある。すなわち、ブロンズ法の場合、従来
から第5図に示すように多数のNbフイラメント
2を配したCu−Sn合金基地1の外側にTaもしく
はNbからなる拡散バリヤ層9を形成し、さらに
その拡散バリヤ層9の外側に無酸素銅からなる安
定化銅層10を形成して、所望の線径まで縮径し
た後拡散熱処理を施すことによつて、安定化のた
めの高純度のCu層を備えた極細多芯超電導線を
製造する方法が知られており、この方法では拡散
バリヤ層の存在によつてSnが外側のCu層に拡散
されないため、そのCu層の純度を高く保つて、
安定化に充分な役割を果たすことができる。しか
しながらSnメツキ法や前記改良法を用いて上述
のような拡散バリヤを伴う安定化銅付きの極細多
芯超電導線を製造しようとしても、拡散バリヤが
存在するため外部からSnを拡散させることは不
可能であり、またバリヤの外側に配した安定化の
ための無酸素銅を汚すことになり、したがつてこ
の型式の極細多芯超電導線の製造はブロンズ法に
限られるのが実情である。また前記各改良方法に
おいては、Snメツキ法の場合と同様に、拡散熱
処理時やその予備処理時等においてSnメツキ層
からSnが溶け落ち、充分な量のNb3Snを生成で
きなくなることもあつた。
の改良方法に共通する欠点として、いずれも所定
の線径まで縮径した後にSnメツキを施して拡散
熱処理を行う関係上、拡散バリヤを伴う安定化銅
付きの極細多芯超電導線の製造には適用できない
問題がある。すなわち、ブロンズ法の場合、従来
から第5図に示すように多数のNbフイラメント
2を配したCu−Sn合金基地1の外側にTaもしく
はNbからなる拡散バリヤ層9を形成し、さらに
その拡散バリヤ層9の外側に無酸素銅からなる安
定化銅層10を形成して、所望の線径まで縮径し
た後拡散熱処理を施すことによつて、安定化のた
めの高純度のCu層を備えた極細多芯超電導線を
製造する方法が知られており、この方法では拡散
バリヤ層の存在によつてSnが外側のCu層に拡散
されないため、そのCu層の純度を高く保つて、
安定化に充分な役割を果たすことができる。しか
しながらSnメツキ法や前記改良法を用いて上述
のような拡散バリヤを伴う安定化銅付きの極細多
芯超電導線を製造しようとしても、拡散バリヤが
存在するため外部からSnを拡散させることは不
可能であり、またバリヤの外側に配した安定化の
ための無酸素銅を汚すことになり、したがつてこ
の型式の極細多芯超電導線の製造はブロンズ法に
限られるのが実情である。また前記各改良方法に
おいては、Snメツキ法の場合と同様に、拡散熱
処理時やその予備処理時等においてSnメツキ層
からSnが溶け落ち、充分な量のNb3Snを生成で
きなくなることもあつた。
この発明は以上の事情に鑑みてなされたもの
で、縮径加工時の加工性を良好にして焼鈍回数を
少なくし、しかも拡散熱処理を簡単に行ない得る
ようにし、特に太線径の極細多芯超電導線の製造
に有利とするとともに拡散バリヤを伴う安定化銅
付きのNb3Sn系の超電導線の製造に適した方法を
提供することを目的とするものである。
で、縮径加工時の加工性を良好にして焼鈍回数を
少なくし、しかも拡散熱処理を簡単に行ない得る
ようにし、特に太線径の極細多芯超電導線の製造
に有利とするとともに拡散バリヤを伴う安定化銅
付きのNb3Sn系の超電導線の製造に適した方法を
提供することを目的とするものである。
すなわち従来のSnメツキ法や前記各改良法に
おいては、特に芯線数の多い極細多芯超電導線を
製造する場合、前述のように複合素線の集合と縮
径(伸線加工)を複数回繰返し、所望の線径、芯
線数とした数、最外周側にSnメツキを施してい
たのに対し、この発明の方法では例えばNb3Sn系
の超電導線を製造する場合最終的な芯線数まで集
合されていない素線段階でSnメツキを施し、最
終的に集合された段階ではその外側にはSnメツ
キを施さないようにしたものである。
おいては、特に芯線数の多い極細多芯超電導線を
製造する場合、前述のように複合素線の集合と縮
径(伸線加工)を複数回繰返し、所望の線径、芯
線数とした数、最外周側にSnメツキを施してい
たのに対し、この発明の方法では例えばNb3Sn系
の超電導線を製造する場合最終的な芯線数まで集
合されていない素線段階でSnメツキを施し、最
終的に集合された段階ではその外側にはSnメツ
キを施さないようにしたものである。
すなわちこの発明の化合物系極細多芯超電導線
の製造方法は、超電導金属間化合物を構成する2
種以上の金属元素Nb,Snの内、Nbからなる一
本以上の芯材を、Snを含有する銅合金もしくは
実質的に銅からなる基地中に配して複合素線を作
り、その複合素線の表面にSnをメツキしてメツ
キ複合線を作り、さらにそのメツキ複合線を複数
本集合し、その集合線の外側にCu層もしくはCu
−Sn合金層を形成するとともにその層の外側に
Snの外側への拡散を防止するための拡散バリヤ
層を形成し、かつその拡散バリヤ層の外周面に安
定化のための純銅層を形成し、所定の線径まで縮
径した後、拡散熱処理を施して超電導金属間化合
物である。Nb3Sn系の極細多芯超電導線を得るも
のである。
の製造方法は、超電導金属間化合物を構成する2
種以上の金属元素Nb,Snの内、Nbからなる一
本以上の芯材を、Snを含有する銅合金もしくは
実質的に銅からなる基地中に配して複合素線を作
り、その複合素線の表面にSnをメツキしてメツ
キ複合線を作り、さらにそのメツキ複合線を複数
本集合し、その集合線の外側にCu層もしくはCu
−Sn合金層を形成するとともにその層の外側に
Snの外側への拡散を防止するための拡散バリヤ
層を形成し、かつその拡散バリヤ層の外周面に安
定化のための純銅層を形成し、所定の線径まで縮
径した後、拡散熱処理を施して超電導金属間化合
物である。Nb3Sn系の極細多芯超電導線を得るも
のである。
以下にこの発明の方法を具体的に説明する。
先ず第6図Aに示すように棒状、線状材、もし
くは粉末状のNb芯材2をCu−Sn合金もしくは
Cu製の中空パイプ11Aに挿入し、必要に応じ
てスエージング加工、伸線・引抜加工等の縮径加
工を施して、第6図Bに示すようにCu−Sn合金
もしくはCuの基地11にNb芯材2が埋込まれた
複合素線12を作成する。あるいはまた第7図A
に示すようにCu−Sn合金またはCuからなる棒材
11Bに複数の穴13を形成してその各穴13に
棒状、線材状もしくは粉未状のNb芯材2を挿入
し、押出加工、スエージング加工、引抜・伸線加
工等の縮径加工を行つて第7図Bに示すように
Cu−Sn合金もしくはCuの基地11に複数のNb
芯材2が埋込まれた複合素線12′を作成する。
次いで第6図Cもしくは第7図Cに示すように複
合素線12,12′の外側、すなわちCu−Sn合金
もしくはCuからなる基地11の外表面に電気メ
ツキ等により必要な厚みのSnメツキ層13を形
成し、メツキ複合線14を得る。次いでそのメツ
キ複合線14を第6図Dもしくは第7図Dに示す
ように複数本集合してCu−Sn合金もしくはCuか
らなるパイプ11Cに挿入するとともにさらにそ
れを拡散バリヤ層となるべきNbもしくはTaから
なるパイプ16に挿入し、かつその全体を安定化
銅層となるべき無酸素銅パイプ17に挿入し、そ
の後スエージング加工、伸線・引抜加工等の縮径
加工を施して、所望の線径すなわち最終的に得る
べき超電導線の径となるまで縮径し、第6図Eも
しくは第7図Eに示すような極細多芯複合線15
を得る。この極細多芯複合線15は、第8図もし
くは第9図に拡大して示すように、Cu−Sn合金
もしくはCuからなる基地11中に極めて細い多
数のNb芯材(Nbフイラメント)2が間隔を置い
て埋設され、しかも基地11の内部にSnメツキ
層13が網目状に配され、さらにその全体の外側
にはCuもしくはCu−Sn合金からなる層11
C′が、またその層11C′の外側には拡散バリヤ層
16′および安定化銅層17′がそれぞれ形成され
たものとなつている。このようにして極細多芯複
合線15を得た後には、拡散熱処理を施すことに
よつて、基地11の内部のSnメツキ層13から
Snが拡散されて、Nbフイラメント2の周囲に
Nb3Snが生成され、極細多芯超電導線となる。
くは粉末状のNb芯材2をCu−Sn合金もしくは
Cu製の中空パイプ11Aに挿入し、必要に応じ
てスエージング加工、伸線・引抜加工等の縮径加
工を施して、第6図Bに示すようにCu−Sn合金
もしくはCuの基地11にNb芯材2が埋込まれた
複合素線12を作成する。あるいはまた第7図A
に示すようにCu−Sn合金またはCuからなる棒材
11Bに複数の穴13を形成してその各穴13に
棒状、線材状もしくは粉未状のNb芯材2を挿入
し、押出加工、スエージング加工、引抜・伸線加
工等の縮径加工を行つて第7図Bに示すように
Cu−Sn合金もしくはCuの基地11に複数のNb
芯材2が埋込まれた複合素線12′を作成する。
次いで第6図Cもしくは第7図Cに示すように複
合素線12,12′の外側、すなわちCu−Sn合金
もしくはCuからなる基地11の外表面に電気メ
ツキ等により必要な厚みのSnメツキ層13を形
成し、メツキ複合線14を得る。次いでそのメツ
キ複合線14を第6図Dもしくは第7図Dに示す
ように複数本集合してCu−Sn合金もしくはCuか
らなるパイプ11Cに挿入するとともにさらにそ
れを拡散バリヤ層となるべきNbもしくはTaから
なるパイプ16に挿入し、かつその全体を安定化
銅層となるべき無酸素銅パイプ17に挿入し、そ
の後スエージング加工、伸線・引抜加工等の縮径
加工を施して、所望の線径すなわち最終的に得る
べき超電導線の径となるまで縮径し、第6図Eも
しくは第7図Eに示すような極細多芯複合線15
を得る。この極細多芯複合線15は、第8図もし
くは第9図に拡大して示すように、Cu−Sn合金
もしくはCuからなる基地11中に極めて細い多
数のNb芯材(Nbフイラメント)2が間隔を置い
て埋設され、しかも基地11の内部にSnメツキ
層13が網目状に配され、さらにその全体の外側
にはCuもしくはCu−Sn合金からなる層11
C′が、またその層11C′の外側には拡散バリヤ層
16′および安定化銅層17′がそれぞれ形成され
たものとなつている。このようにして極細多芯複
合線15を得た後には、拡散熱処理を施すことに
よつて、基地11の内部のSnメツキ層13から
Snが拡散されて、Nbフイラメント2の周囲に
Nb3Snが生成され、極細多芯超電導線となる。
前述の拡散熱処理は、この発明の方法によれば
従来のブロンズ法における拡散熱処理と同程度の
簡単な処理で充分である。すなわち、極細多芯複
合線の段階において第8図もしくは第9図に示す
ようにSnメツキ層13が基地11の内部に網目
状に配されているため、従来のSnメツキ法や従
来の改良方法の如くSnメツキ層が最外周側に位
置している場合と比較して、主たるSn供給源で
あるSnメツキ層13とNbフイラメント2との間
の距離が著しく短かい。換言すれば、Nb3Snを生
成するためにSnが拡散移動すべき距離が従来の
Snメツキ法と比較して著しく短かく、したがつ
て拡散熱処理時に予備熱処理を施したり、さらに
はその予備熱処理を複数段にわたつて施したりす
る必要がなく、簡単な熱処理で充分な量のNb3Sn
を生成させることができる。このような効果は、
特に太い線径の場合、すなわちNbフイラメント
の数が多い場合に顕著となる。すなわち、従来の
Snメツキ法においては線径が太くなればそれに
伴つて外側のメツキ層と中心部のNbフイラメン
トとの間の距離が大きくなるが、この発明の方法
では線径が太くなつてもNbフイラメント径をほ
とんど同じ細径に仕上げるためそのようなことが
なく、Snの拡散移動距離は常に短かいから、線
径が太い場合でも細い線径の場合と同様に簡単な
熱処理で充分な量のNb3Snを生成させることがで
きる。具体的には、拡散熱処理としては真空中も
しくは不活性ガス雰囲気中において650〜850℃程
度の温度で20〜150時間程度加熱すれば良い。
従来のブロンズ法における拡散熱処理と同程度の
簡単な処理で充分である。すなわち、極細多芯複
合線の段階において第8図もしくは第9図に示す
ようにSnメツキ層13が基地11の内部に網目
状に配されているため、従来のSnメツキ法や従
来の改良方法の如くSnメツキ層が最外周側に位
置している場合と比較して、主たるSn供給源で
あるSnメツキ層13とNbフイラメント2との間
の距離が著しく短かい。換言すれば、Nb3Snを生
成するためにSnが拡散移動すべき距離が従来の
Snメツキ法と比較して著しく短かく、したがつ
て拡散熱処理時に予備熱処理を施したり、さらに
はその予備熱処理を複数段にわたつて施したりす
る必要がなく、簡単な熱処理で充分な量のNb3Sn
を生成させることができる。このような効果は、
特に太い線径の場合、すなわちNbフイラメント
の数が多い場合に顕著となる。すなわち、従来の
Snメツキ法においては線径が太くなればそれに
伴つて外側のメツキ層と中心部のNbフイラメン
トとの間の距離が大きくなるが、この発明の方法
では線径が太くなつてもNbフイラメント径をほ
とんど同じ細径に仕上げるためそのようなことが
なく、Snの拡散移動距離は常に短かいから、線
径が太い場合でも細い線径の場合と同様に簡単な
熱処理で充分な量のNb3Snを生成させることがで
きる。具体的には、拡散熱処理としては真空中も
しくは不活性ガス雰囲気中において650〜850℃程
度の温度で20〜150時間程度加熱すれば良い。
なおNb芯材が埋込まれる基地11となるべき
パイプ11A,11Cあるいは棒11Bとしては
前述のようにCuもしくはCu−Sn合金を用いれば
良いが、Nb3Snの生成に必要なSn量はSnメツキ
層から補給されるためCu−Sn合金を用いる場合
でもそのCu−Sn合金は低Sn濃度のもので充分で
ある。したがつて加工性を良好にして縮径加工に
おける中間焼鈍の回数を少なくするためには、
Sn濃度が10wt%未満、より最適には8wt%以下
程度のCu−Sn合金を用いることが望ましい。ま
たこのCu−Sn合金としては小量のPを含有する
もの、すなわちリン青銅を用いることもできる。
パイプ11A,11Cあるいは棒11Bとしては
前述のようにCuもしくはCu−Sn合金を用いれば
良いが、Nb3Snの生成に必要なSn量はSnメツキ
層から補給されるためCu−Sn合金を用いる場合
でもそのCu−Sn合金は低Sn濃度のもので充分で
ある。したがつて加工性を良好にして縮径加工に
おける中間焼鈍の回数を少なくするためには、
Sn濃度が10wt%未満、より最適には8wt%以下
程度のCu−Sn合金を用いることが望ましい。ま
たこのCu−Sn合金としては小量のPを含有する
もの、すなわちリン青銅を用いることもできる。
ここで、拡散バリヤ層16′は、Snが外側の安
定化銅層17′に拡散してNb3Snの生成効率が低
下したり安定化銅層17′の純度が低下してその
電気抵抗が低下したりすることを防止するに寄与
する。そしてこの拡散バリヤ層16′の内側にCu
層もしくはCu−Sn合金層11C′を配しておくこ
とにより、拡散バリヤ層16′の内周面での
Nb3Snの生成による加工性の劣化を補つて、良好
な加工性を確保することができる。
定化銅層17′に拡散してNb3Snの生成効率が低
下したり安定化銅層17′の純度が低下してその
電気抵抗が低下したりすることを防止するに寄与
する。そしてこの拡散バリヤ層16′の内側にCu
層もしくはCu−Sn合金層11C′を配しておくこ
とにより、拡散バリヤ層16′の内周面での
Nb3Snの生成による加工性の劣化を補つて、良好
な加工性を確保することができる。
上述の説明において、複合素線を最終的なNb
フイラメント数となるように集合する以前の段階
でも中間的に複合素線を集合させることもでき
る。すなわち、全く集合されていない複合素線
(以下これを一次複合素線と称する)を複数本集
合して二次複合素線を作り、その二次集合素線を
さらに複数本集合して縮径し、最終的なNbフイ
ラメント数を有する極細多芯複合線を得ることが
ある。この場合Snメツキは一次複合素線の段階
もしくは二次複合素線の段階のいずれで行つても
良く、また一次複合素線の段階および二次複合素
線の段階の両段階でSnメツキを施しても良く、
要は最終的なフイラメント数に集合される以前の
段階でSnメツキを行えば良い。
フイラメント数となるように集合する以前の段階
でも中間的に複合素線を集合させることもでき
る。すなわち、全く集合されていない複合素線
(以下これを一次複合素線と称する)を複数本集
合して二次複合素線を作り、その二次集合素線を
さらに複数本集合して縮径し、最終的なNbフイ
ラメント数を有する極細多芯複合線を得ることが
ある。この場合Snメツキは一次複合素線の段階
もしくは二次複合素線の段階のいずれで行つても
良く、また一次複合素線の段階および二次複合素
線の段階の両段階でSnメツキを施しても良く、
要は最終的なフイラメント数に集合される以前の
段階でSnメツキを行えば良い。
例えば第10図Aに示すようにCuもしくはCu
−Sn合金からなるパイプ11AにNb芯材2を挿
入して縮径加工し、第10図Bに示すようにCu
もしくはCu−Sn合金の基地11中にNb芯材2を
配した一次複合素線12Aを得、第10図Cに示
すように一次複合素線12Aの外表面にSnメツ
キ層13を形成した後、そのSnメツキが施され
た一次複合素線12Aを第10図Dに示すように
複数本集合してCuもしくはCu−Sn合金製のパイ
プ11Dに挿入し、縮径加工を施して第10図E
に示すような所望の径の二次複合素線12Bを
得、さらに第10図Fに示すように複数本の二次
複合素線12Bを集合してCuもしくはCu−Sn合
金製のパイプ11Cに挿入するとともに拡散バリ
ヤ層となるべきNbもしくはTaからなるパイプ1
6に挿入し、かつその全体を安定化銅層となるべ
き無酸素銅パイプ17に挿入し、再び縮径加工を
行つて第10図Gに示すような極細多芯複合線1
5を得れば良い。あるいはまた、第10図Bに示
される一次複合素線12Aに対してSnメツキを
施さずに第10図Hに示すように一次複合素線1
2を複数本集合してCuもしくはCu−Sn合金製の
パイプ11Dに挿入し、縮径加工を施して第10
図Iに示すような所望の線径の二次複合素線12
Bを得、その後第10図Jに示すように二次複合
素線12Bの表面にSnメツキ層13′を形成し、
次いで第10図Kに示すようにそのSnメツキが
施された二次複合素線12Bを複数本集合して
CuもしくはCu−Sn合金製のパイプ11Cに挿入
するとともに拡散バリヤ層となるべきNbもしく
はTaからなるパイプ16に挿入し、さらにその
全体を安定化銅層となるべき無酸素銅パイプ17
に挿入し、再び縮径加工を行つて第10図Lに示
すような極細多芯複合線15を得ても良い。さら
には第10図A〜Cに示すように一次複合素線1
2Aの表面にSnメツキ層13を形成した後、第
10図D,Eに示すように集合および縮径加工し
て二次複合素線12Bを得、その後第10図Jに
示すように二次複合素線12Bの表面にもSnメ
ツキ層13′を形成し、その後前記同様に集合お
よび縮径加工しても良い。もちろん最終的な集合
工程以前に2回以上集合および縮径加工を繰返す
場合にも上述の各例に準じてSnメツキを施せば
良い。上述のようにして得られた極細多芯複合線
に対しては、前記同様に拡散熱処理を施せば良
い。
−Sn合金からなるパイプ11AにNb芯材2を挿
入して縮径加工し、第10図Bに示すようにCu
もしくはCu−Sn合金の基地11中にNb芯材2を
配した一次複合素線12Aを得、第10図Cに示
すように一次複合素線12Aの外表面にSnメツ
キ層13を形成した後、そのSnメツキが施され
た一次複合素線12Aを第10図Dに示すように
複数本集合してCuもしくはCu−Sn合金製のパイ
プ11Dに挿入し、縮径加工を施して第10図E
に示すような所望の径の二次複合素線12Bを
得、さらに第10図Fに示すように複数本の二次
複合素線12Bを集合してCuもしくはCu−Sn合
金製のパイプ11Cに挿入するとともに拡散バリ
ヤ層となるべきNbもしくはTaからなるパイプ1
6に挿入し、かつその全体を安定化銅層となるべ
き無酸素銅パイプ17に挿入し、再び縮径加工を
行つて第10図Gに示すような極細多芯複合線1
5を得れば良い。あるいはまた、第10図Bに示
される一次複合素線12Aに対してSnメツキを
施さずに第10図Hに示すように一次複合素線1
2を複数本集合してCuもしくはCu−Sn合金製の
パイプ11Dに挿入し、縮径加工を施して第10
図Iに示すような所望の線径の二次複合素線12
Bを得、その後第10図Jに示すように二次複合
素線12Bの表面にSnメツキ層13′を形成し、
次いで第10図Kに示すようにそのSnメツキが
施された二次複合素線12Bを複数本集合して
CuもしくはCu−Sn合金製のパイプ11Cに挿入
するとともに拡散バリヤ層となるべきNbもしく
はTaからなるパイプ16に挿入し、さらにその
全体を安定化銅層となるべき無酸素銅パイプ17
に挿入し、再び縮径加工を行つて第10図Lに示
すような極細多芯複合線15を得ても良い。さら
には第10図A〜Cに示すように一次複合素線1
2Aの表面にSnメツキ層13を形成した後、第
10図D,Eに示すように集合および縮径加工し
て二次複合素線12Bを得、その後第10図Jに
示すように二次複合素線12Bの表面にもSnメ
ツキ層13′を形成し、その後前記同様に集合お
よび縮径加工しても良い。もちろん最終的な集合
工程以前に2回以上集合および縮径加工を繰返す
場合にも上述の各例に準じてSnメツキを施せば
良い。上述のようにして得られた極細多芯複合線
に対しては、前記同様に拡散熱処理を施せば良
い。
以下にこの発明の実施例を記す。
実施例 1
外径10mm、肉厚1.5mmのSn濃度6wt%のリン青
銅製のパイプに外径6.5mmのNb棒を挿入し、伸線
加工および中間焼鈍を繰返して外径0.75mmの一次
複合素線を得た。この一次複合素線の外周面に電
気メツキにより10μm厚のSnメツキ層を形成した
後、そのSnメツキが施された一次複合素線を91
本集合し、外径10mm、肉厚0.5mmの6wt%Snを含
有するリン青銅製のパイプに挿入し、伸線加工お
よび中間焼鈍を繰返し、外径0.75mmの二次複合素
線を得た。さらにこの二次複合素線の表面に電気
メツキにより10μm厚のSnメツキ層を形成した
後、その二次複合素線を91本集合して外径10mm、
肉厚0.5mmの6wt%Snを含有するリン青銅パイプ
に挿入し、さらにそれを外径12mm、肉厚0.5mmの
Nbパイプに挿入し、その全体を外径17mm、肉厚
2mmの無酸素銅パイプに挿入して、伸線加工およ
び中間焼鈍を繰返して外径1.0mmの安定化銅付き
の8281芯の極細多芯複合線を作成した。次いでこ
の様に800℃×50時間の拡散熱処理を施して安定
化銅付きのNb3Sn系極細多芯超電導線を得た。そ
の超電導線の超電導特性を温度4.2K、外部磁界
100KGの条件で測定したところ、臨界電流値
250Aを得た。この値は、Nb3Snだけの臨界電流
値としてみた場合、3×103A/mm2に相当し、良
好な特性といえる。
銅製のパイプに外径6.5mmのNb棒を挿入し、伸線
加工および中間焼鈍を繰返して外径0.75mmの一次
複合素線を得た。この一次複合素線の外周面に電
気メツキにより10μm厚のSnメツキ層を形成した
後、そのSnメツキが施された一次複合素線を91
本集合し、外径10mm、肉厚0.5mmの6wt%Snを含
有するリン青銅製のパイプに挿入し、伸線加工お
よび中間焼鈍を繰返し、外径0.75mmの二次複合素
線を得た。さらにこの二次複合素線の表面に電気
メツキにより10μm厚のSnメツキ層を形成した
後、その二次複合素線を91本集合して外径10mm、
肉厚0.5mmの6wt%Snを含有するリン青銅パイプ
に挿入し、さらにそれを外径12mm、肉厚0.5mmの
Nbパイプに挿入し、その全体を外径17mm、肉厚
2mmの無酸素銅パイプに挿入して、伸線加工およ
び中間焼鈍を繰返して外径1.0mmの安定化銅付き
の8281芯の極細多芯複合線を作成した。次いでこ
の様に800℃×50時間の拡散熱処理を施して安定
化銅付きのNb3Sn系極細多芯超電導線を得た。そ
の超電導線の超電導特性を温度4.2K、外部磁界
100KGの条件で測定したところ、臨界電流値
250Aを得た。この値は、Nb3Snだけの臨界電流
値としてみた場合、3×103A/mm2に相当し、良
好な特性といえる。
実施例 2
外径200mmのCu−Sn合金(Sn3wt%)のビレツ
ト13mmφの穴を91本形成し、各穴に外径12mmの
Nb棒を挿入して押出し用ビレツトを作成した。
そのビレツトを押出し加工した後、伸線加工およ
び中間焼鈍を繰返して外径6.5mmの複合素線を得
た。その複合素線の表面に厚さ160μmのSnメツ
キ層を溶融メツキにより形成した後、外径200mm、
内径160mmの無酸素銅パイプ、外径150mm、内径
140mmのNbパイプ、および外径130mm、内径120mm
のCu−Sn合金(Su3wt%)を重ねた複合パイプ
中に前記の線を217本集合して挿入し、19747芯の
ビレツトを作成した。そのビレツトを押出加工
後、伸線加工および中間焼鈍を繰返して外径2.0
mmの安定化銅付きの極細多芯複合線を得た。その
後755℃×100時間の拡散熱処理を施して安定化銅
付きのNb3Sn系極細多芯超電導線を作成した。こ
の超電導線の超電導特性を温度4.2K、外部磁界
120KGで測定したところ、臨界電流値370Aを得
た。この値はNb3Snだけの臨界電流値に換算すれ
ば1.5×103A/mm2となり、良好な特性であると認
められる。
ト13mmφの穴を91本形成し、各穴に外径12mmの
Nb棒を挿入して押出し用ビレツトを作成した。
そのビレツトを押出し加工した後、伸線加工およ
び中間焼鈍を繰返して外径6.5mmの複合素線を得
た。その複合素線の表面に厚さ160μmのSnメツ
キ層を溶融メツキにより形成した後、外径200mm、
内径160mmの無酸素銅パイプ、外径150mm、内径
140mmのNbパイプ、および外径130mm、内径120mm
のCu−Sn合金(Su3wt%)を重ねた複合パイプ
中に前記の線を217本集合して挿入し、19747芯の
ビレツトを作成した。そのビレツトを押出加工
後、伸線加工および中間焼鈍を繰返して外径2.0
mmの安定化銅付きの極細多芯複合線を得た。その
後755℃×100時間の拡散熱処理を施して安定化銅
付きのNb3Sn系極細多芯超電導線を作成した。こ
の超電導線の超電導特性を温度4.2K、外部磁界
120KGで測定したところ、臨界電流値370Aを得
た。この値はNb3Snだけの臨界電流値に換算すれ
ば1.5×103A/mm2となり、良好な特性であると認
められる。
前述の説明で明らかなようにこの発明の方法
は、最終的に所望の芯線数となるように集合する
以前の段階の複合素線にSn等のメツキを施すも
のであるから、拡散熱処理を行う直前の極細多芯
複合線の段階では、金属間化合物を構成する一方
の金属からなるメツキ層部分が複合線の内部でし
かも前記金属間化合物を構成する他方の金属から
なる芯材フイラメントの極く近傍に位置し、した
がつて拡散により前記金属間化合物を生成するこ
とが容易であるから、拡散熱処理を簡単に行ない
得、しかも太線径の場合でもその径にほとんど影
響されることなく簡単に拡散熱処理を行うことが
でき、また芯材が埋込れる基地は加工性が良好な
銅または低合金濃度の銅合金を使用できるから、
縮径加工中における中間焼鈍の必要回数も従来の
Snメツキ法と同程度に少なくすることができ、
さらには前述のごとく拡散熱処理が簡単で特に予
備熱処理を必要としないため熱処理時にCu−Sn
系金属間化合物等の有害な化合物相を生成するお
それも少なく、またSn等の低融点金属のメツキ
層部分が複合線の内部に位置するため拡散熱処理
時にSn等が溶け落ちしてしまうおそれも少ない
等、各種の効果が得られるものである。
は、最終的に所望の芯線数となるように集合する
以前の段階の複合素線にSn等のメツキを施すも
のであるから、拡散熱処理を行う直前の極細多芯
複合線の段階では、金属間化合物を構成する一方
の金属からなるメツキ層部分が複合線の内部でし
かも前記金属間化合物を構成する他方の金属から
なる芯材フイラメントの極く近傍に位置し、した
がつて拡散により前記金属間化合物を生成するこ
とが容易であるから、拡散熱処理を簡単に行ない
得、しかも太線径の場合でもその径にほとんど影
響されることなく簡単に拡散熱処理を行うことが
でき、また芯材が埋込れる基地は加工性が良好な
銅または低合金濃度の銅合金を使用できるから、
縮径加工中における中間焼鈍の必要回数も従来の
Snメツキ法と同程度に少なくすることができ、
さらには前述のごとく拡散熱処理が簡単で特に予
備熱処理を必要としないため熱処理時にCu−Sn
系金属間化合物等の有害な化合物相を生成するお
それも少なく、またSn等の低融点金属のメツキ
層部分が複合線の内部に位置するため拡散熱処理
時にSn等が溶け落ちしてしまうおそれも少ない
等、各種の効果が得られるものである。
さらにこの発明によれば、拡散バリヤを伴つた
安定化銅付きのNb3Sn系極細多芯超電導線をブロ
ンズ法によらず製造することができ、したがつて
拡散バリヤの存在により安定化銅層にSnが拡散
することを防止して、安定化銅層の電気抵抗の低
下を防止するとともにNb3Sn生成効率の低下を防
止することができ、かつまた芯材を埋込む基地と
して前述のように加工性が良好な銅または低合金
濃度の銅合金を用いるとともに、安定化バリヤ層
の内周にも銅もしくは銅合金を配することによつ
て、加工性が極めて良好となり、そのため縮径加
工が容易で中間焼鈍回数を減らすことができる点
から有利となる。
安定化銅付きのNb3Sn系極細多芯超電導線をブロ
ンズ法によらず製造することができ、したがつて
拡散バリヤの存在により安定化銅層にSnが拡散
することを防止して、安定化銅層の電気抵抗の低
下を防止するとともにNb3Sn生成効率の低下を防
止することができ、かつまた芯材を埋込む基地と
して前述のように加工性が良好な銅または低合金
濃度の銅合金を用いるとともに、安定化バリヤ層
の内周にも銅もしくは銅合金を配することによつ
て、加工性が極めて良好となり、そのため縮径加
工が容易で中間焼鈍回数を減らすことができる点
から有利となる。
第1図は従来のブロンズ法における複合線の断
面図、第2図は従来のSnメツキ法における複合
線の断面図、第3図および第4図はそれぞれ従来
の改良方法における複合線の断面図、第5図は従
来の安定化銅付き複合線の断面図、第6図および
第7図はそれぞれこの発明の方法の一例を段階的
に示すための説明図、第8図は第6図のEに示さ
れる複合線の拡大断面図、第9図は第7図のEに
示される複合線の拡大断面図、第10図は複合素
線の集合および縮径を2回行う場合のこの発明の
方法の例を段階的に示す説明図である。 2……Nb芯材、11……基地、12……複合
素線、12A……一次複合素線、12B……二次
複合素線、13,13′……Snメツキ層、14…
…メツキ複合線、15……極細多芯複合線。
面図、第2図は従来のSnメツキ法における複合
線の断面図、第3図および第4図はそれぞれ従来
の改良方法における複合線の断面図、第5図は従
来の安定化銅付き複合線の断面図、第6図および
第7図はそれぞれこの発明の方法の一例を段階的
に示すための説明図、第8図は第6図のEに示さ
れる複合線の拡大断面図、第9図は第7図のEに
示される複合線の拡大断面図、第10図は複合素
線の集合および縮径を2回行う場合のこの発明の
方法の例を段階的に示す説明図である。 2……Nb芯材、11……基地、12……複合
素線、12A……一次複合素線、12B……二次
複合素線、13,13′……Snメツキ層、14…
…メツキ複合線、15……極細多芯複合線。
Claims (1)
- 1 Nbからなる一本以上の芯材を、Cu−Sn合金
もしくは実質的にCuからなる基地中に配して複
合素線を作り、その複合素線の表面にSnメツキ
してメツキ複合線を作り、さらにそのメツキ複合
線を複数本集合し、その集合線の外側にCuもし
くはCu−Sn合金層を形成するとともにその外側
にSnの外側への拡散を防止するための拡散バリ
ヤ層を形成し、かつその拡散バリヤ層の外周面に
安定化のための純銅層を形成し、所定の線径まで
縮径した後、拡散熱処理を施して超電導金属間化
合物としてのNb3Snを内部に生成させることを特
徴とする化合物系極細多芯超電導線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56079590A JPS57194404A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Method of producing compound series extrafine multicore superconductive wire |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56079590A JPS57194404A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Method of producing compound series extrafine multicore superconductive wire |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57194404A JPS57194404A (en) | 1982-11-30 |
| JPH0313686B2 true JPH0313686B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=13694204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56079590A Granted JPS57194404A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Method of producing compound series extrafine multicore superconductive wire |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57194404A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61284556A (ja) * | 1985-06-11 | 1986-12-15 | Fujikura Ltd | 化合物系超電導線の製造方法 |
| JP2845905B2 (ja) * | 1988-10-13 | 1999-01-13 | 株式会社フジクラ | 交流通電用化合物系電導撚線 |
| JPH02103813A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-16 | Fujikura Ltd | 化合物系超電導線およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522599A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Yukio Matsuda | Selecting device for documents storage safe |
| JPS5439594A (en) * | 1977-09-02 | 1979-03-27 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture for compound system composite superconductor |
-
1981
- 1981-05-25 JP JP56079590A patent/JPS57194404A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57194404A (en) | 1982-11-30 |
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