JPH03142205A - 光学式記録担体の製造方法 - Google Patents
光学式記録担体の製造方法Info
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- JPH03142205A JPH03142205A JP1282785A JP28278589A JPH03142205A JP H03142205 A JPH03142205 A JP H03142205A JP 1282785 A JP1282785 A JP 1282785A JP 28278589 A JP28278589 A JP 28278589A JP H03142205 A JPH03142205 A JP H03142205A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorinated
- vinyl ester
- resin composition
- epoxy resin
- resin
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、音声、画像、情報等を記録し、再生、保存又
は消去可能な光学式記録担体の製造方法に関するもので
ある。
は消去可能な光学式記録担体の製造方法に関するもので
ある。
従来、ビデオディスク、デジタルオーディオディスク、
光デイスク記録媒体、光磁気ディスク等の光ディスクや
医療分野等の個人記録用や電子出版用の媒体である光カ
ードに使用される基板（以下光学式記録担体という）と
しては、厚さ１ｍｍ程度の透明板の表面に溝やピット等
の情報パターンを形成したものが使用される。
光デイスク記録媒体、光磁気ディスク等の光ディスクや
医療分野等の個人記録用や電子出版用の媒体である光カ
ードに使用される基板（以下光学式記録担体という）と
しては、厚さ１ｍｍ程度の透明板の表面に溝やピット等
の情報パターンを形成したものが使用される。
上記光学式記録担体を製造するには、例えば、（イ）情
報パターン付金属製スタンパ−を取り付けた金型内に、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の高分
子材料を射出成形する方法、 （１１）ガラスやプラスチ・ンクの＋１な無機、有機材
料である透明担体上の活性エネルギー線硬イヒ性樹脂組
戒物に、スタツフくから情報ノくターンを転写する方法
、 （ハ）情報パターン付スタンノくを有する型内（こ硬イ
ヒ性樹脂組戒物を注入し、硬化させ、硬イヒ性樹月旨岨
戒物の硬化物から戒る情報）くターン（寸光学式記録担
体を得る方法（直接注型成形法）等力（ある。
報パターン付金属製スタンパ−を取り付けた金型内に、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の高分
子材料を射出成形する方法、 （１１）ガラスやプラスチ・ンクの＋１な無機、有機材
料である透明担体上の活性エネルギー線硬イヒ性樹脂組
戒物に、スタツフくから情報ノくターンを転写する方法
、 （ハ）情報パターン付スタンノくを有する型内（こ硬イ
ヒ性樹脂組戒物を注入し、硬化させ、硬イヒ性樹月旨岨
戒物の硬化物から戒る情報）くターン（寸光学式記録担
体を得る方法（直接注型成形法）等力（ある。
前記（イ）により製造される光学式記録１旦体しよ、高
分子材料の金型内に於ける硬化の際に発生する硬化歪を
完全に除去する事が困難である為、光学式記録担体に光
学的異方性を生じ、複屈折率力（大きくなる等、光学式
記録担体の特性上、女子ましくない成形品が得られる傾
向にある。又、前言己（＋］）による方法では予め透明
担体を製作する鷹・要力くあり、更に透明担体上とスタ
ツフくから情報ノくターンが転写された樹脂層との接着
担体であるため、而（気性を低下させるばかりか生産の
効率性、１乍業性をも悪くする傾向にある。
分子材料の金型内に於ける硬化の際に発生する硬化歪を
完全に除去する事が困難である為、光学式記録担体に光
学的異方性を生じ、複屈折率力（大きくなる等、光学式
記録担体の特性上、女子ましくない成形品が得られる傾
向にある。又、前言己（＋］）による方法では予め透明
担体を製作する鷹・要力くあり、更に透明担体上とスタ
ツフくから情報ノくターンが転写された樹脂層との接着
担体であるため、而（気性を低下させるばかりか生産の
効率性、１乍業性をも悪くする傾向にある。
これに対して、前記（ハ）の方法は前記（イ）および０
）の方法の大部分の欠点を解決する可能性を有する。こ
の（ハ）の方法で用いる樹脂組成物としては、エポキシ
ビニルエステル樹脂や臭素化エポキシビニルエステル樹
脂等を含有する樹脂組成物が知られており、複屈折率が
小さく、耐熱性、耐溶剤性に優れる光学式記録担体が得
られてし）る（特開昭６２−１６２５０９号公報）。
）の方法の大部分の欠点を解決する可能性を有する。こ
の（ハ）の方法で用いる樹脂組成物としては、エポキシ
ビニルエステル樹脂や臭素化エポキシビニルエステル樹
脂等を含有する樹脂組成物が知られており、複屈折率が
小さく、耐熱性、耐溶剤性に優れる光学式記録担体が得
られてし）る（特開昭６２−１６２５０９号公報）。
しかしながら、エポキシビニルエステル樹脂含有の樹脂
組成物を用いた光学式記録担体は吸水率が高いために反
り易いという欠点があり、また臭素化エポキシビニルエ
ステル樹脂含有の樹脂組成物を用いた光学式記録担体は
Ｔｂ −ｒｅ −Ｃｏ等の金属系記録膜が酸化して孔食
を生じやすいという欠点がある。
組成物を用いた光学式記録担体は吸水率が高いために反
り易いという欠点があり、また臭素化エポキシビニルエ
ステル樹脂含有の樹脂組成物を用いた光学式記録担体は
Ｔｂ −ｒｅ −Ｃｏ等の金属系記録膜が酸化して孔食
を生じやすいという欠点がある。
本発明者等は、この様な状況に鑑みて鋭意研究した結果
、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂と重合性ビニル
モノマーとを含有する硬化性樹脂組成物を用いた光学式
記録担体は、脱型が容易で吸水率が低くて反りにくく、
しかも金属系記録膜の酸化もなく孔食が生じにくいこと
を見い出し、本発明を完成するに至った。
、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂と重合性ビニル
モノマーとを含有する硬化性樹脂組成物を用いた光学式
記録担体は、脱型が容易で吸水率が低くて反りにくく、
しかも金属系記録膜の酸化もなく孔食が生じにくいこと
を見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、情報パターン付スタンパを有する
型内に、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂と重合性
ビニルモノマーとを含有する硬化性樹脂組成物を注入し
、硬化させることを特徴とする光学式記録担体の製造方
法を提供するものである。
型内に、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂と重合性
ビニルモノマーとを含有する硬化性樹脂組成物を注入し
、硬化させることを特徴とする光学式記録担体の製造方
法を提供するものである。
本発明で用いるフッ素化エポキシビニルエステル樹脂と
しては、例えばフッ素化エポキシ樹脂と不飽和−塩基酸
とを反応させて得られるものが挙げられる。
しては、例えばフッ素化エポキシ樹脂と不飽和−塩基酸
とを反応させて得られるものが挙げられる。
ここで用いるフッ素化エポキシ樹脂としては、フン素化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フッ素化ノボラック
型エポキシ樹脂等が挙げられ、なかでもフッ素化ビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂が好ましく、特に２．２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
骨格 尚、上記の様なフッ素化エポキシ樹脂に更にビスフェノ
ールＡやビスフェノールＦ等を反応させて高分子量化し
たものも使用できる。
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フッ素化ノボラック
型エポキシ樹脂等が挙げられ、なかでもフッ素化ビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂が好ましく、特に２．２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
骨格 尚、上記の様なフッ素化エポキシ樹脂に更にビスフェノ
ールＡやビスフェノールＦ等を反応させて高分子量化し
たものも使用できる。
また、不飽和−塩基酸として代表的なものには、アクリ
ル酸、メタクリル酸、桂皮酸、クロトン酸、モノメチル
マレート、モノプロピルマレート、モノブチルマレート
、ソルビン酸、モノ（２−エチルヘキシル）マレートな
どがあり、なかでもアクリル酸、メタクリル酸が好まし
い。これらは単独又は二種以上の混合して用いることが
できる。
ル酸、メタクリル酸、桂皮酸、クロトン酸、モノメチル
マレート、モノプロピルマレート、モノブチルマレート
、ソルビン酸、モノ（２−エチルヘキシル）マレートな
どがあり、なかでもアクリル酸、メタクリル酸が好まし
い。これらは単独又は二種以上の混合して用いることが
できる。
本発明で用いるフッ素化エポキシビニルエステル樹脂は
、通常重合性ビニルモノマーに溶解してフッ素化エポキ
シビニルエステル樹脂組成物として用いる。ここで用い
る重合性ビニルモノマーとしては、例えばスチレン、ビ
ニルトルエン、Ｌ−ブチルスチレン、クロルスチレンも
しくはジピニルベンゼンの如きスチレンおよびその誘導
体；２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリ
ル（メタ）アクリレートもしくは２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレートの如き（メタ）アクリル酸の低
沸点エステルモノマー類；トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、１．４ブタンジオールジ（メタ）アク
リレートもしくは１，６−ヘキサンシオールジ（メタ）
アクリレートの如き多価アルコールの（メタ）アクリレ
ート類；ウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられ
、これらはそれぞれ単独、又は二種以上の混合して、通
常フッ素化エポキシビニルエステル樹脂４０〜８０重量
％に対して６０〜２０重量％（合計１００重量％）の割
合で使用される。
、通常重合性ビニルモノマーに溶解してフッ素化エポキ
シビニルエステル樹脂組成物として用いる。ここで用い
る重合性ビニルモノマーとしては、例えばスチレン、ビ
ニルトルエン、Ｌ−ブチルスチレン、クロルスチレンも
しくはジピニルベンゼンの如きスチレンおよびその誘導
体；２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリ
ル（メタ）アクリレートもしくは２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレートの如き（メタ）アクリル酸の低
沸点エステルモノマー類；トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、１．４ブタンジオールジ（メタ）アク
リレートもしくは１，６−ヘキサンシオールジ（メタ）
アクリレートの如き多価アルコールの（メタ）アクリレ
ート類；ウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられ
、これらはそれぞれ単独、又は二種以上の混合して、通
常フッ素化エポキシビニルエステル樹脂４０〜８０重量
％に対して６０〜２０重量％（合計１００重量％）の割
合で使用される。
この様にして得られたフッ素化エポキシビニルエステル
樹脂組成物には、樹脂のゲル化防止や保存安定性あるい
は硬化性の調整の目的で、／Ｓ（ドロキノン、ｐ−ｔ−
ブチルカテコール、モノ−ｔ−ブチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノメチルエーテル、ジ−ｔ−ｐ−クレ
ゾール、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキノン、ナフテン酸
銅などの重合禁止剤を添加することが望ましい。
樹脂組成物には、樹脂のゲル化防止や保存安定性あるい
は硬化性の調整の目的で、／Ｓ（ドロキノン、ｐ−ｔ−
ブチルカテコール、モノ−ｔ−ブチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノメチルエーテル、ジ−ｔ−ｐ−クレ
ゾール、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキノン、ナフテン酸
銅などの重合禁止剤を添加することが望ましい。
上記フッ素化エポキシビニルエステル樹脂組成物の硬化
方法は、特に限定はなく、例えば常温硬化、加熱硬化、
活性エネルギー線硬化のいずれでもよい。
方法は、特に限定はなく、例えば常温硬化、加熱硬化、
活性エネルギー線硬化のいずれでもよい。
このため、このフッ素化エポキシビニルエステル樹脂組
成物には、通常、更に常温硬化用触媒、加熱硬化用触媒
あるいは光重合開始剤を添加して、常温硬化性、加熱硬
化性あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として
用いる。ただし、電子線硬化を行う場合、光重合開始剤
は不要である。
成物には、通常、更に常温硬化用触媒、加熱硬化用触媒
あるいは光重合開始剤を添加して、常温硬化性、加熱硬
化性あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として
用いる。ただし、電子線硬化を行う場合、光重合開始剤
は不要である。
なかでも、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて
活性エネルギー線硬化させる硬化方法は、生産性に優れ
、しかも複屈折率の小さい光学式記録担体が得られる点
で特に好ましい。
活性エネルギー線硬化させる硬化方法は、生産性に優れ
、しかも複屈折率の小さい光学式記録担体が得られる点
で特に好ましい。
ここにおいて、光重合開始剤のうちで代表的なものは、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２−
メチルアントラキノン、ジフェニルモノサルファイド、
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ｌ−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトンなどが挙げられる。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２−
メチルアントラキノン、ジフェニルモノサルファイド、
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ｌ−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトンなどが挙げられる。
光重合開始剤を加えるだけで充分光硬化できないことが
あり得るので、必要ならばメチルエチルケトンパーオキ
サイド、アセチルアセトンパーオキサイド、ベンゾイル
パーオキサイド、Ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド
、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ
−２−エチルヘキサノエート、１．１−ビス（１−ブチ
ルパーオキシ） ３，３．５−）リメチルシクロヘキ
サンなどの有機過酸化物を光重合開始剤と併用すること
ができる。
あり得るので、必要ならばメチルエチルケトンパーオキ
サイド、アセチルアセトンパーオキサイド、ベンゾイル
パーオキサイド、Ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド
、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ
−２−エチルヘキサノエート、１．１−ビス（１−ブチ
ルパーオキシ） ３，３．５−）リメチルシクロヘキ
サンなどの有機過酸化物を光重合開始剤と併用すること
ができる。
更に速硬化ならしめるためにナフテン酸コバルトやオク
テン酸コバルトなどの金属石けん、ジメチルアニリンや
ジエチルアニリンなどのアミン類の併用もまた望ましい
。
テン酸コバルトなどの金属石けん、ジメチルアニリンや
ジエチルアニリンなどのアミン類の併用もまた望ましい
。
かくして得られたフッ素化エポキシビニルエステル樹脂
には、必要に応じて不飽和ポリエステル樹脂やエポキシ
樹脂を併用してもさしつかえない。
には、必要に応じて不飽和ポリエステル樹脂やエポキシ
樹脂を併用してもさしつかえない。
この場合、ビスフェノールＡ型の不飽和ポリエステル樹
脂およびビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂が相溶性に
優れる点で好ましい。
脂およびビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂が相溶性に
優れる点で好ましい。
活性エネルギー線としては、例えば可視光線、紫外線、
赤外線、電子線、イオン線等が挙げられ、通常は紫外線
を用いる。
赤外線、電子線、イオン線等が挙げられ、通常は紫外線
を用いる。
本発明の光学式記録担体を得るには、例えば無アルカリ
ガラス板と情報パターン付きニッケルスタンパとの間に
所望厚みを形成させた直接注型成形用型内に、フッ素化
エポキシビニルエステル樹脂と重合性ビニルモノマーを
含有して成る硬化性樹脂組成物を注入し、硬化させ、離
型して作る方法がある。この際必要によっては型から離
型したのち、さらに加熱して後硬化を施すこともできる
。
ガラス板と情報パターン付きニッケルスタンパとの間に
所望厚みを形成させた直接注型成形用型内に、フッ素化
エポキシビニルエステル樹脂と重合性ビニルモノマーを
含有して成る硬化性樹脂組成物を注入し、硬化させ、離
型して作る方法がある。この際必要によっては型から離
型したのち、さらに加熱して後硬化を施すこともできる
。
尚、本発明の光学式記録担体は上述のような直接注型成
形法で得られる他に、前記（ｔｌ）の方法である透明担
体にも適用できる。
形法で得られる他に、前記（ｔｌ）の方法である透明担
体にも適用できる。
（実施例〕
次に本発明を実施例及び比較例により具体的に説明する
。
。
かかる実施例は一興体例であるからこれらに限定される
ものではない。
ものではない。
実施例１
情報パターン付ニッケルスタンパ金型板と光学的研磨を
施した活性エネルギー線透過性無アルカリガラス板を塩
化ビニル樹脂製スペーサにて間隔が１．２ ｍ ｍとな
る様に対向させて形成された直接注型成形型内に、２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポキシ当
量２４０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタクリレート
７５重量部、スチレンモノマー２５重量部、１ ｂ
ｔ’ｌ：Ｉキシシクロへキシルフェニルケトン１．０重
量部およびベンゾイルパーオキサイド１．０重量部から
成る紫外線硬化性フッ素化エポキシビニルエステル樹脂
組成物を注入した。次いでガラス板を通して紫外線ラン
プから発する紫外線を照射して該樹脂組成物を硬化せし
めた後、ニッケルスタンパ及びガラス板より脱型し、次
いで１５０°Ｃで１時間後硬化させて、精密かつ汚染物
のない清浄な光学式記録担体を得た。
施した活性エネルギー線透過性無アルカリガラス板を塩
化ビニル樹脂製スペーサにて間隔が１．２ ｍ ｍとな
る様に対向させて形成された直接注型成形型内に、２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポキシ当
量２４０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタクリレート
７５重量部、スチレンモノマー２５重量部、１ ｂ
ｔ’ｌ：Ｉキシシクロへキシルフェニルケトン１．０重
量部およびベンゾイルパーオキサイド１．０重量部から
成る紫外線硬化性フッ素化エポキシビニルエステル樹脂
組成物を注入した。次いでガラス板を通して紫外線ラン
プから発する紫外線を照射して該樹脂組成物を硬化せし
めた後、ニッケルスタンパ及びガラス板より脱型し、次
いで１５０°Ｃで１時間後硬化させて、精密かつ汚染物
のない清浄な光学式記録担体を得た。
この担体上に誘電体膜（保護膜）としてのＳｉＮを７０
０Å、書換可能型のＴｂ −Ｆｅ −Ｃｏ系記録膜を８
００人、更に誘電体膜（保護膜）であるＳｉＮを７００
人、各々スパッタリング法により膜付し、保護膜および
記録膜を有する光学式記録媒体を得た。
０Å、書換可能型のＴｂ −Ｆｅ −Ｃｏ系記録膜を８
００人、更に誘電体膜（保護膜）であるＳｉＮを７００
人、各々スパッタリング法により膜付し、保護膜および
記録膜を有する光学式記録媒体を得た。
しかる後、これを８０°Ｃで８５％ＲＨの恒温恒湿器内
に１０００時間放置した後、以下の様にして孔食状態、
吸水率および反り量を測定した。この結果を第１表に示
す。
に１０００時間放置した後、以下の様にして孔食状態、
吸水率および反り量を測定した。この結果を第１表に示
す。
孔食状態：孔食の有無を目視判定した。
吸水率：放置前の重量を基準Ｏとし、放置後の重量増加
を百分率で示した。
を百分率で示した。
反り量：放置前の状態を基準０とし、放置後の反りの増
加を定盤上のスキマゲージで 測定した。
加を定盤上のスキマゲージで 測定した。
実施例２
２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポキ
シ当量４３０なる、フッ素化エポキシ樹脂のジメタクリ
レート７０重量部、スチレン−Ｅ／７−３０重ＩＬベン
ゾインイソプロピルエーテル１．０重量部およびｔ−ブ
チルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．０重量
部から成る紫外線硬化性フッ素化ビニルエステル樹脂組
成物を用いた以外は実施例１と同様にして光学式記録担
体を得、次いで光学式記録媒体を得た後、更に同様にし
て孔食状態、吸水率および反り量の測定を行った。この
結果を第１表に示す。
ロプロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポキ
シ当量４３０なる、フッ素化エポキシ樹脂のジメタクリ
レート７０重量部、スチレン−Ｅ／７−３０重ＩＬベン
ゾインイソプロピルエーテル１．０重量部およびｔ−ブ
チルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．０重量
部から成る紫外線硬化性フッ素化ビニルエステル樹脂組
成物を用いた以外は実施例１と同様にして光学式記録担
体を得、次いで光学式記録媒体を得た後、更に同様にし
て孔食状態、吸水率および反り量の測定を行った。この
結果を第１表に示す。
実施例３
２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポ牛
シ当ｆｆ１２４０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタク
リレート７５重量部、ビスフェノールＡ型の不飽和ポリ
エステル樹脂組成物〔大日本インキ化学工業■製ポリラ
イトＦＣ−３８７、スチレン含有率４３重量％〕２５重
量部、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン１
．０重量部および１．１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ
）３゜３．５−）リメチルシクロヘキサン１．０重量部
から成る紫外線硬化性フン素化エポキシビニルエステル
樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様にして光学式
記録担体を得、次いで光学式記録媒体を得た後、更に同
様にして孔食状態、吸水率および反り量の測定を行なっ
た。この結果を第１表に示す。
ロプロパンとエピクロルヒドリンとから得られたエポ牛
シ当ｆｆ１２４０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタク
リレート７５重量部、ビスフェノールＡ型の不飽和ポリ
エステル樹脂組成物〔大日本インキ化学工業■製ポリラ
イトＦＣ−３８７、スチレン含有率４３重量％〕２５重
量部、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン１
．０重量部および１．１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ
）３゜３．５−）リメチルシクロヘキサン１．０重量部
から成る紫外線硬化性フン素化エポキシビニルエステル
樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様にして光学式
記録担体を得、次いで光学式記録媒体を得た後、更に同
様にして孔食状態、吸水率および反り量の測定を行なっ
た。この結果を第１表に示す。
比較例１
エポキシ当量２４０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタ
クリレートの代わりに、ビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンとから得られたエポキシ当量１９０なるエポキ
シ樹脂のジメタクリレートを用いた以外は実施例Ｉと同
様にして光学式記録担体を得、次いで光学式記録媒体を
得た後、更に同様にして孔食状態、吸水率および反り量
の測定を行なった。この結果を第１表に示す。
クリレートの代わりに、ビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンとから得られたエポキシ当量１９０なるエポキ
シ樹脂のジメタクリレートを用いた以外は実施例Ｉと同
様にして光学式記録担体を得、次いで光学式記録媒体を
得た後、更に同様にして孔食状態、吸水率および反り量
の測定を行なった。この結果を第１表に示す。
比較例２
エポキシ当量４３０なるフッ素化エポキシ樹脂のジメタ
クリレートの代わりに、テトラプ口モビスフエノールＡ
とエピクロルヒドリンとから得られたエポキシ当ｌ３７
０なる臭素化エポキシ樹脂のジメタクリレートを用いた
以外は実施例１と同様にして光学式記録担体を得、次い
で光学式記録媒体を得た後、更に同様にして孔食状態、
吸水率および反り量の測定を行なった。この結果を第１
表に示す。
クリレートの代わりに、テトラプ口モビスフエノールＡ
とエピクロルヒドリンとから得られたエポキシ当ｌ３７
０なる臭素化エポキシ樹脂のジメタクリレートを用いた
以外は実施例１と同様にして光学式記録担体を得、次い
で光学式記録媒体を得た後、更に同様にして孔食状態、
吸水率および反り量の測定を行なった。この結果を第１
表に示す。
／
／
／
／
／
／
〔発明の効果〕
本発明の製造方法で得られた光学式記録担体は、直接注
型成形法に於いて、脱型が容易で、且つ、吸水率や反り
量が小さく、更に金属系の記録膜を膜付けしても全く孔
食を起こさず、書換可能型の光磁気ディスク基板や光カ
ード等に適用できるという利点がある。
型成形法に於いて、脱型が容易で、且つ、吸水率や反り
量が小さく、更に金属系の記録膜を膜付けしても全く孔
食を起こさず、書換可能型の光磁気ディスク基板や光カ
ード等に適用できるという利点がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、情報パターン付スタンパを有する型内に、フッ素化
エポキシビニルエステル樹脂と重合性ビニルモノマーと
を含有する硬化性樹脂組成物を注入し、硬化させること
を特徴とする光学式記録担体の製造方法。 ２、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂が、フッ素化
ビスフェノールＡ骨格を有するものである請求項１記載
の製造方法。 ３、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂が、２、２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン骨格を有するものである請求項１記載の製造方法。 ４、フッ素化エポキシビニルエステル樹脂が、２、２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ンジグリシジルエーテルの（メタ）アクリレートである
請求項１記載の製造方法。 ５、樹脂組成物として活性エネルギー線硬化性樹脂組成
物を用いて、活性エネルギー線硬化させる請求項１、２
、３又は４記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1282785A JPH03142205A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 光学式記録担体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1282785A JPH03142205A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 光学式記録担体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03142205A true JPH03142205A (ja) | 1991-06-18 |
Family
ID=17657052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1282785A Pending JPH03142205A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 光学式記録担体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03142205A (ja) |
-
1989
- 1989-10-30 JP JP1282785A patent/JPH03142205A/ja active Pending
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