JPS61104346A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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JPS61104346A
JPS61104346A JP59223714A JP22371484A JPS61104346A JP S61104346 A JPS61104346 A JP S61104346A JP 59223714 A JP59223714 A JP 59223714A JP 22371484 A JP22371484 A JP 22371484A JP S61104346 A JPS61104346 A JP S61104346A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はオーディオ用ディスク、ビデオ用ディスクの他
、各種情報処理における情報のファイル又はバッファー
として用いる情報メモリー用の光又は光磁気ディスク等
の情報記録ディスクに関するもので、とくにスタンバ−
と称する型板を用いてガラス、プラスチック等の支持基
板上にその情報パターンを転写して製作されるディスク
に係り、さらに情報転写層を形成する樹脂が液状前駆体
で、これに光拳熱等を作用させて硬化させるときに支持
体と一体化したこの硬化樹脂層に情報パターンを写し取
った情報記録ディスクに関するものである。
従来ディスク状情報媒体としてよく知られているものに
、いわゆるレコード盤がある0表面に溝を有するスタン
パ−を型として、塩化ビニル樹脂等を用いて射出成形又
は圧縮成形によってレコードは多量生産が行われている
が、このとき用いる樹脂は高分子量のもので、加熱溶融
して成形している。したがって樹脂の流動が悪く、高温
高圧が必要となり樹脂の熱分解ガスによるスタンパ−の
腐蝕、高圧下で樹脂やホコリ等の流動によるスタンバ−
表面のパターンの損傷、加熱冷却や樹脂の流動による分
子配向等による歪の発生等の問題があり、量産性にすぐ
れているという特長を有してはいるものの、情報の記録
密度の高いディスクにとってはこの成形方法を適用する
ことは必ずしも有利とは云えない。
一方近年オーディオ用、ビデオ用のディスク、情報処理
用の光磁気ディスクなどの情報記録ディスクが商品化さ
れており、さらにこれらの構造について説明をする。
第1図に情報記録ディスクの1例の構造を示す、lはプ
ラスチックあるいはガラス等の透明な支持基板で、表面
には図に示すような信号用の溝又はピットが形成される
。2はアルミニウム蒸着膜などの反射層で、その表面が
保護層3で覆われている。4は信号の読み出し光の光路
を示している。
第2図は第1図の情報記録ディスクを接着層5で接着し
て両面記録ができるタイプを示している。
第3図は静電容量式の情報記録ディスクの1例の構造を
示している。工は支持基板、6は金属薄膜による導電層
、7は誘電体層である。
第4図は光磁気ディスクの一例である。透明なプラスチ
ック又はガラスなどの支持基板工にトラッキング用の溝
をつけその上に磁性記録層8をスパッタリング等によっ
て施しさらにその表面を保護層3で覆っである。
第5図に示すものは第4図に示すものを2枚積層接着し
て両面から書込みe読出しが可能なものである。
これらの情報記録ディスクは従来からのレコード盤等に
比べると情報の記M密度が非常に高くパターンの成形精
度が格段に高く要求される。従ってこれらの製作には前
記したレコード盤におけるものとは異った成形方法が用
いられている。すなわち2P法あるいはPhoto−P
olymer法と呼ばれる方法で、ディスク基板とメタ
/パーを合せその間に光で硬化できる液状の樹脂を注入
Φ硬化させてスタンパ−上の型を転写して支持基板と一
体のディスクを製作する方法である。この方法では未硬
化の樹脂が比較的低分子量の液体であるから常圧で注型
でき、かつ樹脂の流動性が良いので型の細部まで精度の
よいレプリカかで5−tit動による分子配向がほとん
ど起らぬため光学異方性のない情報記録ディスクが製作
できる。
さらに前記のレコード盤の製作におけるような高圧・高
温の成形に伴うスタンバ−の損傷もない。また一般に紫
外線による光硬化は反応速度が速いので生産にもすぐれ
た方法である。この方法での転写層の材料は従来アクリ
ル酸エステルあるいはメタアクリル酸エステル類の化合
物が用いられている。その主要な理由は紫外線によって
短時間で重合硬化するのにこれらの材料が適当な反応性
を持っているからである。その上非晶質で光学的異方性
が小さく光学的な読取り手段等にとって有利であるが、
Ijt形後型からレプリカを離型するに際して型から容
易に離型でき、かつ支持基板との密着力、接着力が充分
に大きいことが望しいが、この性質は互に矛盾するもの
で材料の選択上障害となる場合もあり、なかなか適切な
材料が得られていない。
本発明は支持基板と転写層との界面の接着力が大きく、
パターンの転写j!度のすぐれた転写層樹脂を用いた情
報記録ディスクを提供することを主たる目的とする。
また、本発明は情報記録ディスクとして機械的強度がす
ぐれていて表面硬度も大きくキズがつきにくいものを提
供することを他の目的とする。
情報記録用型と支持基板との間に、液状樹脂前駆体を保
持してこれを硬化せしめ、透明支持基板と一体化した樹
脂層を形成し、これに該型上の情報パターンを転写する
ことによって形成される情報記録ディスクにおいて、転
写層として用いる樹脂前駆体が、2以上の重合可能な不
飽和基を有するシクロアセタール化合物と、2以上のメ
ルカプト基を有する化合物とアクリル酸エステルおよび
/又はメタクリル酸エステルとを主成分として成ること
を特徴とするものである。
本発明に用いるシクロアセタール系樹脂とは歌合可能な
不飽和基を有する −CH2 で表わされる不飽和シクロアセタール構造を1分子当り
少なくとも2有する化合物で、たとえばジアリリデンペ
ンタエリスリトール、トリアリリデンソルビトール等が
あげられる。その他これらの化合物と水酸基、ナルカプ
ト基、イソシアネート基、カルボン酸基、アミノ基等と
の反応による各種の誘導体で一分子当り少なくとも2ケ
のシクロアセタール基を残すものも含まれる。第2の成
分として用いる少くとも2以上のメルカプト基を有する
化合物とは例えばジペンテンジメル力ブタン、エチルシ
クロヘキシルジメル力ブタン、l;6−ヘキサンジメル
カプタン等の他カルボキシル基を有するメルカプト化合
物をエステル化反応等によって変性した生成物としての
、ジメルカプト化合物、たとえばペンタエリスリトール
テトラメルカプトアセテート等も含まれる。
第3成分として用いるアクリル酸エステル又はメタアク
リル酸エステルより成る化合物としては、ヒドロキシル
エチルアク、リレート、メトキシジエチレンアクリレー
トなどのモノアクリレート又はこれらに相当するメタア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート。
ポリプロピレングリコールジアクリレート等のポリオー
ルポリアクリレート又はこれらに相当するジメタクリレ
ート、あるいは一部をメタクリレートとする混合エステ
ル化合物、3官能以ヒの多価アルコールを出発物質とす
る、ポリオールのポリアクリレート又は、ポリメタアク
リレート或はアクリル酸・メタクリル酸の混合エステル
(たとえばトリメチロールプロパンプロピレンオキシド
変性によるポリアクリレートなど)、2官能以上の酸お
よびアルコールよりなるポリ、エステルによるポリアク
リレート、又はその一部又は全部をメタアクリレートと
したもの、エポキシオリゴマーあるいはインシアネート
を分子骨格に含む、いわゆるエポキシアクリレート、ウ
レタンアクリレート、又はこれらの一部又は全部をメタ
クリレートとするもの等があげられる。
これら組成物の組成比はその混合物も粘度、硬化後の基
板やスタンパ−との密着性や硬度等をJ l1fii 
して適宜選定されるべきであるがおおむね、第1#&分
と第2成分の合計量に対して第3成分は、重量比でその
30%から300%程度の範囲で決定される。これら混
合物は液状であって型と支持基板間に適当な手段を用い
て注入されるが、その後は紫外線照射、加熱等の手段で
硬化する。紫外線照射の場合はいわゆる光重合開始剤を
溶解混合するが、その具体例を示tと、ベンゾフェノン
、ベンゾインエチルエーテル、ジェトキシアセトフェノ
ン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシン−2
−メチルプロピオフェノン等で使用量は樹脂前駆体に対
して重量比で数%以下である。加熱による熱重合の場合
は、ジターシャリブチルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド、7ゾビスイソブチロニトリル、ベンゼン
ジアゾニラムクミライド等の重合触媒を使用することが
でき、その混同比はほぼ前記した光重合開始剤と同称で
ある。
転写を行う支持基板としてはガラス板の他アクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂等のプラスチッ
ク板等の非金属のものが好適である。転写樹脂層との密
着性をよくするために、樹脂層と接する表面をあらかじ
めシランカップリング剤を用いて処理することも有効で
ある、その具体例をあげると、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピル
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、β−メルカプトエチルトリエトキシシランなど
を用いることができる。これらは1〜2重景%のメタノ
ール、エタノールあるいはこれらと水との混合溶媒溶液
とし、基板表面にスピンナー等を用いて薄く均一に塗布
し、必要に応じて加熱処理を行う。
型は、一般に金属表面を有するものが使用され、例えば
いわゆるマイクロリソグラフィーの技術を応用して、ガ
ラス板の上に必要な溝、ピット=の母型を形成し、この
上にHlR等をいわゆる電鋳の技術により形成し、これ
を母型から分離して製作する。場合によってはこの表面
にさらにCrをメッキしてもよい、支持基板上の樹脂前
駆体と接触して、型を形成する際、型表面と樹脂層との
離型をよくするため、あらかじめスタンパ−の表面を弗
素系界面活性剤等を用いて離型処理しておくことも可能
である。
表面をシランカップリング剤で処理したガラス等の支持
基板と、上記のNi電鋳よりなる型を適当な厚さのスペ
ーサーを介して重ね合せ、スペーサーによって保たれた
空間に前記の樹脂前駆体を注入する。このとき、型の平
面性を確保するために、平面性の良好な金属板又はガラ
ス板等に型の裏面接着するなどしておくのがよい、また
樹脂前駆体を注入するに際しては気泡の混入がないよう
、細心の注意を要する1次いで樹脂を注入した状態のス
タンパ−および支持基板の組合せ体を水平に保ち、紫外
線硬化を行うときは支持基板の方向からこれを透して紫
外線を照射する。熱重合を行う場合は加熱手段を用いて
、全体を昇温させて樹脂前駆体の硬化を促進する。この
ようにして樹脂を完全に硬化した後に支持基板と型を分
離すると支持基板上に密着した樹脂層が、その表面に所
期の溝Φビット等を施された状態で支持基板と一体化し
た形で型から分離されてくる。このようにして、ディス
クが製作され、型はくり返し使用可能である。
〔実施例1〕 中心部に30mmの円孔を有する直径200mm、厚さ
1.1mmの平面度のとくに良好なガラス板の一面にス
ピンナーを用いてシランカップリング剤を塗布・乾燥す
る。用いたシランカップリング剤は、日本ユニカー% 
 A−174(商品名)で化学構造はγ−メタクリロキ
シプロピルトクメトキシシランで約2重量%のメタノー
ル溶液として適用した。一方Ni製スタンパ−は、表面
に巾17zm、深さ0.071Lmの回心円状の溝1#
Lm間隔で有するもので、その裏面を厚さ10mmのア
ルミニウムの平面板にエポキシ系接着剤で接着する。ス
タツフく−の溝を有する表面を玉にして水平に保持し、
その外周部と一ヒΣガラス板中心部の円孔の周辺に相当
する部分とに、厚さ約75μmのテフロン製の1ノング
状スペーサーを置く、これに以下に組成を示す樹脂前駆
体を流してから、気泡が混入しないように充分慎重にガ
ラス板を重ねる0次いで外周部と内周部のスペーサ一部
分を、クリップで押える。用いた樹脂前駆体はメルカプ
ト基を含有する不飽和シクロアセタール系オリゴマース
ピラツクT−502(昭和高分子株商品名)ニジエステ
ル系アクリレートモノマー701−A(新中村化学工業
■商品名)を重量比で1=2の割合で混合し、光重合開
始剤として、ベンゾインイソプロピルエーテルを3ル量
%混合したものである0次いで400Wの理化学用水銀
灯を約10cmの距離で基板、ガラスを通して約30分
照射して樹脂を硬化させた後クリップを外してスペーサ
一部分からナイフの先端を軽く打ち込んだところスタン
パ−と樹脂の界面にはく離を生じ、分離することができ
た。基板ガラス上に密着して出来上った転写層の表面は
転写された同心円状溝によって光の干渉を起し虹色の干
渉色がみえた。
この表面硬度は鉛筆硬度で2Bでありクロスカット試験
でカラス板と転写層との密着力を測ったところ、約70
%のマス目が粘着テープlq皺に酎えて残った。
同様にして製作したレプリカ表面に(Fe。
Gd、Tb、Co)より成る磁性記録層をスパンタリン
グにより形成して光磁気ディスクを試作し、記録・読出
しのテストを行ったところ充分に機能を果すことができ
た。
〔実施例2〜19) その他の実施例として実施例2−19を第1表に示す。
これらの実験方法は以下に特記する水引以外は実施例1
に説明した方法と全く同一である。
表1を通じてNKエステルとあるのは、新中村化゛$株
の商品名で、いずれもアクリル酸エステル又はメタアク
リル酸エステルの七ツマ−又はオリゴマーで、具体的な
化学構造は以下に示すとおりである。
NKエステル701−Aは2−ヒドロキシ−1−アクリ
ロキシ−3−メタクリロキシプロパン、NKエステルl
Gはエチレングリコールジメタクリレート、NKエステ
ル3Gは、トリエチレングリコールジメタクリレート、
NKエステルU−4HAは4官能ウレタンアクリレート
、NKエステルEA−800は、エポキシアクリレート
である。またベンゾインイソプロピルエーテルは光重合
開始剤、ベンゾイルパーオキサイドは熱重合開始剤であ
る。
ベンゾイルパーオキサイドを用いた場合の正合条件は7
0℃3時間である。
表中の組成を表す数字は1重量による配合比率を示して
いる。評価の欄での定性的評価は、O9Δ、×の順に評
価が悪くなっている。
スタンパ−からの剥離性については、 Oニスタンパ−と樹脂層の間にカミソリの刃を軽く打ち
込んで容易に剥離できる。
Δ:上記と同様にして部分的剥離を生じさせた後、力を
加えて引き剥すことができる。
×:剥れずに基板のガラス板かわれてしまうことを示す
鉛筆硬度は通常は塗膜が破壊されるときの硬さを示すが
、ここでは塗膜表面にキズがつくときの硬度で評価した
。また密着性は、1mm間隔でタテ、ヨコ各々11本の
切り目をゴパン目状に塗膜に入れ(したがって合計10
0ケのマス目ができる)、この上に粘着テープを貼りつ
けて、これを引きはがすときに塗膜がはがれずに残った
マス目の数を示している。磁性膜の耐久テストは、40
℃95%R,H,の条件下に500時間放置後の状況を
判定するもので○は以上のないもの、Δはこまかいクラ
ンクが発生したもの、×はクラックが入って剥れたもの
を示す。
〔比較例〕
比較のために@2表に示した9例の実験を行った。
以上の説明および実施例、比較例より明らかなように、
本発明の材料組成を用いることにより、基板との密着性
にすぐれかつ、スタンバ−からの剥離性のよい、転写が
可能となり、光磁気記録用ディスク、光記録用ディスク
としてすぐれたものを製作することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は情報記録ディスクの断面図、@2図は、第1[
Nの情報記録ディスクを2枚接着して両面記録可能とな
したものの断面図、第3図は、静電容量を情報記録ディ
スクの断面図、第4図は光磁気タイプの情報記録ディス
クの断面図、第5図は第4図の情報記録ディスクを2枚
接着して両面から書込み−読み出しが可能なディスクの
断面構成図を示す0図中1は支持基板、2は反射層、3
は保護層、4は信号の読み出し光の光路、5は接着剤層
、6は導電層、7は誘電体層、8は磁性層をそれぞれ表
わす。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)情報記録用型と支持基板との間に、液状樹脂前駆
    体を保持してこれを硬化せしめ、透明支持基板と一体化
    した樹脂層を形成し、これに該型上の情報パターンを転
    写することによって形成される情報記録ディスクにおい
    て、転写層として用いる樹脂前駆体が、2以上の重合可
    能な不飽和基を有するシクロアセタール化合物と、2以
    上のメルカプト基を有する化合物とアクリル酸エステル
    および/又はメタクリル酸エステルとを主成分として成
    ることを特徴とする情報記録ディスク。
  2. (2)支持基板の少なくとも転写樹脂層と接する表面が
    シランカップリング剤によってあらかじめ処理されてい
    る特許請求の範囲第1項に記載の情報記録ディスク。
JP59223714A 1984-10-23 1984-10-23 光磁気記録媒体 Granted JPS61104346A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59223714A JPS61104346A (ja) 1984-10-23 1984-10-23 光磁気記録媒体
US06/789,837 US4716063A (en) 1984-10-23 1985-10-21 Information recording disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59223714A JPS61104346A (ja) 1984-10-23 1984-10-23 光磁気記録媒体

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Publication Number Publication Date
JPS61104346A true JPS61104346A (ja) 1986-05-22
JPH0377577B2 JPH0377577B2 (ja) 1991-12-11

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ID=16802515

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