JPH03146682A - 浮動磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
浮動磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH03146682A JPH03146682A JP28153389A JP28153389A JPH03146682A JP H03146682 A JPH03146682 A JP H03146682A JP 28153389 A JP28153389 A JP 28153389A JP 28153389 A JP28153389 A JP 28153389A JP H03146682 A JPH03146682 A JP H03146682A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、固定磁気ディスク装置に用いられる浮動磁気
ヘッドに係わり、特に磁気ディスクの回転に伴って磁気
ディスクから浮上し、回転停止にともなって磁気ディス
クと接触するスライダ部の製造方法に関する。
ヘッドに係わり、特に磁気ディスクの回転に伴って磁気
ディスクから浮上し、回転停止にともなって磁気ディス
クと接触するスライダ部の製造方法に関する。
［従来技術］
近年、固定磁気ディスク装置に対する小型大容量化の要
請が強まるにつれ、磁気ディスクの径が小型化されると
共に、磁気ディスクの回転数を小さく〜して記録波長を
短くした高密度磁気記録再生が広く行なわれている。高
密度磁気記録再生を十分行なうためには、高い保持力の
記録媒体からなる磁気ディスクと磁気ギャップ長の小さ
な浮動磁気ヘッドが必要であり、また、使用に際しては
スペーンングロスをできるだけ小さくするために、磁気
ギャップが形成されたスライダ面を磁気ディスクからあ
まり浮上させないことが必要となる。
請が強まるにつれ、磁気ディスクの径が小型化されると
共に、磁気ディスクの回転数を小さく〜して記録波長を
短くした高密度磁気記録再生が広く行なわれている。高
密度磁気記録再生を十分行なうためには、高い保持力の
記録媒体からなる磁気ディスクと磁気ギャップ長の小さ
な浮動磁気ヘッドが必要であり、また、使用に際しては
スペーンングロスをできるだけ小さくするために、磁気
ギャップが形成されたスライダ面を磁気ディスクからあ
まり浮上させないことが必要となる。
磁気ヘッドが磁気ディスクから浮上する高さ、即ち浮上
量は、磁気ヘッド及び磁気ディスクの表面状態や装置の
押圧ばねの性能等により定まるが、最近ではこの値は０
．２μｍあるいはそれ以下の値に抑えられている。
量は、磁気ヘッド及び磁気ディスクの表面状態や装置の
押圧ばねの性能等により定まるが、最近ではこの値は０
．２μｍあるいはそれ以下の値に抑えられている。
また、浮動磁気ヘッドのスライダ面と接触を繰り返す磁
気ディスクの表面は極めて薄い薄膜状の磁気媒体からで
きているため、その耐久性に何らかの対策を講じる必要
がある。従来の磁気ディスクにおいては、磁気ディスク
媒体の上にＳ ｉＯ２、Ｃ「などの保護膜を成膜し、さ
らに潤滑油を塗布したり、カーボン膜などの潤滑性を有
する保護膜を成膜はるなどして耐久性を持たせていたが
、スライダ面と磁気ディスクとは磁気ディスクの回転・
停止に伴って接触回転するため、これらの数十程度の保
護潤滑膜は磨耗消滅してしまうという問題点があった。
気ディスクの表面は極めて薄い薄膜状の磁気媒体からで
きているため、その耐久性に何らかの対策を講じる必要
がある。従来の磁気ディスクにおいては、磁気ディスク
媒体の上にＳ ｉＯ２、Ｃ「などの保護膜を成膜し、さ
らに潤滑油を塗布したり、カーボン膜などの潤滑性を有
する保護膜を成膜はるなどして耐久性を持たせていたが
、スライダ面と磁気ディスクとは磁気ディスクの回転・
停止に伴って接触回転するため、これらの数十程度の保
護潤滑膜は磨耗消滅してしまうという問題点があった。
また、従来の多結晶フェライトを用いた浮動磁気ヘッド
のスライダ面は、ラップ加工により滑らかな地肌に仕上
げられ、しかも、硬度の低い加工変質層が表面に露出し
ているため、使用に際して、磁気ディスクとスライダ面
の間に液体潤滑剤や雰囲気中の水蒸気が介在すると吸着
を生じ摩擦係数が大となる傾向があった。
のスライダ面は、ラップ加工により滑らかな地肌に仕上
げられ、しかも、硬度の低い加工変質層が表面に露出し
ているため、使用に際して、磁気ディスクとスライダ面
の間に液体潤滑剤や雰囲気中の水蒸気が介在すると吸着
を生じ摩擦係数が大となる傾向があった。
摩擦係数の大きなスライダ面と磁気ディスクとの接触回
転により磨耗が生じると、塵などの発生を招くと共に、
スライダ面と磁気ディスクとの密着度が増し、実効接触
面積が増加する結果、吸着力の増加や摩擦係数の増加を
招き、磁気ディスクの磨耗は増大し、耐久性を著しく弱
めることになるなどの問題があった。
転により磨耗が生じると、塵などの発生を招くと共に、
スライダ面と磁気ディスクとの密着度が増し、実効接触
面積が増加する結果、吸着力の増加や摩擦係数の増加を
招き、磁気ディスクの磨耗は増大し、耐久性を著しく弱
めることになるなどの問題があった。
そこで上記の問題点を解決するために、スライダ部を粒
界を析出した多結晶フェライト材で構成する浮動磁気ヘ
ッドが考案されており（特願昭６２−２９１５２０ ）
、この構成によって、スライダ面と磁気ディスク面と
の実効接触面積を小さくすることができ、両者間の摩擦
係数及び吸着力を低減し、磨耗を減らして磁気ディスク
装置の耐久性を向上させることができた。そして、前記
スライダ部を（を成する多結晶フェライト材の粒界を析
出させる方法として、従来、イオンミリングが適用され
てきた。イオンミリングによるエツチングは、湿式エツ
チングに比べ、浮動磁気ヘッドの多結晶フェライト材以
外の構成部に与える影響が少なく、しかもエツチング速
度の大きい方法である。
界を析出した多結晶フェライト材で構成する浮動磁気ヘ
ッドが考案されており（特願昭６２−２９１５２０ ）
、この構成によって、スライダ面と磁気ディスク面と
の実効接触面積を小さくすることができ、両者間の摩擦
係数及び吸着力を低減し、磨耗を減らして磁気ディスク
装置の耐久性を向上させることができた。そして、前記
スライダ部を（を成する多結晶フェライト材の粒界を析
出させる方法として、従来、イオンミリングが適用され
てきた。イオンミリングによるエツチングは、湿式エツ
チングに比べ、浮動磁気ヘッドの多結晶フェライト材以
外の構成部に与える影響が少なく、しかもエツチング速
度の大きい方法である。
以下、Ａカ１定データの一例を参照して従来のイオンミ
リングによる多結晶フェライト材の粒界の析出について
説明する。
リングによる多結晶フェライト材の粒界の析出について
説明する。
第７図は、浮動磁気ヘッドのスライダ面をラップした後
、その表面状態を触針式微小形状測定器（ＤＥＫＴＡＫ
３０３０．５ＬＯＡＮ社製）により測定した結果である
。同図で、横軸は表面に沿って触針が移動した距離即ち
測定範囲を、縦軸は表面の凹凸の大きさを示している。
、その表面状態を触針式微小形状測定器（ＤＥＫＴＡＫ
３０３０．５ＬＯＡＮ社製）により測定した結果である
。同図で、横軸は表面に沿って触針が移動した距離即ち
測定範囲を、縦軸は表面の凹凸の大きさを示している。
同図かられかるように、ラップ後のスライダ面には、表
面粗さだけで粒界による段差は見られない。第６図は、
ラップ後のスライダ面をイオンミリングで処理し、その
表面形状をΔｐ１定した結果である。第６図及び第７図
から、イオンミリングによって、スライダ面に１００〜
１５０の段差が現れ、結晶粒界が析出していることがわ
かる。
面粗さだけで粒界による段差は見られない。第６図は、
ラップ後のスライダ面をイオンミリングで処理し、その
表面形状をΔｐ１定した結果である。第６図及び第７図
から、イオンミリングによって、スライダ面に１００〜
１５０の段差が現れ、結晶粒界が析出していることがわ
かる。
［発明が解決しようとする課題］
上記したように、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディ
スクから浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触
するスライダ部を有する浮動磁気ヘッドの製造工程にお
いて、前記スライダ部を構成する多結晶フェライト材に
粒界を析出させる方法として、イオンミリングが適用さ
れており、多結晶フェライト材の粒界を有効に析出させ
ている。
スクから浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触
するスライダ部を有する浮動磁気ヘッドの製造工程にお
いて、前記スライダ部を構成する多結晶フェライト材に
粒界を析出させる方法として、イオンミリングが適用さ
れており、多結晶フェライト材の粒界を有効に析出させ
ている。
しかし、イオンミリング装置は構造が複雑で高価である
ばかりでなく、−度に処理できる数量が少ないことなど
により製造コストを押し上げ、良質ではあるが、安価な
浮動磁気ヘッドの供給を困難にしていた。
ばかりでなく、−度に処理できる数量が少ないことなど
により製造コストを押し上げ、良質ではあるが、安価な
浮動磁気ヘッドの供給を困難にしていた。
一方、上記の課題を解決するために、従来から、前記ス
ライダ部を構成する多結晶フェライト材に粒界を析出さ
せる方法としてプラズマエツチングの可能性が指摘され
てはいたが、何ら具体的な技術の公開はなく、あくまで
推測の範囲に留まっていた。
ライダ部を構成する多結晶フェライト材に粒界を析出さ
せる方法としてプラズマエツチングの可能性が指摘され
てはいたが、何ら具体的な技術の公開はなく、あくまで
推測の範囲に留まっていた。
［課題を解決するための手段］
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮動磁気ヘッドの製造工程において、前記ス
ライダ部を構成する多結晶フェライト材に粒界を析出さ
せる方法として、Ａ「プラズマによるプラズマエツチン
グ、あねいは酸素プラズマによるプラズマエツチング、
あるいはＣＦ４プラズマによるプラズマエツチングを特
徴とする製造方法を提供しようとするものである。
り、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮動磁気ヘッドの製造工程において、前記ス
ライダ部を構成する多結晶フェライト材に粒界を析出さ
せる方法として、Ａ「プラズマによるプラズマエツチン
グ、あねいは酸素プラズマによるプラズマエツチング、
あるいはＣＦ４プラズマによるプラズマエツチングを特
徴とする製造方法を提供しようとするものである。
［実施例］
第１図は本発明の製造方法により作製した浮動磁気ヘッ
ド１０の斜視図であり、以下同図を用いて説明する。１
１は多結晶フェライトからなるスライダ部であり、スラ
イダ面１１ａの略中央部には平行な一対の逃げ溝１１ｂ
が形成され、溝１１ｂに挾まれてセンターレールｌｌｃ
が設けられている。１２は多結晶フェライトからなる磁
気コア半休であり、突き合わせ面に形成された巻き線窓
１３を通してコイル１４が巻かれ、スライダ部１１を他
の磁気コア半休となる如く、センターレールｌｌｃの端
面に突き合わされ、磁気ヘッド部を形成している。
ド１０の斜視図であり、以下同図を用いて説明する。１
１は多結晶フェライトからなるスライダ部であり、スラ
イダ面１１ａの略中央部には平行な一対の逃げ溝１１ｂ
が形成され、溝１１ｂに挾まれてセンターレールｌｌｃ
が設けられている。１２は多結晶フェライトからなる磁
気コア半休であり、突き合わせ面に形成された巻き線窓
１３を通してコイル１４が巻かれ、スライダ部１１を他
の磁気コア半休となる如く、センターレールｌｌｃの端
面に突き合わされ、磁気ヘッド部を形成している。
浮動磁気ヘッド１０のスライダ面１１ａを研磨機によっ
てラップした。後、さらにこのスライダ面１１ａにプラ
ズマエツチングを施してスライダ面１１ａ上に多結晶粒
界を析出させた。
てラップした。後、さらにこのスライダ面１１ａにプラ
ズマエツチングを施してスライダ面１１ａ上に多結晶粒
界を析出させた。
第２図は本発明方法を適用した平行平板型のエツチング
装置２０の原理的略図である。図中２１はエツチング室
、２２は電極、２３はガス導入口、２４゛は排気口、２
５は電極２２に載置された浮動磁気ヘッド、２６は高周
波電源、２７は電圧計である。この装置自体は、通常の
プラズマエツチング方法を適用する装置と何等異なると
ころはなく、安価で大量に処理できるという特長を備え
ていることは言うまでもない。
装置２０の原理的略図である。図中２１はエツチング室
、２２は電極、２３はガス導入口、２４゛は排気口、２
５は電極２２に載置された浮動磁気ヘッド、２６は高周
波電源、２７は電圧計である。この装置自体は、通常の
プラズマエツチング方法を適用する装置と何等異なると
ころはなく、安価で大量に処理できるという特長を備え
ていることは言うまでもない。
略々このように構成されたエツチング装置において、排
気口２４から真空ポンプ（図示せず）で排気しながらエ
ツチング室２１ヘガス導入口２３より特定のガスを導入
し、エツチング室２１を所定の真空度に保つ。この状態
で高周波電源２６により電極２２に１３．５１３ＭＨｚ
の高周波電圧を印加してエツチング室２１内にプラズマ
を発生させ、ワークとしての浮動磁気ヘッド２５にエツ
チングを施した。
気口２４から真空ポンプ（図示せず）で排気しながらエ
ツチング室２１ヘガス導入口２３より特定のガスを導入
し、エツチング室２１を所定の真空度に保つ。この状態
で高周波電源２６により電極２２に１３．５１３ＭＨｚ
の高周波電圧を印加してエツチング室２１内にプラズマ
を発生させ、ワークとしての浮動磁気ヘッド２５にエツ
チングを施した。
エツチングした後のスライダ面１１ａの表面形状は前記
の触針式微小形状測定器を用いて測定し、その結果を示
す図の縦軸及び横軸は第６図あるいは第７図と同一のも
のとした。
の触針式微小形状測定器を用いて測定し、その結果を示
す図の縦軸及び横軸は第６図あるいは第７図と同一のも
のとした。
実施例１
前記特定ガスとしてＡｒを用いた本発明方法により、浮
動磁気ヘッドにエツチングを施した場合のスライダ面の
表面形状の測定結果を第３図に示す。同図から、結晶粒
界の析出により、表面に１００〜１５０ の段差が生じ
ていることがわかる。本例のプラズマエツチングにおい
て、印加した高周波電力は３００Ｗ、Ａｒガス圧は１０
ｔａ Ｔｏ ｒ−ｒに設定して行なった。
動磁気ヘッドにエツチングを施した場合のスライダ面の
表面形状の測定結果を第３図に示す。同図から、結晶粒
界の析出により、表面に１００〜１５０ の段差が生じ
ていることがわかる。本例のプラズマエツチングにおい
て、印加した高周波電力は３００Ｗ、Ａｒガス圧は１０
ｔａ Ｔｏ ｒ−ｒに設定して行なった。
実施例２
前記特定ガスとして酸素を用いた本発明方法により、浮
動磁気ヘッドにエツチングを施した場合のスライダ面の
表面形状の測定結果を第４図に示す。同図から、結晶粒
界の析出により、表面に１００１１５０ の段差が生じ
ていることがわかる。本例のプラズマ某ツチングにおい
て、印加した高周波電力は３００ＷＳＡｒガス圧は５０
ｍＴｏｒｒに設定して行なった。
動磁気ヘッドにエツチングを施した場合のスライダ面の
表面形状の測定結果を第４図に示す。同図から、結晶粒
界の析出により、表面に１００１１５０ の段差が生じ
ていることがわかる。本例のプラズマ某ツチングにおい
て、印加した高周波電力は３００ＷＳＡｒガス圧は５０
ｍＴｏｒｒに設定して行なった。
実施例３
前記特定ガスとしてＣＦ４を用いた本発明方法により、
浮動磁気ヘッドにエツチングを施した場合の゛スライダ
面の表面形状の測定結果を第５図に示す。同図から、結
晶粒界の析出により、表面に、１００〜１５０ の段差
が生じていることがわかる。本例のプラズマエツチング
において、印加した高周波電力は３００ＷＳＡｒガス圧
は１００ｍＴｏｒｒに設定して行なった。
浮動磁気ヘッドにエツチングを施した場合の゛スライダ
面の表面形状の測定結果を第５図に示す。同図から、結
晶粒界の析出により、表面に、１００〜１５０ の段差
が生じていることがわかる。本例のプラズマエツチング
において、印加した高周波電力は３００ＷＳＡｒガス圧
は１００ｍＴｏｒｒに設定して行なった。
以上のように、上記実施例１，２．３のいづれにおいて
も、スライダ面には結晶粒界の析出により１００〜１５
０ の段差が生じており、このことから硬度の高い凸部
が形成されたことがわかる。
も、スライダ面には結晶粒界の析出により１００〜１５
０ の段差が生じており、このことから硬度の高い凸部
が形成されたことがわかる。
上記実施例１，２．３に示したプラズマエ・ノチングに
おいては、特定ガスとして各々Ａｒ、酸素、ＣＦ４−を
単独で使用したが、必ずしも単独ガスに限ることはなく
、少なくともＡｒ、酸素、ＣＦ４のいづれかを含む混合
ガスを使用することができる。また、本発明の適用に当
たっては平行平板型のエツチング装置を用いたが、エツ
チング装置もこれに限らず、例えば円筒型エツチング装
置などプラズマエツチングが可能ないかなる装置にも適
用し得ることは言うまでもない。
おいては、特定ガスとして各々Ａｒ、酸素、ＣＦ４−を
単独で使用したが、必ずしも単独ガスに限ることはなく
、少なくともＡｒ、酸素、ＣＦ４のいづれかを含む混合
ガスを使用することができる。また、本発明の適用に当
たっては平行平板型のエツチング装置を用いたが、エツ
チング装置もこれに限らず、例えば円筒型エツチング装
置などプラズマエツチングが可能ないかなる装置にも適
用し得ることは言うまでもない。
［発明の効果コ
以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明になる浮動磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ディ
スクの回転に伴って磁気ディスクから浮上し、回転停止
に伴って磁気ディスクと接触するスライダ部を有する浮
動磁気ヘッドの製造工程において、Ａｒプラズマ、ある
いは酸素プラズマ、あるいはＣＦ４プラズマによるプラ
ズマエツチングにより、前記スライダ部を構成する多結
晶フェライト材に容易に粒界を析出させることができる
。しかも、安価な装置で大量に処理できるため、本製造
方法は実用上極めて優れた特長を有するものである。
明になる浮動磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ディ
スクの回転に伴って磁気ディスクから浮上し、回転停止
に伴って磁気ディスクと接触するスライダ部を有する浮
動磁気ヘッドの製造工程において、Ａｒプラズマ、ある
いは酸素プラズマ、あるいはＣＦ４プラズマによるプラ
ズマエツチングにより、前記スライダ部を構成する多結
晶フェライト材に容易に粒界を析出させることができる
。しかも、安価な装置で大量に処理できるため、本製造
方法は実用上極めて優れた特長を有するものである。
第１図は本発明になる製造方法により作製した浮動磁気
ヘッドの斜視図、第２図は本発明になる製造方法を適用
した平行平板型のエツチング装置の原理的略図、第３図
はＡｒガスを用いた本発明方法により作製した浮動磁気
ヘッドのスライダ面形状を示すグラフ、第４図は酸素ガ
スを用いた本発明方法により作製した浮動磁気ヘッドの
スライダ面形状を示すグラフ、第５図はＣＦ４ガスを用
いた本発明方法により作製した浮動磁気ヘッドのスライ
ダ面形状を示すグラフ、第６図は従来の製造方法により
作製した浮動磁気ヘッドのスライダ面形状を示すグラフ
、第７図はラップ加工後の浮動磁気ヘッドのスライダ面
形状を示すグラフである。 １０・・・本発明の浮動磁気ヘッド、 １１・・・スライダ部、ｌｌａ・・・スライダ面、２０
・・・プラズマエツチング装置、２２・・・電極、２３
・・・ガス導入口、 ２５・・・ワークとしての浮動磁気ヘッド、２６・・・
高周波電源。
ヘッドの斜視図、第２図は本発明になる製造方法を適用
した平行平板型のエツチング装置の原理的略図、第３図
はＡｒガスを用いた本発明方法により作製した浮動磁気
ヘッドのスライダ面形状を示すグラフ、第４図は酸素ガ
スを用いた本発明方法により作製した浮動磁気ヘッドの
スライダ面形状を示すグラフ、第５図はＣＦ４ガスを用
いた本発明方法により作製した浮動磁気ヘッドのスライ
ダ面形状を示すグラフ、第６図は従来の製造方法により
作製した浮動磁気ヘッドのスライダ面形状を示すグラフ
、第７図はラップ加工後の浮動磁気ヘッドのスライダ面
形状を示すグラフである。 １０・・・本発明の浮動磁気ヘッド、 １１・・・スライダ部、ｌｌａ・・・スライダ面、２０
・・・プラズマエツチング装置、２２・・・電極、２３
・・・ガス導入口、 ２５・・・ワークとしての浮動磁気ヘッド、２６・・・
高周波電源。
Claims (3)
- １．磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部を
構成する多結晶フェライト材の粒界を析出させるに当た
り、Ａｒプラズマによるプラズマエッチングを適用する
ことを特徴とする浮動磁気ヘッドの製造方法。 - ２．磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部を
構成する多結晶フェライト材の粒界を析出させるに当た
り、酸素プラズマによるプラズマエッチングを適用する
ことを特徴とする浮動磁気ヘッドの製造方法。 - ３．磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部を
構成する多結晶フェライト材の粒界を析出させるに当た
り、ＣＦ＿４（テトラフロロメタン）プラズマによるプ
ラズマエッチングを適用することを特徴とする浮動磁気
ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28153389A JPH03146682A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 浮動磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28153389A JPH03146682A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 浮動磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146682A true JPH03146682A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17640497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28153389A Pending JPH03146682A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 浮動磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03146682A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07326150A (ja) * | 1994-05-30 | 1995-12-12 | Nec Corp | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US7114241B2 (en) | 1998-11-11 | 2006-10-03 | Western Digital (Fremont), Inc. | Method of manufacturing a magnetic head device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63241183A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Canon Inc | 対象物の処理方法 |
| JPH01133274A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP28153389A patent/JPH03146682A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63241183A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Canon Inc | 対象物の処理方法 |
| JPH01133274A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07326150A (ja) * | 1994-05-30 | 1995-12-12 | Nec Corp | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US7114241B2 (en) | 1998-11-11 | 2006-10-03 | Western Digital (Fremont), Inc. | Method of manufacturing a magnetic head device |
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