JPH04137216A

JPH04137216A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH04137216A
Application number: JP25730490A
Authority: JP
Inventors: Kotaro Yamamoto; 耕太郎山本
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1990-09-28
Filing date: 1990-09-28
Publication date: 1992-05-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的〕（産業上の利用分野）この発明は、情報か記録される磁気記録媒体に関する。

（従来の技術）一般に、磁気ディスク装置はその起動・停止の際にコン
タクト・スタート・ストップ（Ｃ５Ｓ）方式を採用して
いる。このＣ８Ｓ方式は、磁気ディスクの回転が停止し
ているときは磁気ヘッドはばね力により押さえ付けられ
て磁気ディスクの表面に接触しており、磁気ディスクが
定常回転しているときは回転に伴う空気流による動圧効
果により磁気ヘッドは磁気ディスクから微少量浮上して
、磁気ディスクに対し情報の記録再生を行う。このため
、磁気ヘッドと磁気ディスクとは装置の起動・停止を繰
り返すごとに摺動を繰り返すことになり、この摺動によ
る磁気ヘッドあるいは磁気ディスクの摩耗や損傷を防止
するために、一般に磁気ディスク表面に液体潤滑剤が塗
布されている。

また、磁気ヘッドは磁気ディスクとの接触面が鏡面に仕
上げられ磁気ディスクの停止中は磁気ディスクに押し付
けられているため、磁気ディスクの表面粗さが小さ過ぎ
ると接触時に吸着現象が発生し、起動の際、ディスク駆
動モータが回転できなくなるなどの不具合がある。液体
潤滑剤を塗布していない磁気ディスクであっても、周囲
の水分等を凝集するのでやはり吸着現象が発生する。

そこで、従来ては上記吸着現象を防ぐために第３図に示
す磁気ディスク１の表面３を適度に粗く（表面粗さＲａ
−数１ＯＡ）する、いわゆるテクスチャリングと呼ばれ
る表面加工が行われている。

テクスチャリングは、第４図に磁気ディスク１の一部（
第３のＬ部）を拡大斜視図で、第５図に同拡大断面図で
示すように、鏡面状に研磨したＮ１−Ｐメツキ層を有す
るアルミニウム合金またはガラスで形成したサブストレ
ート（基板）５の表面を研磨テープあるいは研磨砥粒に
よりディスク周方向に研磨して浅い溝７を多数形成し、
表面粗さを大きくするものである。そしてこのテクスチ
ャリングを行ったサブストレート５の表面に下地層９、
磁性層１１．保護層１３を順次スパッタなどで成膜し、
さらに保護層１３上に液体潤滑剤１５を塗布する。これ
により、薄膜磁気ディスクが完成するこのようにして形成された磁気ディスク１の表面３は、
下地層９や磁性層１１などが極めて薄いため、サブスト
レート５の前記テクスチャリングによる粗面がほとんど
そのまま下地層９．磁性層１１、保護層１３を介して液
体潤滑剤１５に現われることになる。

（発明が解決しようとする課題）上記テクスチャリング加工は、磁気ヘッドと磁気ディス
ク表面との吸着現象防止には有効であるものの、記録・
再生特性、例えばＳ／Ｎ比やＯＷＭ特性（再度磁気記録
した場合での前回の磁気情報の消去度）は劣化する。そ
の理由は、この程度の細かい表面粗さＲａ（数１０Ａ）
に対しては磁気ヘッドの浮上動作は追従できず、表面３
の凹凸に関係なくほぼ一定の浮上量で浮上しているとみ
なすことかでき、このときの記録・再生動作は磁性層１
１表面の凹凸の大きさに左右されるからである。したが
ってこの場合、磁気ヘッドと磁性層１１との間の上記凹
凸に対応した空隙の変動か発生することになり、Ｓ／Ｎ
比やＯＷＭ特性の劣化を招くことになる。

第６図は、相互に異なる表面粗さＲａをもつＡ。

Ｂ、Ｃ，Ｄの４つの磁気ディスクについてのＯＷＭ特性
とＳ／Ｎ比を示したものである。これらの特性図から明
らかなように、表面粗さが大きい磁気ディスク（Ａが最
小でＤが最大）はど、ＯＷＭ特性、Ｓ／Ｎ比は悪くなっ
ている。そして、表面粗さの粗大化に伴うこれらの特性
値悪化の傾向は磁気ヘッドの浮上量の微小化に従って強
く現われる。このため、浮上量の微小化による記録密度
の向上は困難となる。また、サブストレートがガラスの
場合では、その硬度が高いので良好な粗面が形成し難く
、記録・再生特性の悪化はさらに顕著なものとなる。

そこでこの発明は、記録・再生特性を悪化させることな
く、磁気ヘッドの記録媒体に対する吸着現象を防止する
ことを目的としている。

［発明の構成］（課題を解決するための手段）前記課題を解決するためにこの発明は、基板の表面を平
滑な鏡面状に形成し、この表面上に磁性層を設け、この
磁性層上に微小な凹凸を備えた保護層を設けたものであ
る。

（作用）磁気ヘッドを記録媒体に対し微小量浮上させると、磁気
ヘッドは記録媒体表面の保護層における凹凸には追従せ
ず、平滑な磁性層に対し一定の空隙を保ちつつ記録・再
生を行い、これにより記録・再生特性の悪化は防止され
る。また、磁気ヘッドが摺接する保護層の表面は凹凸が
形成されているので、磁気ヘッドの記録媒体に対する吸
着現象は防止される。

（実施例）以下、この発明の実施例を図面に基づき説明する。

第１図は、この発明の第１の実施例を示す磁気記録媒体
としての薄膜磁気ディスク２１の断面図で、この磁気デ
ィスク２１はＮ１−Ｐメツキされたアルミニウム合金ま
たはガラスで形成されたサブストレート（基板）２３の
表面を平滑な鏡面状に研磨し、その上に下地層２５．磁
性層２７及び保護層２９か順次スパッタリングなどて積
層して成膜されている。サブストレート（基板）２３の
表面が平滑な鏡面状となっているので、その上に積層さ
れる下地層２５の表面及び磁性層２７の表面も平滑とな
る。そして、保護層２９の表面は、磁気ヘッドと磁気デ
ィスク１との吸着現象防止のためケミカルエツチング、
イオンビームエッチンク、逆スパッタリングなどでテク
スチャリング加工を施し、ディスク周方向に凹凸となる
浅い溝３１を多数形成している。

サブストレート２３上の下地層２５は、磁性層２７が良
好な磁気特性、記録特性を発揮できるよう、磁性層２７
の下に成膜される。磁性層２７は、Ｃｏ合金からなり、
この磁性層２７の磁化により情報が記録される。保護層
２９は、磁性層２７を磁気ヘッドの摺接による摩耗から
保護すると共に、磁性層２７を腐蝕から保護するもので
、保護層２９の表面粗さＲａは１０〜数１０Ａ程度であ
る。

上記第１図の実施例では、保護層２９の表面に周方向の
溝３１をテクスチャリング加工により形成した場合を示
しているが、第２図に示した第２の実施例のように、表
面が平滑となっている磁性層２７上に、凹凸形状または
島状の保護層下地層３３を成膜し、この保護層下地層３
３の上に保護層２９を成膜することによって保護層下地
層３３の凹凸と相似の溝３１を保護層２９の表面に形成
するようにしてもよい。保護層下地層３３の凹凸形状ま
たは島状部位の形成は、単一金属の結晶をスパッタリン
グなどで成長させてもよく、またフォトレジストなどを
用いてパターンを作り形成してもよい。

上記各実施例によれば、磁気ディスク２１を回転させて
磁気ヘッドを磁気ディスク２１に対し微小量浮上させる
と、磁気ヘッドは表面の微小な溝３１には追従せず、平
滑な磁性層２７に対し一定の空隙を保ちつつ記録・再生
を行うことになる。

このため、磁気ヘッドと磁性層２７との間の隙間に変動
がなくなり、記録・再生特性、例えばＳ／Ｎ比やＯＷＭ
特性は良好に維持される。また、保護層２９の表面は適
度な溝３１が形成されているので、磁気ディスク装置の
起動・停止時での磁気ヘッドの磁気ディスク２１に対す
る吸着現象は防止される。

サブストレート２３には凹凸を形成する必要がないので
、研磨に手数を必要とする硬質ガラスでもサブストレー
ト２３として支障なく使用できる。

［発明の効果コ以上のようにこの発明によれば、基板の表面の平滑化に
伴って磁性層の表面は平滑化するため、磁気ヘッドは浮
上時に磁性層に対しほぼ一定の隙間を保持し、記録・再
生特性を良好に維持することができる。また、磁気ヘッ
ドが摺接する保護層の表面には凹凸が形成されているの
で、磁気ヘッドの記憶媒体に対する吸着現象の発生を防
止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第１の実施例を示す磁気ディスクの
部分断面図、第２図はこの発明の第２の実施例を示す磁
気ディスクの部分断面図、第３図は従来の磁気ディスク
の斜視図、第４図は第３図のＬ部の拡大された斜視図、
第５図は第４図の断面図、第６図は相互に異なる表面粗
さを備えた複数の磁気ディスクに対する記録特性を示す
説明図である。２１・・・磁気ディスク（磁気記録媒体）３・・・サブ
スト　　し　− ト（基板）７・・・磁性層９・・・保護層・・・溝（凹凸）

Claims

【特許請求の範囲】

基板の表面を平滑な鏡面状に形成し、この表面上に磁性
層を設け、この磁性層上に微小な凹凸を備えた保護層を
設けたことを特徴とする磁気記録媒体。