JPH0314898A - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
- Publication number
- JPH0314898A JPH0314898A JP10816890A JP10816890A JPH0314898A JP H0314898 A JPH0314898 A JP H0314898A JP 10816890 A JP10816890 A JP 10816890A JP 10816890 A JP10816890 A JP 10816890A JP H0314898 A JPH0314898 A JP H0314898A
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- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning agent
- substrate
- cleaned
- substrates
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- Pending
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- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は洗浄剤に関し、さらに詳細には、半導体製造工
程で使用される基板等の洗浄に有効な洗浄剤に関する。
程で使用される基板等の洗浄に有効な洗浄剤に関する。
ＩＣやＬＳＩ等の半導体の製造に用いられるウエハー等
の基板、フォトリソグラフィー工程で使用されるマスク
やレチクルおよびその前駆体としての石英基板等の基板
、ペリクルを製造する際に使用されるガラス基板等の基
板、ならびに光ディスクの製造に用いるスタンパーの製
造に使用される基板などは、その性質上極めてきれいに
洗浄されている必要がある． ？記のような基板の洗浄方法としては、従来、洗剤水溶
液や超純水中に基板を浸して超音波振動で基板に付着し
ている異物を除去する方法、洗剤水溶液や超純水を用い
てＰＶＡ発泡体等のブラシでこすり洗いする方法、ある
いはＨ２Ｓ０４−Ｈ２０２、ＮＨ４０Ｈ−｝１２０■等
の溶液中に基板を浸して酸化反応で有機物を除去する方
法などにより大部分の汚れを除去した後、イソプロパノ
ールまたはフロン等の洗浄溶媒蒸気中に基板を置き、基
板表面で蒸気を凝縮させて基板表面を洗い流し、基板の
温度が蒸気の温度と等しくなった時点で乾燥状態となる
蒸気洗浄乾燥法が広く用いられている。
の基板、フォトリソグラフィー工程で使用されるマスク
やレチクルおよびその前駆体としての石英基板等の基板
、ペリクルを製造する際に使用されるガラス基板等の基
板、ならびに光ディスクの製造に用いるスタンパーの製
造に使用される基板などは、その性質上極めてきれいに
洗浄されている必要がある． ？記のような基板の洗浄方法としては、従来、洗剤水溶
液や超純水中に基板を浸して超音波振動で基板に付着し
ている異物を除去する方法、洗剤水溶液や超純水を用い
てＰＶＡ発泡体等のブラシでこすり洗いする方法、ある
いはＨ２Ｓ０４−Ｈ２０２、ＮＨ４０Ｈ−｝１２０■等
の溶液中に基板を浸して酸化反応で有機物を除去する方
法などにより大部分の汚れを除去した後、イソプロパノ
ールまたはフロン等の洗浄溶媒蒸気中に基板を置き、基
板表面で蒸気を凝縮させて基板表面を洗い流し、基板の
温度が蒸気の温度と等しくなった時点で乾燥状態となる
蒸気洗浄乾燥法が広く用いられている。
しかし、上記の蒸気洗浄乾燥法でインプロパノールを用
いた場合、イソプロパノールが可燃性であるため、洗浄
工程中に火災、爆発等の事故が発生しやすいという問題
点がある．また、フロンは、近年代替物の使用が望まれ
ている。
いた場合、イソプロパノールが可燃性であるため、洗浄
工程中に火災、爆発等の事故が発生しやすいという問題
点がある．また、フロンは、近年代替物の使用が望まれ
ている。
本発明の目的は，フロンを使用せず、安全でかつイソプ
ロパノールやフロンを使用した時と同等あるいはそれ以
上の洗浄乾燥性が得られる洗浄剤を提案することである
． 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは不燃性で、かつ自然界で分解可能な洗浄溶
媒を探索した結果、五フフ化プロパノールがその条件を
満たすことを発見し，本発明を完成した． すなわち、本発明は、五フッ化プロパノールを含有する
ことを特徴とする洗浄剤である．本発明の洗浄剤の洗浄
対象となる被洗浄物としては，五フッ化プロバノールに
対して安定なものからなるものであれば特に限定されな
いが、特に基板の洗浄に適している．基板としては、例
えばガラス、石英またはこれらの表面にクロム等を蒸着
させて被膜を形威したもの、樹脂、あるいはこれらの上
に回路パターン等を有しているものなどをあげることが
できる．このような被洗浄物として具体的には，半導体
の製造に用いられるウエハー等の基板、フォトリソグラ
フィー工程で使用されるマスクやレチクルおよびその前
駆体としての石英基板等の基板、ペリクルを製造する際
に使用されるガラス基板等の基板、ならびに光ディスク
の製造に用いるスタンパーの製造に使用される基板など
をあげることができる。
ロパノールやフロンを使用した時と同等あるいはそれ以
上の洗浄乾燥性が得られる洗浄剤を提案することである
． 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは不燃性で、かつ自然界で分解可能な洗浄溶
媒を探索した結果、五フフ化プロパノールがその条件を
満たすことを発見し，本発明を完成した． すなわち、本発明は、五フッ化プロパノールを含有する
ことを特徴とする洗浄剤である．本発明の洗浄剤の洗浄
対象となる被洗浄物としては，五フッ化プロバノールに
対して安定なものからなるものであれば特に限定されな
いが、特に基板の洗浄に適している．基板としては、例
えばガラス、石英またはこれらの表面にクロム等を蒸着
させて被膜を形威したもの、樹脂、あるいはこれらの上
に回路パターン等を有しているものなどをあげることが
できる．このような被洗浄物として具体的には，半導体
の製造に用いられるウエハー等の基板、フォトリソグラ
フィー工程で使用されるマスクやレチクルおよびその前
駆体としての石英基板等の基板、ペリクルを製造する際
に使用されるガラス基板等の基板、ならびに光ディスク
の製造に用いるスタンパーの製造に使用される基板など
をあげることができる。
本発明の洗浄剤に使用する五フッ化プロパノールは第１
表に示す分子式を有し、不燃性であり、洗浄乾燥工程で
の火災、爆発等の危険がなく、無毒であり、かつ自然界
において分解するため大気中に拡散しても環境問題を誘
発する心配はない。
表に示す分子式を有し、不燃性であり、洗浄乾燥工程で
の火災、爆発等の危険がなく、無毒であり、かつ自然界
において分解するため大気中に拡散しても環境問題を誘
発する心配はない。
五フッ化プロパノールの諸物性を第ｌ表に示す。
第 １ 表
本発明の洗浄剤は五フッ化プロパノールを含有する洗浄
剤であり、五フフ化プロバノール単独からなるものでも
よいが，水，炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アルコー
ルなどの他の溶媒を含有していてもよい． ？発明の洗浄剤による洗浄方法は、洗浄剤中に被洗浄物
を浸漬したり、被洗浄物に洗浄剤をスプレーしたりする
方法などによることもできるが、特に蒸気洗浄が好まし
い。蒸気洗浄法は洗浄剤の蒸気中に被洗浄物を入れて被
洗浄物表面を洗浄した後乾燥させる。
剤であり、五フフ化プロバノール単独からなるものでも
よいが，水，炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アルコー
ルなどの他の溶媒を含有していてもよい． ？発明の洗浄剤による洗浄方法は、洗浄剤中に被洗浄物
を浸漬したり、被洗浄物に洗浄剤をスプレーしたりする
方法などによることもできるが、特に蒸気洗浄が好まし
い。蒸気洗浄法は洗浄剤の蒸気中に被洗浄物を入れて被
洗浄物表面を洗浄した後乾燥させる。
その具体的な洗浄方法としては、従来法と同様に、洗剤
水溶液や超純水中に被洗浄物を浸して超音波振動で被洗
浄物に付着している異物を除去する方法、洗剤水溶液や
超純水を用いてＰＶＡ発泡体等のブラシでこすり洗いす
る方法、あるいはＨ２Ｓ０４−｝１２０２、ＮＨ４０Ｈ
−Ｈ，Ｏ■等の溶液中に被洗浄物を浸して酸化反応で有
機物を除去する方法などの前処理法により大部分の汚れ
を除去した後、本発明の五フッ化プロパノールを含有す
る洗浄剤の蒸気中に被洗浄物を置き、被洗浄物表面で蒸
気を凝縮させて被洗浄物表面を洗い流し、被洗浄物の温
度が蒸気の温度と等しくなった時点で乾燥状態となり，
洗浄乾燥を終る。
水溶液や超純水中に被洗浄物を浸して超音波振動で被洗
浄物に付着している異物を除去する方法、洗剤水溶液や
超純水を用いてＰＶＡ発泡体等のブラシでこすり洗いす
る方法、あるいはＨ２Ｓ０４−｝１２０２、ＮＨ４０Ｈ
−Ｈ，Ｏ■等の溶液中に被洗浄物を浸して酸化反応で有
機物を除去する方法などの前処理法により大部分の汚れ
を除去した後、本発明の五フッ化プロパノールを含有す
る洗浄剤の蒸気中に被洗浄物を置き、被洗浄物表面で蒸
気を凝縮させて被洗浄物表面を洗い流し、被洗浄物の温
度が蒸気の温度と等しくなった時点で乾燥状態となり，
洗浄乾燥を終る。
以下、本発明の洗浄剤による洗浄乾燥方法の好ましい例
を図を用いて説明する． 第１図は蒸気洗浄乾燥装置１の概念図であり、２は洗浄
槽、３はヒーター、４は五フッ化プロバノールを含有す
る洗浄剤、５は被洗浄物としての基板、６は熱媒、７は
冷却水、８は支持体である．洗浄槽２はヒーター３によ
り熱媒６が加温されることにより洗浄剤４が蒸発して、
その蒸気により満たされる。このような洗浄槽２に前処
理を行った基板５が置かれると、基板５の温度は洗浄剤
４の蒸気の温度より低いため、基板５の表面上に洗浄剤
４が凝縮して液化する．この液化した洗浄剤４により基
板５表面が洗い流されて洗浄される，その後、基板５の
温度が上昇するとともに凝縮する洗浄剤４の量が減少し
、基板５の温度と洗浄剤４の蒸気の温度が等しくなった
時点で凝縮は起らなくなり，基板５は乾燥状態となる。
を図を用いて説明する． 第１図は蒸気洗浄乾燥装置１の概念図であり、２は洗浄
槽、３はヒーター、４は五フッ化プロバノールを含有す
る洗浄剤、５は被洗浄物としての基板、６は熱媒、７は
冷却水、８は支持体である．洗浄槽２はヒーター３によ
り熱媒６が加温されることにより洗浄剤４が蒸発して、
その蒸気により満たされる。このような洗浄槽２に前処
理を行った基板５が置かれると、基板５の温度は洗浄剤
４の蒸気の温度より低いため、基板５の表面上に洗浄剤
４が凝縮して液化する．この液化した洗浄剤４により基
板５表面が洗い流されて洗浄される，その後、基板５の
温度が上昇するとともに凝縮する洗浄剤４の量が減少し
、基板５の温度と洗浄剤４の蒸気の温度が等しくなった
時点で凝縮は起らなくなり，基板５は乾燥状態となる。
洗浄剤４の蒸気は冷却水７により，洗浄槽２からの散逸
が防止される６ このようにして洗浄乾燥された基板５表面には洗浄剤は
残留しない。また、洗浄後の乾燥にかかる時間も短く、
短時間で乾燥することができる。
が防止される６ このようにして洗浄乾燥された基板５表面には洗浄剤は
残留しない。また、洗浄後の乾燥にかかる時間も短く、
短時間で乾燥することができる。
本発明によれば、洗浄剤の成分として五フッ化プロパノ
ールを使用するようにしたので、フロンを全く使用せず
、従来の方法においてインプロパノールを洗浄溶媒とし
て用いた場合に問題となる火災や爆発の危険を回避でき
，さらに従来の方法と同等あるいはそれ以上の洗浄乾燥
性で被洗浄物の洗浄乾燥を行うことができる。
ールを使用するようにしたので、フロンを全く使用せず
、従来の方法においてインプロパノールを洗浄溶媒とし
て用いた場合に問題となる火災や爆発の危険を回避でき
，さらに従来の方法と同等あるいはそれ以上の洗浄乾燥
性で被洗浄物の洗浄乾燥を行うことができる。
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例ｌ
洗浄剤として第１表に示す五フッ化プロパノールを用い
て、第１図に示す方法によりレチクル用のガラス基板の
洗浄乾燥を行い、基板の洗浄乾燥状態および水切れ状態
を目視してＩｌ！察した。なお、五フッ化プロパノール
を用いた洗浄乾燥に先立ち、基板の予備洗浄として硫酸
洗浄（１２０℃×５分）→水洗（５分）→水超音波洗浄
（３分）を行った。結果を第２表に示す。
て、第１図に示す方法によりレチクル用のガラス基板の
洗浄乾燥を行い、基板の洗浄乾燥状態および水切れ状態
を目視してＩｌ！察した。なお、五フッ化プロパノール
を用いた洗浄乾燥に先立ち、基板の予備洗浄として硫酸
洗浄（１２０℃×５分）→水洗（５分）→水超音波洗浄
（３分）を行った。結果を第２表に示す。
比較例１および２
洗浄剤としてイソプロパノール（比較例ｌ）またはフロ
ン（比較例２）を用いて実施例１と同様にして行った。
ン（比較例２）を用いて実施例１と同様にして行った。
結果を第２表に示す。
第２表
８は支持体を示す。
Claims (1)
- （１）五フッ化プロパノールを含有することを特徴とす
る洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10816890A JPH0314898A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10816890A JPH0314898A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 洗浄剤 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1022838A Division JPH02203529A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 基板の洗浄乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0314898A true JPH0314898A (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=14477710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10816890A Pending JPH0314898A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0314898A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP10816890A patent/JPH0314898A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
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