JPH0315280B2 - - Google Patents
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- JPH0315280B2 JPH0315280B2 JP58030240A JP3024083A JPH0315280B2 JP H0315280 B2 JPH0315280 B2 JP H0315280B2 JP 58030240 A JP58030240 A JP 58030240A JP 3024083 A JP3024083 A JP 3024083A JP H0315280 B2 JPH0315280 B2 JP H0315280B2
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- Japan
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- transistor
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- supply line
- power supply
- semiconductor memory
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/414—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the bipolar type
- G11C11/415—Address circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔従来技術〕
本発明は、行列マトリツクスに配置したメモリ
セルを有する半導体メモリであつて、各メモリセ
ルがエミツタ接続した2つのトランジスタを有
し、これらトランジスタのコレクタをベースに交
差接続し、マトリツクスの行中のメモリセルが第
1および第2の給電ライン間に互いに並列に接続
されており、第1給電ラインをライン選択電位或
いは休止電位にする為のスイツチング手段が第1
給電ラインに接続されており、給電ラインに接続
された各メモリセル内に記憶されたデータを維持
する為の電流源が第2給電ラインに接続されてお
り、前記のスイツチング手段が第1トランジスタ
を具えており、該第1トランジスタのエミツタが
第1給電ラインに接続され、そのベースが第1給
電ラインをライン選択電位にする為の電圧パルス
を受けるようにし、前記のスイツチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電
位に放電させるか或いは第2給電ラインを放電さ
せる為の他のトランジスタを具えており、前記の
半導体メモリが更に、第1トランジスタのベース
における電圧パルスの終了を検出するとともに前
記の他のトランジスタを制御する検出手段を具え
ており、この目的の為に該検出手段が第1トラン
ジスタのベースに少くとも間接的に接続されてい
るようにした半導体メモリに関するものである。
セルを有する半導体メモリであつて、各メモリセ
ルがエミツタ接続した2つのトランジスタを有
し、これらトランジスタのコレクタをベースに交
差接続し、マトリツクスの行中のメモリセルが第
1および第2の給電ライン間に互いに並列に接続
されており、第1給電ラインをライン選択電位或
いは休止電位にする為のスイツチング手段が第1
給電ラインに接続されており、給電ラインに接続
された各メモリセル内に記憶されたデータを維持
する為の電流源が第2給電ラインに接続されてお
り、前記のスイツチング手段が第1トランジスタ
を具えており、該第1トランジスタのエミツタが
第1給電ラインに接続され、そのベースが第1給
電ラインをライン選択電位にする為の電圧パルス
を受けるようにし、前記のスイツチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電
位に放電させるか或いは第2給電ラインを放電さ
せる為の他のトランジスタを具えており、前記の
半導体メモリが更に、第1トランジスタのベース
における電圧パルスの終了を検出するとともに前
記の他のトランジスタを制御する検出手段を具え
ており、この目的の為に該検出手段が第1トラン
ジスタのベースに少くとも間接的に接続されてい
るようにした半導体メモリに関するものである。
この種類のメモリは特開昭55−129992号明細書
から既知であり、ここにはE.C.L技術に基づいた
静的メモリが記載されている。
から既知であり、ここにはE.C.L技術に基づいた
静的メモリが記載されている。
本発明は特にE.C.L技術(エミツタ結合論理技
術)によつて造つたRAMメモリに関するもので
あるがこれに限定されるものではない。
術)によつて造つたRAMメモリに関するもので
あるがこれに限定されるものではない。
従来技術によれば、常規作動中はメモリの行
(選択された行)のセルは給電ラインを経て高
(選択)電位VHの点に接続され、他の行のすべて
の他のセルはこれらの他の行の数に相当する本数
の給電ラインを経て低(休止)電位VBの点に接
続されている。2つの異なる行に属している2つ
のセル間の転移に際しては、選択された給電ライ
ンの電位をVHからVBにできるだけ迅速に減少せ
しめる必要がある。メモリセルの行に対する給電
ラインは比較的大きなキヤパシタンスすなわち容
量(行の16,32,64…個のセルを相互連結するア
ルミニウムテープの容量と各セルの自己容量)を
有する。この大きな容量が、行が休止電位に急速
に放電するのを阻止する。上述した転移の瞬時に
特別な放電電流を発生させることは知られてお
り、この放電電流はしばしば“付加電流”と称さ
れており、放電さすべき給電ラインに供給され
る。
(選択された行)のセルは給電ラインを経て高
(選択)電位VHの点に接続され、他の行のすべて
の他のセルはこれらの他の行の数に相当する本数
の給電ラインを経て低(休止)電位VBの点に接
続されている。2つの異なる行に属している2つ
のセル間の転移に際しては、選択された給電ライ
ンの電位をVHからVBにできるだけ迅速に減少せ
しめる必要がある。メモリセルの行に対する給電
ラインは比較的大きなキヤパシタンスすなわち容
量(行の16,32,64…個のセルを相互連結するア
ルミニウムテープの容量と各セルの自己容量)を
有する。この大きな容量が、行が休止電位に急速
に放電するのを阻止する。上述した転移の瞬時に
特別な放電電流を発生させることは知られてお
り、この放電電流はしばしば“付加電流”と称さ
れており、放電さすべき給電ラインに供給され
る。
この“付加電流”を適当な瞬時に、放電さすべ
き給電ラインとこれに関連する放電回路との間で
切換えることは、IEEEの文献CH1626
(January1981),“Large E.C.L. Bipolar
RAMS”(第120〜124頁,第11図)に開示され
ている。
き給電ラインとこれに関連する放電回路との間で
切換えることは、IEEEの文献CH1626
(January1981),“Large E.C.L. Bipolar
RAMS”(第120〜124頁,第11図)に開示され
ている。
この文献に記載されている回路では、セルの行
に対する給電ラインに接続されているアドレス回
路(このアドレス回路は特にこの文献で“第1ト
ランジスタ”と称されているアドレストランジス
タを有している)のいずれかの側で選択された所
定の2点間でVH→VBの転移の瞬時に生じる動的
な電位差を利用している。VH→VBの転移の縮時
には上記の2点における電圧が変化する。すなわ
ちアドレス回路における電圧が低容量の制御回路
の為にVHからVBに直ちに減少するも、給電ライ
ン上の電圧はこの給電ラインの容量が比較的大き
い為比較的ゆつくり減少する。
に対する給電ラインに接続されているアドレス回
路(このアドレス回路は特にこの文献で“第1ト
ランジスタ”と称されているアドレストランジス
タを有している)のいずれかの側で選択された所
定の2点間でVH→VBの転移の瞬時に生じる動的
な電位差を利用している。VH→VBの転移の縮時
には上記の2点における電圧が変化する。すなわ
ちアドレス回路における電圧が低容量の制御回路
の為にVHからVBに直ちに減少するも、給電ライ
ン上の電圧はこの給電ラインの容量が比較的大き
い為比較的ゆつくり減少する。
従来技術によれば、前記の動的な電位差が第1
の差動増幅器により検出これ、これにより第2の
差動増幅器を制御し、この第2の差動増幅器によ
り付加電流を、放電さすべき給電ラインに供給し
ている。
の差動増幅器により検出これ、これにより第2の
差動増幅器を制御し、この第2の差動増幅器によ
り付加電流を、放電さすべき給電ラインに供給し
ている。
この回路を用いることにより実際に給電ライン
の放電を迅速に達成し得るも、この付加電流源は
永続的に作動している。すなわちこの付加電流源
はこの付加電流を実際に必要とする瞬時にのみ作
動するものではない。付加電流は数ミリアンペア
の電流強度を有しており、メモリの零入力電流の
可成りの部分を占めており、無視することができ
ない。このことはエネルギー消費の点で重大な欠
点となるものであり、従つて不必要な熱が半導体
メモリ内に発生する。また従来のこの回路は複雑
であり、多くの回路素子を有しており、従つてメ
モリの半導体結晶上で比較的大きなスペースを占
める。
の放電を迅速に達成し得るも、この付加電流源は
永続的に作動している。すなわちこの付加電流源
はこの付加電流を実際に必要とする瞬時にのみ作
動するものではない。付加電流は数ミリアンペア
の電流強度を有しており、メモリの零入力電流の
可成りの部分を占めており、無視することができ
ない。このことはエネルギー消費の点で重大な欠
点となるものであり、従つて不必要な熱が半導体
メモリ内に発生する。また従来のこの回路は複雑
であり、多くの回路素子を有しており、従つてメ
モリの半導体結晶上で比較的大きなスペースを占
める。
本発明の目的は、従来技術によるのと同じ原理
に基づいて構成するも、付加放電電流に対し永続
的に作動する電流源を用いず、従つてエネルギー
が熱となつて消費されるのを著しく減少せしめた
半導体メモリを提供せんとするにある。本発明の
他の目的は、比較的簡単で数個の素子のみを有
し、従つてわずかなスペースしか必要としない半
導体メモリを提供せんとするにある。
に基づいて構成するも、付加放電電流に対し永続
的に作動する電流源を用いず、従つてエネルギー
が熱となつて消費されるのを著しく減少せしめた
半導体メモリを提供せんとするにある。本発明の
他の目的は、比較的簡単で数個の素子のみを有
し、従つてわずかなスペースしか必要としない半
導体メモリを提供せんとするにある。
本発明は、行列マトリツクスに配置したメモリ
セルを有する半導体メモリであつて、各メモリセ
ルがエミツタ接続した2つのトランジスタを有
し、これらトランジスタのコレクタをベースに交
差接続し、マトリツクスの行中のメモリセルが第
1および第2の給電ライン間に互いに並列に接続
されており、第1給電ラインをライン選択電位或
いは休止電位にする為のスイツチング手段が第1
給電ラインに接続されており、給電ラインに接続
され各メモリセル内に記憶されたデータを維持す
る為の電流源が第2給電ラインに接続されてお
り、前記のスイツチング手段が第1トランジスタ
を具えており、該第1トランジスタのエミツタが
第1給電ラインに接続され、そのベースが第1給
電ラインをライン選択電位にする為の電圧パルス
を受けるようにし、前記のスイツチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電
位に放電させるか或いは第2給電ラインを放電さ
せる為の他のトランジスタを具えており、前記の
半導体メモリが更に、第1トランジスタのベース
における電圧パルスの終了を検出するとともに前
記の他のトランジスタを制御する検出手段を具え
ており、この目的の為に該検出手段が第1トラン
ジスタのベースに少くとも間接的に接続されてい
るようにした半導体メモリにおいて、前記の検出
手段が第2トランジスタを具え、該第2トランジ
スタのエミツタを第1給電ラインに接続し、該第
2トランジスタのベースを少くとも間接的に第1
トランジスタのベースに接続し、前記の他のトラ
ンジスタを前記の第2トランジスタのコレクタを
経て制御し、第1および第2トランジスタをそれ
ぞれ第1および第2の導電型としたことを特徴と
する。
セルを有する半導体メモリであつて、各メモリセ
ルがエミツタ接続した2つのトランジスタを有
し、これらトランジスタのコレクタをベースに交
差接続し、マトリツクスの行中のメモリセルが第
1および第2の給電ライン間に互いに並列に接続
されており、第1給電ラインをライン選択電位或
いは休止電位にする為のスイツチング手段が第1
給電ラインに接続されており、給電ラインに接続
され各メモリセル内に記憶されたデータを維持す
る為の電流源が第2給電ラインに接続されてお
り、前記のスイツチング手段が第1トランジスタ
を具えており、該第1トランジスタのエミツタが
第1給電ラインに接続され、そのベースが第1給
電ラインをライン選択電位にする為の電圧パルス
を受けるようにし、前記のスイツチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電
位に放電させるか或いは第2給電ラインを放電さ
せる為の他のトランジスタを具えており、前記の
半導体メモリが更に、第1トランジスタのベース
における電圧パルスの終了を検出するとともに前
記の他のトランジスタを制御する検出手段を具え
ており、この目的の為に該検出手段が第1トラン
ジスタのベースに少くとも間接的に接続されてい
るようにした半導体メモリにおいて、前記の検出
手段が第2トランジスタを具え、該第2トランジ
スタのエミツタを第1給電ラインに接続し、該第
2トランジスタのベースを少くとも間接的に第1
トランジスタのベースに接続し、前記の他のトラ
ンジスタを前記の第2トランジスタのコレクタを
経て制御し、第1および第2トランジスタをそれ
ぞれ第1および第2の導電型としたことを特徴と
する。
給電ラインと第1トランジスタのベースとの間
に生じる電位差は第2トランジスタのベース−エ
ミツタ回路により検出され、これにより第2トラ
ンジスタが導通する。
に生じる電位差は第2トランジスタのベース−エ
ミツタ回路により検出され、これにより第2トラ
ンジスタが導通する。
第2トランジスタを流れる電流は他のトランジ
スタと称する第1導電型の少くとも1つのトラン
ジスタにより増幅される。得られた放電電流は第
1給電ライン或いは第2給電ラインのいずれかに
供給する。
スタと称する第1導電型の少くとも1つのトラン
ジスタにより増幅される。得られた放電電流は第
1給電ライン或いは第2給電ラインのいずれかに
供給する。
従来技術に比べて本発明によれば、付加放電電
流がわずかな期間の間流れるだけであるという利
点が得られる。すなわち他のいかなる瞬時におい
ても、行が選択されているか休止状態にあるかに
かかわらず、第2トランジスタは非導通状態に維
持される。これにより、従来技術のメモリに比べ
てメモリ内のエネルギー消費を著しく減少せしめ
る。また本発明によれば、メモリ回路を集積化す
る半導体結晶上のスペースを節約しうる。その理
由は、本発明による回路は特にわずかな個数の素
子しか有さない為である。
流がわずかな期間の間流れるだけであるという利
点が得られる。すなわち他のいかなる瞬時におい
ても、行が選択されているか休止状態にあるかに
かかわらず、第2トランジスタは非導通状態に維
持される。これにより、従来技術のメモリに比べ
てメモリ内のエネルギー消費を著しく減少せしめ
る。また本発明によれば、メモリ回路を集積化す
る半導体結晶上のスペースを節約しうる。その理
由は、本発明による回路は特にわずかな個数の素
子しか有さない為である。
第2トランジスタのエミツタは行の第1給電ラ
インに、従つて第1トランジスタのエミツタにも
接続するのが好ましい。休止状態において適当な
バイアス電圧を得る為には、電流源に接続されて
いる第2トランジスタのベースを、ダイオードと
第1導電型の第4トランジスタのエミツタ−ベー
ス通路とを(この順序で)経て第1トランジスタ
のベースにも接続し、この第4トランジスタのベ
ースおよびコレクタを第1トランジスタのベース
およびコレクタにそれぞれ接続する。前述したよ
うにダイオードは第2トランジスタのエミツタお
よびベース間に静的なバイアス電圧を設定する
為、第2トランジスタは導通状態に近い状態とな
り、従つて、給電ラインおよびメモリセルの行が
選択状態から非選択状態に切換わると第2トラン
ジスタは極めて迅速に導通状態となる。
インに、従つて第1トランジスタのエミツタにも
接続するのが好ましい。休止状態において適当な
バイアス電圧を得る為には、電流源に接続されて
いる第2トランジスタのベースを、ダイオードと
第1導電型の第4トランジスタのエミツタ−ベー
ス通路とを(この順序で)経て第1トランジスタ
のベースにも接続し、この第4トランジスタのベ
ースおよびコレクタを第1トランジスタのベース
およびコレクタにそれぞれ接続する。前述したよ
うにダイオードは第2トランジスタのエミツタお
よびベース間に静的なバイアス電圧を設定する
為、第2トランジスタは導通状態に近い状態とな
り、従つて、給電ラインおよびメモリセルの行が
選択状態から非選択状態に切換わると第2トラン
ジスタは極めて迅速に導通状態となる。
所望の静的なバイアス電圧の設定を得る方法は
他にもあること明らかである。第2トランジスタ
のエミツタが行の第1給電ラインにも接続されて
おり、上述した例とはわずかに相違する回路の例
では、第2トランジスタのベースを電流源に且つ
第1導電型の第4トランジスタのエミツタにも接
続し、この第4トランジスタのベースを抵抗分圧
器のタツプに接続し、この抵抗分圧器の一端を第
1トランジスタのベースに接続し、この抵抗分圧
器の他端を第1導電型の前記の第1トランジスタ
のコレクタに接続する。
他にもあること明らかである。第2トランジスタ
のエミツタが行の第1給電ラインにも接続されて
おり、上述した例とはわずかに相違する回路の例
では、第2トランジスタのベースを電流源に且つ
第1導電型の第4トランジスタのエミツタにも接
続し、この第4トランジスタのベースを抵抗分圧
器のタツプに接続し、この抵抗分圧器の一端を第
1トランジスタのベースに接続し、この抵抗分圧
器の他端を第1導電型の前記の第1トランジスタ
のコレクタに接続する。
図面につき本発明を説明する。
第1図はメモリマトリツクスの1つの行に関す
る本発明によるメモリ回路の一部のみを示す。メ
モリのマトリツクスの行の各々に対し同じ回路を
用いる。列区分および読出し回路等のようなメモ
リの他の部分自体は既知であり、その説明は省略
する。
る本発明によるメモリ回路の一部のみを示す。メ
モリのマトリツクスの行の各々に対し同じ回路を
用いる。列区分および読出し回路等のようなメモ
リの他の部分自体は既知であり、その説明は省略
する。
第1図のメモリマトリツクス行10は既知のよ
うにして形成し、2つの給電ライン11および1
2間に並列に接続された複数のメモリセル13を
有する。本例ではメモリセル13を構成が周知の
E.C.L型とする。この構成を、上記のメモリセル
を表わすブロツクの1つの中に示す。すなわち、
2つのエミツタを有しフリツプフロツプとして接
続されている2つのトランジスタがこれら2つの
エミツタのうちの第1のエミツタおよび共通抵抗
を経て第2の給電ライン12に接続されている。
各トランジスタの第2のエミツタは列導線の一本
に接続されている。交差的に結合されているベー
スおよびコレクタは抵抗を経て第1の給電ライン
11に接続されている。図面を簡潔とする為にメ
モリセル内には符号を付さなかつた。
うにして形成し、2つの給電ライン11および1
2間に並列に接続された複数のメモリセル13を
有する。本例ではメモリセル13を構成が周知の
E.C.L型とする。この構成を、上記のメモリセル
を表わすブロツクの1つの中に示す。すなわち、
2つのエミツタを有しフリツプフロツプとして接
続されている2つのトランジスタがこれら2つの
エミツタのうちの第1のエミツタおよび共通抵抗
を経て第2の給電ライン12に接続されている。
各トランジスタの第2のエミツタは列導線の一本
に接続されている。交差的に結合されているベー
スおよびコレクタは抵抗を経て第1の給電ライン
11に接続されている。図面を簡潔とする為にメ
モリセル内には符号を付さなかつた。
第1給電ライン11はpnp型トランジスタT1の
エミツタに接続する。このトランジスタを以後第
1トランジスタと称する。第1トランジスタT1
のコレクタは正電圧ライン15に接続する。。第
1トランジスタT1のベースには給電ライン11
の状態(選択された状態であるか休止状態である
か)を制御する電圧パルスを供給する。
エミツタに接続する。このトランジスタを以後第
1トランジスタと称する。第1トランジスタT1
のコレクタは正電圧ライン15に接続する。。第
1トランジスタT1のベースには給電ライン11
の状態(選択された状態であるか休止状態である
か)を制御する電圧パルスを供給する。
第2給電ライン12は線図的に示す電流源16
に接続し、この電流源はセル13に、これらセル
に記憶されているデータを維持するのに必要な電
流を供給する作用をする。
に接続し、この電流源はセル13に、これらセル
に記憶されているデータを維持するのに必要な電
流を供給する作用をする。
メモリセル13の給電ライン11および12は
大地に対し比較的大きな電気的容量(キヤパシタ
ンス)を有している。関連の給電ライン11およ
び12と大地との間に接続したコンデンンサ17
および18によつて線図的に示すこの容量は、ラ
イン11および12が長くなればなる程およびセ
ル13の個数が多くなればなる程大きくなる。給
電ライン11が、選択された状態(第1トランジ
スタT1のベースに高電圧VHが印加された状態)
から休止状態(第1トランジスタT1のベースに
低電圧VBが印加されている状態)に転移する際、
第1トランジスタT1のベース側における電圧は
VHからVBに迅速に変化するも、ライン11およ
び12における電圧はコンデンサ17および18
の放電期間の為に第1トランジスタT1のベース
における電圧よりも著しくゆつくり変化する。従
つて、ライン11の放電中第1トランジスタT1
のベースとそのエミツタとの間に動的な電位差が
生じる。この電位差は、本発明によるメモリ回路
における検出後に、ライン11或いは12の放電
を迅速にする為の瞬時電流を形成するのに用い
る。前述したように本発明によるメモリ回路は、
第2導電型(本例の場合pnp型)のトランジスタ
T2(以後第2トランジスタと称する)を具え、そ
のエミツタを行の給電ライン(本例の場合ライン
11)に接続し、ベースを端子19に接続し、こ
の端子を電流源4に接続するとともにトランジス
タT1のベースに間接的に接続し、トランジスタ
T2のコレクタを少くとも1つの他のnpn型トラン
ジスタT3を経て行10の給電ライン11或いは
12に接続したことを特徴としている。第2トラ
ンジスタTのコレクタはトランジスタT3のベー
スに接続する。トランジスタT3のエミツタは接
地しそのコレクタは点Aでライン11に接続す
る。或いはまた、トランジスタT3のコレクタは
給電ライン11上の点Aの代りに給電ライン12
上の点Bに接続することができる。
大地に対し比較的大きな電気的容量(キヤパシタ
ンス)を有している。関連の給電ライン11およ
び12と大地との間に接続したコンデンンサ17
および18によつて線図的に示すこの容量は、ラ
イン11および12が長くなればなる程およびセ
ル13の個数が多くなればなる程大きくなる。給
電ライン11が、選択された状態(第1トランジ
スタT1のベースに高電圧VHが印加された状態)
から休止状態(第1トランジスタT1のベースに
低電圧VBが印加されている状態)に転移する際、
第1トランジスタT1のベース側における電圧は
VHからVBに迅速に変化するも、ライン11およ
び12における電圧はコンデンサ17および18
の放電期間の為に第1トランジスタT1のベース
における電圧よりも著しくゆつくり変化する。従
つて、ライン11の放電中第1トランジスタT1
のベースとそのエミツタとの間に動的な電位差が
生じる。この電位差は、本発明によるメモリ回路
における検出後に、ライン11或いは12の放電
を迅速にする為の瞬時電流を形成するのに用い
る。前述したように本発明によるメモリ回路は、
第2導電型(本例の場合pnp型)のトランジスタ
T2(以後第2トランジスタと称する)を具え、そ
のエミツタを行の給電ライン(本例の場合ライン
11)に接続し、ベースを端子19に接続し、こ
の端子を電流源4に接続するとともにトランジス
タT1のベースに間接的に接続し、トランジスタ
T2のコレクタを少くとも1つの他のnpn型トラン
ジスタT3を経て行10の給電ライン11或いは
12に接続したことを特徴としている。第2トラ
ンジスタTのコレクタはトランジスタT3のベー
スに接続する。トランジスタT3のエミツタは接
地しそのコレクタは点Aでライン11に接続す
る。或いはまた、トランジスタT3のコレクタは
給電ライン11上の点Aの代りに給電ライン12
上の点Bに接続することができる。
更に、トランジスタT1およびT2のベース間の
接続は直接的でなく間接的とする。すなわちこの
接続は端子19からダイオード20(このダイオ
ードの陰極をこの端子19に接続する)およびト
ランジスタT4(npn型)のベース−エミツタ接合
を経る接続とする。トランジスタT4のベースお
よびコレクタはトランジスタT1のベースおよび
コレクタにそれぞれ接続する。
接続は直接的でなく間接的とする。すなわちこの
接続は端子19からダイオード20(このダイオ
ードの陰極をこの端子19に接続する)およびト
ランジスタT4(npn型)のベース−エミツタ接合
を経る接続とする。トランジスタT4のベースお
よびコレクタはトランジスタT1のベースおよび
コレクタにそれぞれ接続する。
ダイオード20は第2トランジスタT2のベー
スおよびエミツタ間に適切なバイアス電圧を形成
するも、このバイアス電圧により、給電ライン1
1が休止電位を有する場合にこの第2トランジス
タT2を丁度導通せしめないように(導通状態の
直前の状態)する為に設けたものである。
スおよびエミツタ間に適切なバイアス電圧を形成
するも、このバイアス電圧により、給電ライン1
1が休止電位を有する場合にこの第2トランジス
タT2を丁度導通せしめないように(導通状態の
直前の状態)する為に設けたものである。
第2トランジスタT2のベースは端子19を経
て電流回路に接続する。この電流回路は、トラン
ジスタT1およびT4からの電流回路として、ダイ
オード20および電流源4を有している。この電
流回路は給電ライン11或いは12に対して極め
て小さな容量を有している。従つて、トランジス
タT2のベースにおける電圧変化は殆んどトラン
ジスタT1のベースにおける電圧変化と同期し、
一方トランジスタT1およびT2のエミツタにおけ
るVHからVBへの電圧変化はコンデンサ17およ
び18の容量が大きい為に著しくゆつくりとな
る。
て電流回路に接続する。この電流回路は、トラン
ジスタT1およびT4からの電流回路として、ダイ
オード20および電流源4を有している。この電
流回路は給電ライン11或いは12に対して極め
て小さな容量を有している。従つて、トランジス
タT2のベースにおける電圧変化は殆んどトラン
ジスタT1のベースにおける電圧変化と同期し、
一方トランジスタT1およびT2のエミツタにおけ
るVHからVBへの電圧変化はコンデンサ17およ
び18の容量が大きい為に著しくゆつくりとな
る。
メモリセルのライン11が選択されているか選
択されていない安定な作動状態にある場合は、ト
ランジスタT2のバイアス電圧をこのトランジス
タT2が丁度遮断状態となるような(導通状態の
直前の状態となるような)電圧とする。ライン1
1が選択信号を受けると(すなわち正電圧がトラ
ンジスタT1のベースに印加されると)、トランジ
スタT2のベースおよびエミツタにおける電圧が
ほぼ同時に増大し、最終的に互いに等しくなる
(実際にはトランジスタT2のエミツタ側で前述し
た容量比の為にわずかな遅延が常に正じ、この遅
延がトランジスタT2のバイアス電圧の減少に寄
与する)。従つてトランジスタT2は、ライン11
が非選択状態から選択状態に転移する際に遮断状
態に維持される。VHがVBに変化する場合には上
述した状態と逆の状態が生じる。すなわちトラン
ジスタT2のベースにおける電圧は電気的な容量
に関する前述した理由の為にトランジスタT2の
エミツタにおける電圧減少よりも早く減少する。
従つてトランジスタT2のベース−エミツタダイ
オード(接合)の端子間電圧は増大し、この電圧
の増大によりこのトランジスタを急激に導通状態
とする。従つて電流がこのトランジスタT2を経
て流れ、トランジスタT3によつて増幅される。
トランジスタT3によつて増幅された電流は点A
においてライン11に或いは点Bにおいてライン
12に供給され、これによりコンデンサ17およ
び18の放電を早める。放電処理が進行すると、
トランジスタT2のエミツタにおける電圧が減少
し、トランジスタT2のベースおよびエミツタ間
の電圧は直ちにこのトランジスタが再び遮断状態
となるような電圧になる。
択されていない安定な作動状態にある場合は、ト
ランジスタT2のバイアス電圧をこのトランジス
タT2が丁度遮断状態となるような(導通状態の
直前の状態となるような)電圧とする。ライン1
1が選択信号を受けると(すなわち正電圧がトラ
ンジスタT1のベースに印加されると)、トランジ
スタT2のベースおよびエミツタにおける電圧が
ほぼ同時に増大し、最終的に互いに等しくなる
(実際にはトランジスタT2のエミツタ側で前述し
た容量比の為にわずかな遅延が常に正じ、この遅
延がトランジスタT2のバイアス電圧の減少に寄
与する)。従つてトランジスタT2は、ライン11
が非選択状態から選択状態に転移する際に遮断状
態に維持される。VHがVBに変化する場合には上
述した状態と逆の状態が生じる。すなわちトラン
ジスタT2のベースにおける電圧は電気的な容量
に関する前述した理由の為にトランジスタT2の
エミツタにおける電圧減少よりも早く減少する。
従つてトランジスタT2のベース−エミツタダイ
オード(接合)の端子間電圧は増大し、この電圧
の増大によりこのトランジスタを急激に導通状態
とする。従つて電流がこのトランジスタT2を経
て流れ、トランジスタT3によつて増幅される。
トランジスタT3によつて増幅された電流は点A
においてライン11に或いは点Bにおいてライン
12に供給され、これによりコンデンサ17およ
び18の放電を早める。放電処理が進行すると、
トランジスタT2のエミツタにおける電圧が減少
し、トランジスタT2のベースおよびエミツタ間
の電圧は直ちにこのトランジスタが再び遮断状態
となるような電圧になる。
付加放電電流は、このような電流を実際に必要
とする短かい期間中のみ存在することに注意する
必要がある。この点が、永続的に作動する放電電
流源を有し、セルの行がもはや選択されなくなる
瞬時に上記の電流源の電流がこの行に正しく切換
わつて与えられるようにした従来の回路における
作動と相違する点である。
とする短かい期間中のみ存在することに注意する
必要がある。この点が、永続的に作動する放電電
流源を有し、セルの行がもはや選択されなくなる
瞬時に上記の電流源の電流がこの行に正しく切換
わつて与えられるようにした従来の回路における
作動と相違する点である。
図面にはプレーナpnp型トランジスタであるト
ランジスタT2を通る電流に対し1つのみの増幅
トランジスタT3を示してある。第2の増幅トラ
ンジスタを導入することによつては(このトラン
ジスタは必ずしもトランジスタT3と縦続接続す
る必要はない)、構成の簡単化に特徴のある回路
を殆んど複雑にすることはない。実際には、増幅
度が充分大きく集積回路に組み込んだ1つの増幅
トランジスタを用いれば充分であることを確かめ
た。
ランジスタT2を通る電流に対し1つのみの増幅
トランジスタT3を示してある。第2の増幅トラ
ンジスタを導入することによつては(このトラン
ジスタは必ずしもトランジスタT3と縦続接続す
る必要はない)、構成の簡単化に特徴のある回路
を殆んど複雑にすることはない。実際には、増幅
度が充分大きく集積回路に組み込んだ1つの増幅
トランジスタを用いれば充分であることを確かめ
た。
トランジスタT3のコレクタを給電ライン11
上の点Aに接続するか給電ライン12上の点Bに
接続するかの選択は、この接続によつて回路の他
の点に得られる電圧或いは電流の波形や、一方の
場合或いは他方の場合に得られる放電速度のよう
な要因に応じて行なう。点Aに接続すると放電速
度が極めて速くなる。放電速度はメモリの他の部
分のスイツチング速度に適合させるのが最良であ
る。
上の点Aに接続するか給電ライン12上の点Bに
接続するかの選択は、この接続によつて回路の他
の点に得られる電圧或いは電流の波形や、一方の
場合或いは他方の場合に得られる放電速度のよう
な要因に応じて行なう。点Aに接続すると放電速
度が極めて速くなる。放電速度はメモリの他の部
分のスイツチング速度に適合させるのが最良であ
る。
第2図は第1図の回路の一部分(第1図の−
線よりも左側の部分)の他の例を示す。本例で
は休止状態においてトランジスタT2にバイアス
電圧を異なるようにして与える。第2図の例では
トランジスタT1,T2,T3を第1図におけるのと
同様に相互接続する。電流源4は図示のように端
子19に接続し、この端子19はトランジスタ
T2のベースに接続する。しかし端子19はnpn型
トランジスタT5のエミツタにも接続し、このト
ランジスタのコレクタは電圧ライン15に接続す
る。トランジスタT5のベースは、2つの抵抗2
1および22より成りトランジスタT1のベース
およびライン15間に接続された分圧器のタツプ
に接続する。トランジスタTのバイアス電圧の値
は抵抗20および21の値の比に依存すること明
らかである。この方法が特に、トランジスタT2
のバイアス電圧を制御し、付加放電電流を供給す
る瞬時および期間を決定するトランジスタT1の
ベース側およびエミツタ側間の容量比を調整する
方法である。
線よりも左側の部分)の他の例を示す。本例で
は休止状態においてトランジスタT2にバイアス
電圧を異なるようにして与える。第2図の例では
トランジスタT1,T2,T3を第1図におけるのと
同様に相互接続する。電流源4は図示のように端
子19に接続し、この端子19はトランジスタ
T2のベースに接続する。しかし端子19はnpn型
トランジスタT5のエミツタにも接続し、このト
ランジスタのコレクタは電圧ライン15に接続す
る。トランジスタT5のベースは、2つの抵抗2
1および22より成りトランジスタT1のベース
およびライン15間に接続された分圧器のタツプ
に接続する。トランジスタTのバイアス電圧の値
は抵抗20および21の値の比に依存すること明
らかである。この方法が特に、トランジスタT2
のバイアス電圧を制御し、付加放電電流を供給す
る瞬時および期間を決定するトランジスタT1の
ベース側およびエミツタ側間の容量比を調整する
方法である。
第1図は本発明によるメモリ回路を示す回路
図、第2図は第1図のメモリ回路の一部の変形例
を示す回路図である。 4,16……電流源、10……メモリマトリツ
クス行、11,12……給電ライン、13……メ
モリセル、15……正電圧ライン。
図、第2図は第1図のメモリ回路の一部の変形例
を示す回路図である。 4,16……電流源、10……メモリマトリツ
クス行、11,12……給電ライン、13……メ
モリセル、15……正電圧ライン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 行列マトリツクスに配置したメモリセルを有
する半導体メモリであつて、各メモリセルがエミ
ツタ接続した2つのトランジスタを有し、これら
トランジスタのコレクタをベースに交差接続し、
マトリツクスの行中のメモリセルが第1および第
2の給電ライン間に互いに並列に接続されてお
り、第1給電ラインをライン選択電位或いは休止
電位にする為のスイツチング手段が第1給電ライ
ンに接続されており、給電ラインに接続された各
メモリセル内に記憶されたデータを維持する為の
電流源が第2給電ラインに接続されており、前記
のスイツチング手段が第1トランジスタを具えて
おり、該第1トランジスタのエミツタが第1給電
ラインに接続され、そのベースが第1給電ライン
をライン選択電位にする為の電圧パルスを受ける
ようにし、前記のスイツチング手段が更に、第1
給電ラインをライン選択電位から休止電位に放電
させるか或いは第2給電ラインを放電させる為の
他のトランジスタを具えており、前記の半導体メ
モリが更に、第1トランジスタのベースにおける
電圧パルスの終了を検出するとともに前記の他の
トランジスタを制御する検出手段を具えており、
この目的の為に該検出手段が第1トランジスタの
ベースに少くとも間接的に接続されているように
した半導体メモリにおいて、前記の検出手段が第
2トランジスタを具え、該第2トランジスタのエ
ミツタを第1給電ラインに接続し、該第2トラン
ジスタのベースを少くとも間接的に第1トランジ
スタのベースに接続し、前記の他のトランジスタ
を前記の第2トランジスタのコレクタを経て制御
し、第1および第2トランジスタをそれぞれ第1
および第2の導電型としたことを特徴とする半導
体メモリ。 2 特許請求の範囲1記載の半導体メモリにおい
て、第2トランジスタのベースをダイオード20
および第4トランジスタT4のエミツタ−ベース
接合を経て第1トランジスタのベースに接続し、
前記の第4トランジスタを第1導電型とし、この
第4トランジスタのベースおよびコレクタを第1
トランジスタのベースおよびコレクタにそれぞれ
接続し、前記のダイオード20の陰極を第2トラ
ンジスタT2のベースに接続し、第2トランジス
タには電流源4をも接続したことを特徴とする半
導体メモリ。 3 特許請求の範囲1記載の半導体メモリにおい
て、第2トランジスタT2のベースを電流源4お
よび第1導電型の第4トランジスタT5のエミツ
タに接続し、第4トランジスタのコレクタを第1
トランジスタT1のコレクタに接続し、第4トラ
ンジスタのベースを、第1トランジスタT1のベ
ースおよびコレクタ間に接続された分圧器21,
22に接続したことを特徴とする半導体メモリ。 4 特許請求の範囲1〜3のいずれか1つに記載
の半導体メモリにおいて、第2トランジスタを
pnp型のプレーナトランジスタとしたことを特徴
とする半導体メモリ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8203237A FR2522432A1 (fr) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | Procede pour obtenir la decharge rapide d'une rangee de matrice memoire, et circuit de decharge dynamique correspondant |
| FR8203237 | 1982-02-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58175190A JPS58175190A (ja) | 1983-10-14 |
| JPH0315280B2 true JPH0315280B2 (ja) | 1991-02-28 |
Family
ID=9271390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58030240A Granted JPS58175190A (ja) | 1982-02-26 | 1983-02-26 | 半導体メモリ |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4539659A (ja) |
| JP (1) | JPS58175190A (ja) |
| KR (1) | KR910000966B1 (ja) |
| CA (1) | CA1188806A (ja) |
| DE (1) | DE3305427C2 (ja) |
| FR (1) | FR2522432A1 (ja) |
| GB (1) | GB2117202B (ja) |
| IE (1) | IE54398B1 (ja) |
| IT (1) | IT1170111B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162689A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体メモリのワ−ド線放電回路 |
| JPS60140592A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Hitachi Ltd | 半導体メモリ |
| US4570240A (en) * | 1983-12-29 | 1986-02-11 | Motorola, Inc. | AC Transient driver for memory cells |
| US4864539A (en) * | 1987-01-15 | 1989-09-05 | International Business Machines Corporation | Radiation hardened bipolar static RAM cell |
| US4961168A (en) * | 1987-02-24 | 1990-10-02 | Texas Instruments Incorporated | Bipolar-CMOS static random access memory device with bit line bias control |
| US4825413A (en) * | 1987-02-24 | 1989-04-25 | Texas Instruments Incorporated | Bipolar-CMOS static ram memory device |
| US5278795A (en) * | 1987-03-27 | 1994-01-11 | U.S. Philips Corporation | Memory circuit having a line decoder with a Darlington-type switching stage and a discharge current source |
| US4862421A (en) * | 1988-02-16 | 1989-08-29 | Texas Instruments Incorporated | Sensing and decoding scheme for a BiCMOS read/write memory |
| US4951255A (en) * | 1989-04-14 | 1990-08-21 | Atmel Corporation | Memory current sink |
| US5321658A (en) * | 1990-05-31 | 1994-06-14 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor memory device being coupled by auxiliary power lines to a main power line |
| CA2042432A1 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-01 | Robert M. Reinschmidt | Memory selection circuit |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4168490A (en) * | 1978-06-26 | 1979-09-18 | Fairchild Camera And Instrument Corporation | Addressable word line pull-down circuit |
| FR2443118A1 (fr) * | 1978-11-30 | 1980-06-27 | Ibm France | Dispositif pour l'alimentation des memoires monolithiques |
| JPS55129992A (en) | 1979-03-24 | 1980-10-08 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory |
| DE3004565C2 (de) * | 1980-02-07 | 1984-06-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Integrierte digitale Halbleiterschaltung |
-
1982
- 1982-02-26 FR FR8203237A patent/FR2522432A1/fr active Granted
-
1983
- 1983-02-17 DE DE3305427A patent/DE3305427C2/de not_active Expired
- 1983-02-23 IT IT19718/83A patent/IT1170111B/it active
- 1983-02-23 KR KR1019830000731A patent/KR910000966B1/ko not_active Expired
- 1983-02-23 GB GB08304974A patent/GB2117202B/en not_active Expired
- 1983-02-23 IE IE378/83A patent/IE54398B1/en not_active IP Right Cessation
- 1983-02-24 US US06/469,536 patent/US4539659A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-02-24 CA CA000422278A patent/CA1188806A/en not_active Expired
- 1983-02-26 JP JP58030240A patent/JPS58175190A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3305427A1 (de) | 1983-09-15 |
| GB2117202B (en) | 1985-10-23 |
| DE3305427C2 (de) | 1986-03-27 |
| CA1188806A (en) | 1985-06-11 |
| GB2117202A (en) | 1983-10-05 |
| GB8304974D0 (en) | 1983-03-30 |
| FR2522432A1 (fr) | 1983-09-02 |
| KR910000966B1 (ko) | 1991-02-19 |
| JPS58175190A (ja) | 1983-10-14 |
| US4539659A (en) | 1985-09-03 |
| IT1170111B (it) | 1987-06-03 |
| KR840003892A (ko) | 1984-10-04 |
| IE54398B1 (en) | 1989-09-27 |
| IE830378L (en) | 1983-08-26 |
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| IT8319718A0 (it) | 1983-02-23 |
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