JPH03167250A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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- JPH03167250A JPH03167250A JP30878789A JP30878789A JPH03167250A JP H03167250 A JPH03167250 A JP H03167250A JP 30878789 A JP30878789 A JP 30878789A JP 30878789 A JP30878789 A JP 30878789A JP H03167250 A JPH03167250 A JP H03167250A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
の半導体素子の樹脂封止等に用いられるエポキシ樹脂組
底物に関する。
る。こ′れは、エポキシ樹脂が耐熱性、強度、接着性、
電気特性などに優れているからである.しかし、エポキ
シ樹脂には、他の多くの熱硬化性樹脂にも見られるよう
に硬化物が脆いという欠点がある。
大型化されているが、このようなものをエポキシ樹脂で
封止した場合、冷熱サイクル時にパフケージにクラソク
が発生するという問題が生じる。さらに、フラットパッ
ケージタイプでは、リードビンに半田付けするという方
法から、パッケージ全体をたとえば250℃以上の半田
に浸漬するという方法へと半田付け方法が変わってきて
いる。後者のような半田付け方法を採ると、従来のエポ
キシ樹脂封止材で封止したパンケージは、半田浸漬後の
耐湿信頼性が著しく低下するという欠点がある。これは
、パッケージ中の水分の急激な気化膨張によるパッケー
ジのクラフクが原因と考えられている。
低減と耐湿信頼性の向上が重大な課題となっている。
ているが、一般にエポキシ樹脂にシリコーンゴム、シリ
コーンオイルなどの可撓性のあるシリコーン化合物を添
加することにより戒形材料の弾性率を下げ、内部応力の
低減が図られている。たとえば、シリコーンゲルまたは
シリコーンオイルをベースレジン中に分散させたり(特
開昭61−79245号公報参照)、エポキシ基および
ポリオキシアルキレン基(ポリアルキレンオキサイド基
)を持つシリコーン化合物を添加したり(特開昭60−
58425号公報参照〉するのである。
の場合、大幅な低応力化はされず、機械強度の低下が大
きい。また、後者の場合、ポリオキシアルキレン基に起
因する耐湿性の低下が大きい。
料の内部応力が大幅に低減し、かつ、半田浸漬後の耐湿
信頼性も良好な半導体封止などに用いられるエポキシ樹
脂組或物を提供することを課題とする。
樹脂組底物は、硬化物の低応力化を図る改質剤として、
下記の戒分(自)および(自)が含まれている。
。
上式中、X,YおよびRで示される基はそれぞれ次のと
おりである。Xで示される基はエポキシ基を持つもので
あれば何でも良く、また、同エポキシ基はグリシジルタ
イプであっても、脂環エポキシなどのような内部エポキ
シであっても良く、特に限定はない。Yで示される基は
ボリオキシエチレン基、ボリオキシプロピレン基等や、
ボリオキシエチレン基とポリオキシプロピレン基の共重
合基等のポリオキシアルキレン基を持つ基である。Rで
示される基は、メチル基、エチル基などのアルキル基、
あるいは、フェニル基などの1価の炭化水素基を表す。
とも1つのRが異なる基であってもよい。上式で表され
るシリコーン重合体は、ブロソク共重合体であってもラ
ンダム共重合体であっても良い。
のがある。
ン基含有基、または、ポリオキシエチレンとボリオキシ
プロピレンの共重合体を含む基が好ましい。
、特に限定するものではないが、下記の範囲にあるのが
好ましい。
m/ (l+m+n) =0.0 0 1−0.5n/
<It +m+n) =0.0 0 1〜0.8It
/(Il+m+n)が0.05より小さいとマトリック
ス樹脂に相溶して低弾性率化の寄与は小さいことがあり
、0.99より大きいと逆にマトリックス樹脂と完全に
は相熔しなくなり、マトリックス樹脂に分散した時にシ
リコーン粒径が大きくなり、低弾性率化の寄与は小さく
、強度低下が大きくなることがある。
ックス樹脂(または、フェノール樹脂を用いる場合には
、マトリックス樹脂のフェノール樹脂)との反応率が低
く、強度低下が大きく、シリコーンのにじみ出しが起こ
ることがある。逆に0. 5よりも大きいと、フェノー
ル樹脂を用いる場合、同フェノール樹脂で予め変性を行
う場合ゲル化しやすくなり好ましくない。
り小さいか、または、0.8よ゛りも大きいと、同様に
低弾性率化の寄与が小さく好ましくない。
については互いに反応可能な官能基をそれぞれ持つ2種
類のシロキサン化合物の混合物や単一構造を持つもの、
たとえば、シラノール基やアルコキシ基含有シロキサ゛
ンの自己縮合タイプ、または、ビニル基含有シロキサン
の付加重合タイプなどがある。具体的には、たとえば、
両末端ビニル基を持つポリジメチルシロキサンとSt−
H基含有ポリジメチルシロキサンを白金触媒等で硬化さ
せるタイプがあり、この発明においては、SiH基が付
加反応できるビニル基等を含有しているのが良く、Si
H付加反応タイプのシリコーンゴムおよび/またはゲル
が最も通している.なお、硬化後に、ゲル状(非常に軟
らかい)ものをゲル、弾性があり、ゴム状のものをゴム
と称している。構造的には架橋密度の差(ゲルは架橋密
度が相対的に低い)に起因すると考えられる。これらシ
リコーンゴムあるいはゲルは通常、硬化前は液状であり
、二液以上の多成分系または一液タイプである.さらに
必要に応じて、硬化速度調節のために、促進剤あるいは
遅延剤を入れたり、硬度調節のために充填材を入れたり
してもよい.この発明のエポキシ樹脂組戒物は、少なく
ともエポキシ樹脂、その硬化剤、上記低応力化のための
改質剤(自)およびω)を含む. この発明で用いるエポキシ樹脂としては、1分子中に2
個以上のエポキシ基を有する化合物であれば制限はなく
、たとえば、オルソクレゾールノボランク型エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ
樹脂、さらには難燃化のためにこれらをハロゲン化した
もの等が挙げられ、特に限定はされない。これらは単独
で、あるいは複数種を併せて使用される。
えば、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物
系硬化剤などが挙げられ、単独で用いても、2種以上を
併用しても良い。硬化物をより高Tg(高ガラス転移温
度)、高信頼性にし、成形材料を調製しやすくするとい
う点からは、硬化剤としてはフェノールノボラック樹脂
等のフェノール樹脂を用いることが好ましいが、これに
限定されることはない。さらに必要に応してイ尖ダゾー
ル類、ホスフィン類などの硬化促進剤を1種以上添加し
ても良い。
て、たとえば、充填材(シリカ粉末など)、カップリン
グ剤、離型剤(カルナバワックス、モンクン酸カルシウ
ム塩など)、難燃剤(二酸化ニアンチモンなど〉、顔料
(カーボンブランクなど)などを1種以上加えることが
できる。
ないが、たとえば、エポキシ樹脂100重量部に対して
、上式で表されるシリコーン重合体を0.Ol〜15重
量部、自硬化性シリコーンゴムおよび/またはゲルを0
.01〜15重fl部、硬化剤を20〜80重量部、充
填材を50〜95重量部とするのが好ましい。上式で表
されるシリコーン重合体が0.01重量部を下回ると低
応力化の効果が少ないおそれがあり、l5重量部を上回
ると物性(強度)の低下が著しいおそれがある。自硬性
シリコーンゴムおよび/またはゲルが0.Ol重量部を
下回ると低応力化の硬化が少ないおそれがあり、15m
jt部を上回ると強度の低下が著しいおそれがある.硬
化剤が20ffiEt部を下回ると硬化不足や強度低下
のおそれがあり、80重量部を上回ると硬化不足や強度
低下のおそれがある。
り、95重量部を上回ると成形性の低下のおそれがある
。
散させる方法であるが、たとえば、次のような方法があ
る。フェノール樹脂をその溶融温度以上にし、攪拌しな
がら上記シリコーン重合体と上記シリコーンゴムおよび
/またはゲルの原料を入れるという方法で良いが、好ま
しくは熔融したフェノール樹脂をディスパー等で高速B
2拌し、上記シリコーン重合体と上記シリコーンゴムお
よび/またはゲルの原料を混合したものを徐々に添加し
、添加終了゛後数分から数時間の間、攪拌を行えば良い
。さらに、これを戒形材料化するには、上記のシリコー
ン変性したフェノール樹脂を冷却、粉砕し、得られた粉
砕物とエポキシ樹脂、充填材、その他の、成形材料用の
原材料と配合して熱ロール等で混練し、冷却、粉砕する
。
合、シリコーン重合体とシリコーンゴムおよび/または
ゲルの原料を混合したものをフェノール樹脂に添加し、
さらに、エポキシ樹脂の硬化促進剤を添加して数分から
数時間攪拌するのがさらに良い結果を与える。硬化促進
剤を添加することによりシリコーン重合体に含まれるエ
ポキシ基とフェノール樹脂がより反応して最終的に強度
低下が少なく、シリコーンのにじみ出しがなく、低応力
化ができるというメリットがある。この場合、用いる硬
化促進剤の種類としては、一般のエポキシ樹脂に用いら
れる促進剤であれば特に限定しないが、たとえば、トリ
フェニルホスフィン類、イミダゾール類、三級ア主ン類
などがある。中でも、トリフェニルホスフィンが耐湿性
に優れているために好ましい。
ノール樹脂100重量部に対して、0.Ol〜5.0重
量部が好ましく、さらに好ましくはO.l〜1.0重量
部である。0.01重量部未満であると添加の効果が小
さく、フェノール樹脂との反応率が低くなることがある
。また、5.0重量部を越えると耐湿信頼性が低下する
ことがある。
ンゴムおよび/またはゲルの比率については特に限定は
しない。
目的達成を妨げないならば、硬化物の低応力化のための
上記化合物(〜およびの)に合わせて、低応力化のため
の他の改質剤を併用することも可能である。
ンゴム、シリコーンオイル、シリコーンゴム等を主クロ
゛に分散させて海島構造(たとえば、低応力化のための
改質剤の微細な粒子がマトリックス樹脂中に散在してい
る構造)とすることが知られている。ここで一般のシリ
コーン化合物はエポキシ樹脂との相溶性、分散性が悪く
、海島構造における分散微粒子の粒径はせいぜい数ミク
ロンまでしか細かくならず、低応力化効果も小さい.し
かし、この発明で用いる上式のシリコーン重合体は、ポ
リオキシアルキレン基を含んでいるため、エポキシ樹脂
との相熔性、分散性が良くなり1ミクロン以下の粒径を
持つ分散微粒子とすることができ、低応力化効果も大き
くなる。さらに、この効果は、他のシリコーン化合物と
併用した時にも発揮されることを、この発明者らは見出
し、この発明でも自硬化性シリコーンゴム台よび/また
はゲルを前記シリコーン重合体と併用してl尖クロン以
下の粒径を持つ分散微粒子を実現できた。ただし、この
ポリオキシアルキレン基含有基を持ったシリコーン重合
体は、一般に他のシリコーン化合物に比べて吸湿率が高
く、半導体封止用エポキシ樹脂組底物には好ましくない
。以上の理由により、この発明では、ポリオキシアルキ
レン基含有基を持ったシリコーン重合体を用いることに
より低応力化を実現しつつ、自硬化性シリコーンゴムお
よび/またはゲルを併用することによって吸湿率を低く
抑えることができる。
はゲルと、エポキシ基含有基およびポリオキシアルキレ
ン基含有基を含むシリコーン重合体の微細海島構造がマ
トリソクス樹脂中に形威され、半導体封止材の弾性率を
低下させて低応力化が図られるのである. この発明に用いるシリコーン重合体は、シリコーンゴム
および/またはゲルを微粒子分散させ、低応力化に寄与
する作用を行い、かつ、エポキシ樹脂マトリックス中の
フェノール樹脂と化学的に結合してi械的強度の低下を
防止する作用を示す。この発明に用いるシリコーンゴム
および/またはゲルは、低弾性率化、低吸湿率化に寄与
する作用を示す。
g (高ガラス転移温度)、高信頼性をより高めること
ができ、また、戒形材料にしやすくなる。
ーン重合体とを予め反応させておくと、硬化物の機械的
強度の低下をより少なくすることができる。
が、この発明は下記実施例に限定されない。
硬化性シリコーンゴムおよび/また−はゲル(6)とし
て第1表に示すものを用いた。
ルノボラックエポキシ樹脂rEscN195XL−4J
、同社製ブロム化エポキシ樹脂「ESB400TJを用
いた。
ノールノボラック樹脂「タマノール752」を用いた。
フェニルホスフィンを、充填材として、株式会社龍森製
溶融シリカrRD−8CRS8M」を、N燃剤として、
ナカライテスク株式会社製試薬三酸化ニアンチモンを、
顔料として三菱化成工業株式会社製カーポンブラックr
MA− 1 0 0」を用いた。
スビーカーに取り、120℃に加熱して溶融した。第1
表に示すシリコーン化合物(エポキシ基およびポリオキ
シアルキレン基を有するシリコーン重合体(4)と、シ
リコーンゴムおよび/またはゲルOa)〉を第2表に示
す量だけ添加し、攪1rした。この場合、触媒を使用し
ないものについては120℃で30分間攪拌を行って冷
却、粉砕してシリコーン変′性フェノール樹脂を取り出
した。
を上記シリコーン化合物を添加した30分後に所定量添
加した。添加後120t’で6時間反応を行って冷却、
粉砕してシリコーン変性フェノール樹脂を取り出した。
第2表に示す他の原料を所定量配合し、加熱ロールで混
練し、冷却、粉砕してエポキシ樹脂m威物の成形材料を
製造した。
加熱ロールで混練して製造した。
性手順と同様に行い、実施例と同様にして製造した。
て、耐ヒートショック性、耐湿信頼性および曲げ強度を
下記のようにして調べ、結果を第2表に示した。
プサイズ113lxl3nのシリコンウエハーを実装し
たフラントパソケージ(15mxl9snXl,3m、
60ピン〉を上記成形材料を用いて各々20個成形した
。得られた或形品に対して、ヒートサイクル試験機を用
いてマイナス(−)65℃〜プラス150℃(各5分間
〉の液相ヒートサイクル試験を行い、外部クラック発生
までのサイクル数を不良発生回数とし、不良個数が50
%になった時の不良発生回数を比較した。
2. 31mlのシリコンウエハーと上記戒形材料と
を用いて12.6闘X 5. 7 mi X l. 5
@11の18ビンsopを20個ずつ戒形した。次に
85℃で85%R Hの恒温恒湿槽で72時間吸湿処理
を行った後、260℃の半田浴に10秒間浸漬した。次
に138℃、85%RHの雰囲気”i?20V(7)U
SPCBT試験を行い、Al配線の断線までの時間を不
良発生時間とし、不良個数が50%になった時の不良発
生時間を比較した。
0一のサンプルをトランスファー成形し、曲げ試験機
を用いて曲げ強度を測定した。
ヒートショソク性およびUSPCBT試験結果が良好で
あり、曲げ強度が同等以上であった。
、エポキシ基含有基およびポリオキシアルキレン基含有
基を持つシリコーン重合体と、自硬化性シリコーンゴム
および/またはゲルとを低応力化のための改質剤として
含むので、硬化物の内部応力が大幅に低下し、かつ、半
田浸漬後の耐湿信頼性が良好で、機械強度の低下の少な
いものである。
樹脂を用いるようにすると、硬化物がより高Tg,高信
頼性になり、戒形材料にしやすくなる。
フェノール樹脂とを反応させておくと、硬化物の機械的
強度の低下をより少なくすることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 硬化物の低応力化を図る改質剤として、下記の成分
(A)および(B)が含まれているエポキシ樹脂組成物
。 (A)下式で表されるシリコーン重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上式において、Rは1価の炭化水素基を 示し、Xはエポキシ基含有の基を示し、 Yはポリオキシアルキレン基含有基を示 す。l、m、nの各値は1以上の整数で ある、このシリコーン重合体は、ブロッ ク共重合体であっても、ランダム共重合 体であってもよい。 (B)自硬化性シリコーンゴムおよび/またはゲル。 2 エポキシ樹脂の硬化剤としてフェノール樹脂が用い
られている請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 3 シリコーン重合体が予めフェノール樹脂と反応され
ている請求項2記載のエポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1308787A JP2690795B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1308787A JP2690795B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03167250A true JPH03167250A (ja) | 1991-07-19 |
| JP2690795B2 JP2690795B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=17985302
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1308787A Expired - Fee Related JP2690795B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | エポキシ樹脂組成物 |
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| JP (1) | JP2690795B2 (ja) |
Cited By (2)
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| JP2000007887A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 多重モールド半導体装置の内層封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
| JP2007142182A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品内蔵モジュール |
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-
1989
- 1989-11-27 JP JP1308787A patent/JP2690795B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2690795B2 (ja) | 1997-12-17 |
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