JPH03167559A - 電子写真用感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真用感光体に関し、更に詳しくは、導電
性支持体上に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を順次
積層して得られる電子写真用感光体に関する。

〔従来の技術〕

導電性支持体上に、光吸収により電荷担体を生或するこ
とのできるいわゆる電荷発生層を設け、更にその上に，
電荷発生層で生成した電荷担体を電場の力により移動さ
せることのできるいわゆる電荷輸送層を設けた機能分離
の積層型電子写真用感光体は数多く提案されている。

これらの積層型電子写真用感光体において、電荷発生層
は、一般的には １）　Ｓｅ，Ｓｓ合金、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコ
ン）有機顔料等の電荷発生物質を真空蒸着、グロー放電
等により設ける（例えば特開昭４８−４７７８３８号公
報、同４９−４８３３４号公報に記載） ２）　Ｓｅ，Ｓｅ合金、ＺｎＯ　，　Ｔｉｅ，　，　Ｃ
ｄＳ等の無機顔料、及び有機顔料等の電荷発生物質を、
必要ならば結着剤を加えて分散した分散液を塗布する（
例えば特開昭４７−１８５４３号公報、同５５−７９４
４９号公報に記載）３）有機顔料の電荷発生物質を有機
アミン中に溶解した溶液を塗布する（例えば特開昭５２
−５５６４３号公報に記載） などの方法により設けている。

一方、電荷輸送層は、一般的には電子供与性物質、電子
受容性物質等の電荷輸送物質を必要ならば結着剤ととも
に溶剤に溶解し、適当な塗工法により塗布して設けてい
る。

この様な積層型電子写真用感光体では，電荷発生層は、
光を効率よく吸収し発生した電荷担体を効果よく吸収し
発生した電荷担体を効果的に電荷輸送層に注入させる為
に、電荷発生物質が層中均一に相対的に多量に存在し、
かつ、層の厚さが出来るだけ薄い方が好ましい。また、
積層型電子写真用感光体では、機械的強度も当然要求さ
れることから、少なくとも各層間での接着性が強いこと
が望まれる。それらの特性は導電性支持体の材質、裏面
性等にも支配され、電荷発生層だけで諸特性を向上させ
るのは難しい。

これらの欠点を解消するために、（ａ）下引層にポリビ
ニルブチラール樹脂を含有させ、電荷発生層には結着剤
を含有させないもの（特開昭５９−３６２５８号公報、
（ｂ）下引層にアルコール可溶性ナイロン樹脂を電荷発
生層には結着剤としてポリビニルホルマール樹脂を用い
たもの（特開昭６０−２０２４４８号公報）（Ｃ）下引
層にボリアミド樹脂を電荷発生層にポリビニルブチラー
ル樹脂を含有させたもの（特開昭５８−３０７５７号公
報）等が提案されている。

しかしながら、（ａ）のものは、たとえば浸漬塗工法を
用いた場合、下引層のポリビニルブチラール樹脂が膨潤
あるいは一部溶解し、画像評価した場合に異常画像が発
生することがあり，また（ｂ）のものは下引層に用いる
アルコール可溶性ナイロンが低温低湿下では抵抗が増大
するために膜厚を０．５μｍ以下にする必要があり、そ
のため感光体表面の傷等の欠陥によって異常画像が生じ
る恐れがある。また、（Ｃ）のものは低温低湿で残留電
位が上昇し、地汚れが生じるといった難点があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立上りの遅れがなく、かつ残留
電位の変化が小さい電子写真用感光体を提供することを
目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、支持体、下引層、電荷発生層および電
荷輸送層から成る積層型電子写真感光体において、該下
引層および電荷発生層がポリビニルブチラール樹脂を含
有することを特徴とする電子写真用感光体が提供される
． すなわち、本発明の特徴は下引層及び電荷発生層にポリ
ビニルブチラール樹脂を含有させた点にある。

以下、本発明を更に詳細に説明する。

支持体としてはアルミニウム、ニッケル、クロム、銅、
酸化スズ，酸化インジウム等をプラスチック円管又はプ
ラスチックシームレスベルト表面に蒸着したもの、特開
昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッ
ケルベルト、エンドレスステンレスベルト、アルミニウ
ム、ニッケル、ステンレス等をＤ．Ｉ．、Ｉ．Ｌ、拡し
出し引き抜き等の工法で素管後、切削、超仕上げ、研摩
等で表面処理した管が用いられる。

下引層はポリビニルブチラール樹脂単独又はこれに酸化
チタン、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ等の無機
顔料が分散されたものから構戒される。

本発明で用いるポリビニルブチラール樹脂は、ポリ酢酸
ビニルを原料とし、まず加水分解によりボリビニルアル
コールを作り、それにブチルアルデヒドを反応させて得
られる。そのため、ポリビニルブチラール樹脂にはブル
ラール基が反応した部分と未反応の水酸基およびアセチ
ル基があり、化学式は次のようになる。

それぞれの比は、アセチル基が５モル２以下，ブチラー
ル基は６０〜８１モルぷ、水酸基がその残りとなってい
る． ここで用いられる溶媒はシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジクロロメタン、１，１−ジクロ口
エタン、１，２−ジクロ口エタン、１＋Ｌ２−トリクロ
ロエタン、１，１，２．２−テトラクロロエタン、モノ
クロルベンゼン、メタノール，エタノール、ブタノール
、メタルエチルケトン，メチルイソブチルケトン、メチ
ルーｎ−アミルケトン、メチルーｎ−プチルケトン、ジ
エチルケトン、メチル一〇一プロピルケトン、シクロヘ
キサノン、ノチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プチ
ルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル，ジオキサン、
テトラヒド口フラン等が好ましい。

下引き層の膜厚は０．１〜１０μｍ好ましくは０．３〜
５μｍ程度である。

電荷発生層は電荷発生物質及びポリビニルブチラール樹
脂をテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、ジグ口ロエタン、シクロヘキサン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、１，１．２−トリクロ
ロエタン、１，１，２．２−テトラク口口エタン，メチ
ルセロソルブ、エチルセロゾルブ、メタノール、エタノ
ール、ｎ−ブタノール等の溶媒又はこれらの混合溶媒に
分散し、これを下引層上に塗布し、乾燥することにより
形威される。

電荷発生層の平均膜厚は０．０１〜２一好ましくは０．
１〜ｌμｍ程度である。

電荷発生物質としては例えばシーアイビグメントブル−
２５〔カラーインデックス（ＣＩ）２１１８０）、シー
アイビグメントレッド４１（ＣＩ　２１２００）、シー
アイアシッドレッド５２（ＣＩ　４５１００）、シーア
イベーシックレッド３（ＣＩ　４５２１０）などの他に
ボルフィリン骨格を有するフタ口シアニン系顔料、カル
バゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−９５０３
３号公報に記載）、スチルベン骨格を有するアゾ顔料（
特開昭５３−１３８２２９号公報に記載）、ジスチリル
ベンゼン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３３４
５５号公報に記載）、トリフェニルアミン骨格を有する
アゾ顔料（特開昭５３−１３２５４７号公報に記載）ジ
ベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−
２１７２８号公報に記載）、オキサジアゾール骨格を有
するアゾ顔料（特開昭５４−１２７４２号公報に記載）
、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２
２８３４号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有する
アゾ顔料（特開昭５４−１７７３３号公報に記載）、ジ
スチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開
昭５４−２１２９号公報に記載）、ジスチリル力ルバゾ
ール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３４号
公報に記載）、カルバゾール骨格を有するトリスアゾ顔
料（特開昭５７−１９５７６７号公報、同５７−１９５
７５８号公報に記載）等、更にはシーアイビグメントブ
ル−１６（ＣＩ　７３０３０）等のインジゴ系顔料，ア
ルゴスカーレッドＢ（バイオレッド社製）、インダンス
レンスカーレットＲ（バイエル社製）等のベリレン系顔
料、スクエアリッ夕顔料等の有機顔料：Ｓｅ，　Ｓｅ合
金、（，ｄＳ、アモルファスＳｉ等の無機顔料を使用す
ることができる。

ポリビニルブチラール樹脂の量は電荷発生物質１００重
量部に対し５〜１００重量部好ましくは１０〜５０重量
部が適当である。

電荷輸送層は電荷移動物質、バインダー樹脂及び必要な
らば可塑剤、レベリング剤を適当な溶剤に溶解し、これ
を電荷発生層上に塗布し、乾燥することにより形或され
る。

電荷輸送物質としてはポリーＮ−ビニル力ルバゾール及
びその誘導体、ボリーγ一カルバゾリルエチルグルタメ
ート及びその誘導体、ピレンーホルムアルデヒド縮音物
及びその誘導体、ポリビニルビレン、ポリビニルフェナ
ントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、
９−　（ｐ−ジ工チルアミノスチリル）アントラセン、
１．１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパ
ン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フエ
ニルヒドラゾン類、α−スチルベン誘導体等の電子供与
性物質が挙げられる。

バインダー樹脂としてはポリスチレン，スチレンーアク
リ口ニトリル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体
、スチレンー無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネ
ート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルトルエン、ポリーＮ−ビニル力ルパゾール、アクリル
樹脂、シリコーン樹脂、エボキシ樹脂、メラミン樹脂、
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱
可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。

電荷輸送層を形或するための溶剤としてはテトラヒドロ
フラン，ジオキサン，トルエン、モノクロルベンゼン、
１．２−ジクロ口エタン、シクロヘキサノン，塩化メチ
レン、１，１．２−トリクロ口エタン，１，１，２．２
−テトラク口口エタン及びこれらの混合溶剤が好ましい
．電荷輸送層の膜厚は１０〜ＩＯＯＡ好ましくは２０〜
４０ｐｍである。

また電荷輸送層上に保護層を設けても良い。

保護層は結着剤樹脂中に金属又は金属酸化物の超微粉末
を分散した層である。結着剤樹脂としては可視及び赤外
先に対して実質上透明で電気絶縁性、機械的強度、接着
性に優れたものが望ましい．例えば、ポリエステル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、エボキシ
樹脂、アクリル樹脂．塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体
、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂，フ
ェノール樹脂、ポリビニルクロライド樹脂、環化ブタジ
エンゴム、フッ素樹脂等を用いることができる。金属粉
末としては、金、銀、アルミニウム、鉄、銅、ニッケル
、金属酸化物としては酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ
、酸化ビスマス，酸化アンチモン、−酸化インジウム等
が使用できる。

保護層の結着樹脂と金属又は金属酸化物の組或比は材料
の組み合せによっても異なるが、結着剤樹脂１００重量
部に対し金属あるいは金属酸化物を５〜５００重量部の
範囲で用いる。

保護層の膜厚は必要に応じて０．５〜３０μｍの間に設
定することができる。

次に塗工方法について説明する。

下引層の塗工方法としては浸漬工法，スプレー塗工法、
カーテン塗工法、ノズル塗工法等の任意の塗工法を用い
ることができる。

電荷発生層、電荷輸送層の塗工方法としては下引層のポ
リビニルブチラール樹脂を溶解又は膨潤させない様なス
プレー塗工法やノズル塗工法を用いるのが好ましい。

以下浸漬塗工法、スプレー塗工法，ノズル塗工法につい
て図面に従い説明する。

第１図は本発明で用いる浸漬塗工装置の説明図である。

塗布容器２内の塗布液３から支持体１を引き上げること
により塗膜１５を形或している模様を示す。

ベルト支持具１の引き上げはモーター５の回転をエンド
レスベルト１２によってベルトプーリ−１４に伝達し、
このベルトプーリーＩ４によって軸受ｌ６によって固定
されたねじ捧６が回転し、この回転に従って雌ねじ８が
上下動されて行なわれる。支持体１には上下に蓋４が配
置され、支持体１が塗布液３の中に浸漬された時、支持
体１の内面が塗布液３に浸漬されない様にする為に設け
られており、又上方の蓋４には固定部材９が取り付けら
れており、この固定部材９がねじｌＯによって支持棒７
に固定されている， 支持棒７は固定部材ｌ１によって雌ねじ８に固定され、
雌ねじ８の上下動に従って支持体１が上下動する様に構
成されている。

塗膜１５の膜厚は塗工装置制御部ｌ３によりモータ５の
回転数を調節し引き上げ速度を制御する事によりコント
ロールされる。

第２図はスプレー塗工装置の概略を示したものである。

支持体ｌ７は水平に装架され中心軸１８のプーり１９に
巻き付けられたベルト２０を回動することにより一定方
向に定速で回転する様になっており、この様な支持体１
７にスプレーガン２１が近接設置されている。スプレー
ガン２１は台２２を支持体１７の長手方向に平行に設置
したねじ等のスキャン装置２３に装置し、先端の噴出ノ
ズル２４の所にキャリアガスを導くパイプ２５が配管さ
れると共に塗布液タンク２６からの塗布液パイプ２７が
配管されて、噴出ノズル１４からのキャリアガスの噴射
で塗布液を吸引して一緒に噴出する様に構成されており
パイプ２５にはガス圧調節弁２８が取り付けられている
。

感光層の塗布は支持体１７を取り付けた状態で回転し、
スキャン装置２３でスプレーガンをスキャンしながらガ
ス圧調節弁２８で調節されたキャリアガスと共に塗布液
タンク２６内の塗布液を噴出して支持体１７に吹き付け
る事により行なわれる。

第３図はノズル塗工装置の概略を示したものである。

第３図において、支持体２９は回転軸３１により保持さ
れモーター３０の開動力により矢印方向に回転している
． 塗工液タンク３４内の塗工液４４はボンプ３５によりフ
ィルター３６、フレキシブルチューブ３３、パイプ４３
、弁４２を経由してノズル３２に供給される。ノズル３
２はパイプ４３の部分でノズル保持部材４０に固定され
、モーター３９がボールネジ３８を回転させることによ
りスライド棒４１にそって矢印方向に移動する。　塗工
は支持体２９を回転させ、かつノズル３２を矢印方向に
移動させながら塗工液４４をノズル３２から吐出させて
行う。塗工液４４はスパイラル状に支持体２９に塗工さ
れる。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実施例１ 酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ石原産業社製）３０ｇ１−ブタ
ノール（関東化学社製） ９５ｇ から成る混合物をポールミルポットに取りミル部材とし
てφ１０アルミナボールを使用し２４時間ボールミリン
グした後、１−ブタノールを２０９．８ｇ加えてさらに
１時間ミリングした． ミリングした後１−ブタノールを加えて希釈、撹拌し．
固形分濃度１０ｗｔ％の下引層塗工液を作成した。

この下引層塗工液を第２図に示したスプレー塗工装置を
用いて、電鋳法により作或したニッケルシームレスベル
ト（周長４００ｍｍ．　＠３００問、厚さ３０μ）に下
記のスプレー塗工条件で膜厚２．４μｍの下引層を塗工
し、１３０℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

く下引層スプレー塗工条件〉 ・スプレー圧力　　　　　　　　　　　　３ｋｇ／ｃｎ
ｆ・スプレーノズルー支持体間距離　　　　　１２０ｍ
ｍ・支持体回転数　　　　　　　　　　　　５０ｒｐｍ
・スプレーノズルスキャン速度　　　　　　３ｍｍ／ｓ
・塗工液吐出量　　　　　　　　　　　２　．　５ｃｃ
／分・スキャン回数　　　　　　　　　　　　　　２回
一方、次の組成 ・下記（１）のトリスアゾ顔料（リコー社製）　１２．
５ｇ・ブチラール樹脂（ＸＹＨＬ　ＵＣＣ社製）　　　
　　　２．　１ｇ・シクロヘキサノン（関東化学社製）
　　　　１８２．５ｇから成る混合物をポールミルボッ
トに取りφＩＯＳＵＳボールを使用し４８時間ボールミ
リングした後、さらにシクロへキサノン３００ｇを加え
て１時間ミリングした．ミリングした後ミルベースを取
り出し固形分濃度が０．９ｗｔ％になるようにシクロヘ
キサノンを加えて希釈、撹拌して電荷発生層形成用塗工
液を調製した。

この塗工液を下引き層と同様に下記のスプレー条件で塗
工し膜厚０．１μの電荷発生層を形成し、１３０℃で２
０分間加熱乾燥を行った。

く電荷発生層スプレー塗工条件〉 ・スプレー圧力 ・スプレーノズルー支持体間距離 ・支持体回転数 ・スプレーノズルスキャン速度 ・塗工液吐出量 ・スキャン回数 続いて次の組或 ・下記式（Ｕ）のトリスアゾ顔料（リコー社製）３ｋｇ
／ａ｛ １２０ｍｍ ７０ｒｐａ＋ ５ａ＋ａ／　ｓ ３．８ｃｃ／ｗｉｎ ７回 ８．５ｇ ・シリコーンオイル（ＫＦ−５０信越化学社製）・１．
２−シクロヘキサノン（関東化学社製）０．００５ｇ ２０９．３ｇ の電荷輸送層塗工液を調製し，第３図のノズル塗工装置
を用いて下記のノズル塗工条件で膜厚２５．の電荷輸送
層を塗工し，１１５℃で２０分間加熱乾燥を行った。

〈電荷輸送層ノズル塗工条件〉 ・ノズルー支持体間距Ｍ　　　　　　　　　　ｌｔｍ・
支持体回転数　　　　　　　　　　　　７５ｒｐｍ・ノ
ズルスキャン速度　　　　　　　　　１．５ｎ＋ｍ／ｓ
・塗工液吐出量　　　　　　　　　　　１０ｃｃ／ｗｉ
ｎ゜スキャン回数　　　　　　　　　　　　　　１回実
施例２ ・酸化チタン（ＴＡ−３００富士チタン工業社製）　１
２０ｇ・エタノール　（関東化学社製）　　　　　　　
１２８ｇ・トルエン　（関東化学社製）　　　　　　　
１９２ｇから成る混合物をポールミルポットに取りミル
部材としてφ１０アルミナボールを使用し２４時間ミリ
ングした後、エタノールｌトルエン＝　４０／６０の混
合溶媒を１３３．３ｇ加えて１時間ミリングした．ミリ
ングした後エタノール／トルエン＝　４０／６０の混合
溶媒を２６６．７ｇ加えて希釈、撹拌し、下引，層塗工
液を形威した。

この塗工液をアルミ板（ＪＩＳ１０８０、厚さ０．２ｍ
ｍ）に浸漬塗工を行ない膜厚３．５ｐｒｎの下引層を形
成し、１３０℃で１０分間加熱乾燥を行なった，この下
引層を設けたアルミ板を第２図及び第３図の塗工装置の
支持体にはり付けて、実施例１と全く同じ電荷発生層塗
工液、電荷輸送層塗工液を用いてそれぞれスプレー塗工
、ノズル塗工により、電荷発生層、電荷輸送層を設けた
。

実施例３ 実施例ｌの下引層塗工液において、ポリビニルブチラー
ル樹脂をＸ”／ＨＬ（ＵＣＣ社製）に代えた以外は全く
実施例１と同様にして感光体を作威した。

実施例４ 実施例２と全く同様にしてアルミ板上に下引層、電荷発
生層を設けた。

続いて次の組成 前記（ＩＩ）式の電荷輸送物質（リコー社製）　　　　
　７ｇポリカーボネート樹脂（Ｃ−１４００帝人化或社
製）　　Ｌｏｇシリコンオイル（ＫＦ−５０信越化学社
製）　　　　０．００２ｇテトラヒドロフラン（関東化
学社製）８３ｇシク口ヘキサノン（関東化学社［）　　
　　　　　１５０ｇの電荷輸送層塗工液を！ｌ整し下記
のスプレー塗工条件で膜厚２５．の電荷輸送層を塗工し
１６０℃で６０分間加熱乾燥を行なった． 比較例１ 酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ石原産業社製）　　　　６４．
５ｇから成る混合物をポールミルボットに取りミル部材
としてφ１０アルミナボールを使用し、２４時間ボール
ミリングした後、メタノール／１−ブタノール＝１７１
の混合溶媒を９６．４ｇ加えさらに１時間ミリングし、
下引層塗工液を作威した。

この塗工液を実施例ｌで用いたニッケルシームレスベル
ト上に下記のスプレー条件で膜厚２．８戸の下引暦を塗
工し１３０℃で１０分間加熱乾燥を行なった・ この下引層上に実施例１と全く同様にして電荷発生層、
電荷輸送層を設けた。

比較例２ 酸化チタン（Ａ−１００石原産業社製）　　　　　１６
０ｇアルキッド樹脂（ベツフライトＨ−６４０４−５０
−Ｓ大日本インキ社製）３２， メラミン樹脂（スーパーベッカミン Ｌ−　１１７−６０・大日本インキ社製）　　　　　　
　１７．８ｇメチルエチルケトン（関東化学社製）　　
　１０１．４ｇから成る混合物をポールミルポットに取
り、ミル部材としてφ１０アルミナボールを使用し、２
４時間ボールミリングした後，さらにメチルエチルケト
ン１５５．６ｇを加えて１時間ミリングした。

ミリングした後、ミルベースを取り出し、固形分濃度が
１５ｌｌｉｔ％、メチルエチルケトン／シク口へキサノ
ン＝　３０／７０になるようにメチルエチルケトン、シ
クロヘキサノンを加えて希釈、撹拌して下引き層塗工液
を調製した。

この塗工液をシームレスニッケルベルト（厚さ３０仰、
局長４００ｍｍ　Ｘ　＠３０３ｍｍ）に下記のスプレー
条件で膜厚２．５椰の下引き層を塗工し１５０℃で２０
分間加熱乾燥を行った。

く下引き層塗工条件〉 ・スプレー圧力　　　　　　　　　　３．５ｋｇ／ｃｄ
・スプレーノズルー支持体間距離　　　１００ｍｍ・支
持体回転数　　　　　　　　　　　５Ｏｒｐｍ・スプレ
ーノズルスキャン速度　　　　４ｍｍ／ｓ・塗工液吐出
量　　　　　　　　　　　３ｃｃ／ｍｉｎ・スキャン回
数　　　　　　　　　　　　　２回この下引層上に実施
例１と全く同様にして電荷発生層、電荷輸送層を設けた
。

これらの電子写真感光体から１００ｍｍ　Ｘ　７０ｍｍ
のサンプルを切り出し、静電複写試験装置（ＳＰ４２８
型、川口電機製作所社製）を使用し、以下の条件で電子
写真特性を評価した（ダイナミックモードで測定）。

まず、−６ＫＶのコロナ放電を２０秒間行ない感光体を
帯電させた。帯電２秒後の表面電位ｖ２（ボルト），２
０秒後の表面電位ｖｍ（ボルト）を測定し、更に２０秒
間暗所に放置後の表面電位Ｖ．（ボルト）を測定した。

添いて感光体の表面電位が８００Ｖになった時４．５ル
ックスのタングステン光を照射し，表面電位が８０？に
減衰する露光量Ｅエ，１。（１２ｕｘ・秒）及び照射３
０秒後の表面電位Ｖ，。（ボルト）を測定し、初期特性
とした。

更に専用の疲労試験機に電子写真感光体サンプルを移し
、ダイナミックモードで帯電とタングステン光（４８０
ｍｍ以下の波長はカットしたもの）による露光を２時間
くり返した。この間、感光体の表面電位を８００■、感
光層を流れる電流が９．６μＡになる様、帯電電流と露
光強度を調節した。疲労後直ちに感光体サンプルを前記
の静電複写試験装置に移し、初期物性と同様にＶ２，Ｖ
■ＶｏｔＥｔ／ｘ。ｔＶ３。を測定した。結果を表−１
に示す． 表−１ 〔効　果〕 表−１の結果から判る様に本発明の電子写真感光体は高
感度であり、疲労時においても感度変化や残留電位上昇
の少ないものであって、実用的価値の極めて高いもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明で用いる浸漬塗工装置の説明図であり、
第２図は本発明で用いるスプレー塗工装置の説明図であ
り、 第３図は本発明で用いるノズ ル塗工装置の説明図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体、下引層、電荷発生層および電荷輸送層か
   ら成る積層型電子写真感光体において、該下引層および
   電荷発生層がポリビニルブチラール樹脂を含有すること
   を特徴とする電子写真用感光体。