JPH0317277A - メッキ組成物および黒色無電解ニッケルメッキ膜の形成方法 - Google Patents
メッキ組成物および黒色無電解ニッケルメッキ膜の形成方法Info
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- JPH0317277A JPH0317277A JP2047102A JP4710290A JPH0317277A JP H0317277 A JPH0317277 A JP H0317277A JP 2047102 A JP2047102 A JP 2047102A JP 4710290 A JP4710290 A JP 4710290A JP H0317277 A JPH0317277 A JP H0317277A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
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- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は黒色無電解ニッケルメッキに関する。
［従来の技術とその課題コ
無電解ニッケルメッキは従来から知られている。無電解
ニッケルメッキで被覆した物品は例えば米国特許出願第
３０８８８４６号に開示がある。現在では黒色無電解ニ
ッケルメッキに対する一般的な市場ニーズがあり、主と
して装飾目的に使用されているが、必ずしもこれだけに
限定されるわけではない。かかるメッキは例えばテレビ
ジョン、ビデオカセットレコーダーおよびｈｉ−ｆｌ装
置の金属露出部品および／またはケーシングの表面に使
われる。
ニッケルメッキで被覆した物品は例えば米国特許出願第
３０８８８４６号に開示がある。現在では黒色無電解ニ
ッケルメッキに対する一般的な市場ニーズがあり、主と
して装飾目的に使用されているが、必ずしもこれだけに
限定されるわけではない。かかるメッキは例えばテレビ
ジョン、ビデオカセットレコーダーおよびｈｉ−ｆｌ装
置の金属露出部品および／またはケーシングの表面に使
われる。
ＥＰ特許出願第（１６）９４１２７号では、黒色無電解
ニッケルメッキを形成させる際の問題点の解決方法を提
案している。ここでは無電解ニッケルメッキ済み物品を
クロメートイオン、リン酸イオンおよび任意成分として
の硫酸イオンを含む洛中で処理し定期的に電流を逆転さ
せる方法を提案している。ＥＰ特許出願第（１６）９４
１２７号では、Ｅｎｔｈｏｎｅ社から商品名ｒＥＮＰＬ
ＡＴＥ ４１５Ｊとして市販される浴の使用を提案して
いる。しかし、商品名ｒＥＮＰＬＡＴＥ ４１５Ｊ浴か
ら形成させ、次いでこれを転化させて形成させた被膜は
、無電解メッキ浴の金属交換回数が２〜３の場合のみに
適切な黒色層を与えるだけであることが判明している（
金属交換回数は最初に浴中に存在した金属イオンの全重
量がメッキされ尽くした時点で一単位をとる；メッキ期
間中、一般には還元剤と共に金属イオンを浴中に補給す
る。）。
ニッケルメッキを形成させる際の問題点の解決方法を提
案している。ここでは無電解ニッケルメッキ済み物品を
クロメートイオン、リン酸イオンおよび任意成分として
の硫酸イオンを含む洛中で処理し定期的に電流を逆転さ
せる方法を提案している。ＥＰ特許出願第（１６）９４
１２７号では、Ｅｎｔｈｏｎｅ社から商品名ｒＥＮＰＬ
ＡＴＥ ４１５Ｊとして市販される浴の使用を提案して
いる。しかし、商品名ｒＥＮＰＬＡＴＥ ４１５Ｊ浴か
ら形成させ、次いでこれを転化させて形成させた被膜は
、無電解メッキ浴の金属交換回数が２〜３の場合のみに
適切な黒色層を与えるだけであることが判明している（
金属交換回数は最初に浴中に存在した金属イオンの全重
量がメッキされ尽くした時点で一単位をとる；メッキ期
間中、一般には還元剤と共に金属イオンを浴中に補給す
る。）。
この無電解メッキ浴は金属交換回数ｌの場合には有効で
はなく金属交換回数２〜３の場合だけ有効に使用できる
為に、もし析出ニッケルメッキを黒色化する必要がある
場合には、金属交換回数１の場合および４以降の場合に
おいて該浴を他の目的に流用しない限り浴材料の著しい
損失を招くという問題点がある。
はなく金属交換回数２〜３の場合だけ有効に使用できる
為に、もし析出ニッケルメッキを黒色化する必要がある
場合には、金属交換回数１の場合および４以降の場合に
おいて該浴を他の目的に流用しない限り浴材料の著しい
損失を招くという問題点がある。
［課題を解決するための手段コ
無電解ニッケルメッキ浴中にサッカリンを存在させると
浴の寿命期間に亙ってニッケルが析出し、析出したニッ
ケルーリン合金メッキ膜は引き続いて均一に黒色化され
るか、または少なくとも従来可能であった程度よりも優
れた状態で黒色化されるということが判明した。
浴の寿命期間に亙ってニッケルが析出し、析出したニッ
ケルーリン合金メッキ膜は引き続いて均一に黒色化され
るか、または少なくとも従来可能であった程度よりも優
れた状態で黒色化されるということが判明した。
本発明の第１の提案によれば、サッカリンを含有する無
電解ニッケルメッキ浴が提供される。このサッカリンは
一般的には析出ニッケルメブキ映を引き続いて黒色化す
るのに有効な量で存在する。
電解ニッケルメッキ浴が提供される。このサッカリンは
一般的には析出ニッケルメブキ映を引き続いて黒色化す
るのに有効な量で存在する。
ここで使用する”ニッケルメッキ”なる用語には、例え
ばリンのような或る種の他の元素とニッケルとの合金メ
ッキをも包含しており、この合金メッキは無電解メッキ
分野では通常生産される典型的なメッキ膜である。
ばリンのような或る種の他の元素とニッケルとの合金メ
ッキをも包含しており、この合金メッキは無電解メッキ
分野では通常生産される典型的なメッキ膜である。
ニッケル源としては、硫酸ニッケルまたはその他の溶解
性ニッケル塩である。洛中のニッケル濃度としては０．
１〜５０ｇ／ノ、例えば１〜２５ｇ／ｌ、典型的には２
〜１０ｇ／ｌである。
性ニッケル塩である。洛中のニッケル濃度としては０．
１〜５０ｇ／ノ、例えば１〜２５ｇ／ｌ、典型的には２
〜１０ｇ／ｌである。
無電解金属メッキ浴中では、金属イオンは電解的のみな
らず化学的にも還元される。ニッケルイオン用還元剤で
あれば還元剤の種類はとわないが、実際には次亜リン酸
ナトリウムが好ましく、このものはニッケルーり冫合金
メッキ膜を形成させる。還元剤の濃度は１−１（１６）
ｇ／ｌｖ例えば５〜５０ｇ／ｔｓ典型的には２０〜４０
ｇ／ｊである。
らず化学的にも還元される。ニッケルイオン用還元剤で
あれば還元剤の種類はとわないが、実際には次亜リン酸
ナトリウムが好ましく、このものはニッケルーり冫合金
メッキ膜を形成させる。還元剤の濃度は１−１（１６）
ｇ／ｌｖ例えば５〜５０ｇ／ｔｓ典型的には２０〜４０
ｇ／ｊである。
バルク溶液中でのニッケルイオンの還元が速すぎないよ
うに、通常は浴組成物中にニッケルイオン用錯化剤を含
有させる。錯化剤の種類は問わないが、好ましい錯化剤
は酪酸である。（以下、酪酸または他の弱有機酸と呼称
した場合には酪酸イオンもしくは他の該当イオンをも包
含するものとし、実際に存在する形態は浴のそのときの
１）Ｈに依存する。）酪酸以外で有用な錯化剤には、コ
ハク酸、グリコール酸、リンゴ酸、クエン酸が考慮でき
る。錯化剤の濃度は１−１（１６）ｇ／ｌ，例えば５〜
５ ０ ｇ／ ７％ ！ＩＩＩ型的には２０〜４０ｇ／
ｌである。混合物を包含する他の錯化剤も使用可能であ
る。
うに、通常は浴組成物中にニッケルイオン用錯化剤を含
有させる。錯化剤の種類は問わないが、好ましい錯化剤
は酪酸である。（以下、酪酸または他の弱有機酸と呼称
した場合には酪酸イオンもしくは他の該当イオンをも包
含するものとし、実際に存在する形態は浴のそのときの
１）Ｈに依存する。）酪酸以外で有用な錯化剤には、コ
ハク酸、グリコール酸、リンゴ酸、クエン酸が考慮でき
る。錯化剤の濃度は１−１（１６）ｇ／ｌ，例えば５〜
５ ０ ｇ／ ７％ ！ＩＩＩ型的には２０〜４０ｇ／
ｌである。混合物を包含する他の錯化剤も使用可能であ
る。
サッカリンは溶解型として洛中に添加するのが普通であ
る。溶解型として適当なものはナトリウム塩であるが、
他の溶解性塩も使用できる。好ましい結果を得る為にサ
ッカリンは少なくとも０．７ｇ／ｌの濃度で使用するべ
きである。２ｇ／ノ以上の濃度で使用すると、時として
黒化後に斑紋現象が現われる。サッカリン濃度として特
に好ましい濃度はｌ．Ｏ〜１．８ｇ／ｌ、例えば１．５
ｇ／ｌであることが分かった。これ以外の指針としては
、消耗するニッケルのｇ当たり２５〜２（１６）ｍｇの
サッカリンの存在が浴を維持する関係で好適な結果を生
むことが実験室的に見いだされ；ニッケルのｇ当り７５
〜１２５ｍｇｓ特にニッケルのｇ当り約１（１６） 一
ｇが好ましい比率であることが判明した。
る。溶解型として適当なものはナトリウム塩であるが、
他の溶解性塩も使用できる。好ましい結果を得る為にサ
ッカリンは少なくとも０．７ｇ／ｌの濃度で使用するべ
きである。２ｇ／ノ以上の濃度で使用すると、時として
黒化後に斑紋現象が現われる。サッカリン濃度として特
に好ましい濃度はｌ．Ｏ〜１．８ｇ／ｌ、例えば１．５
ｇ／ｌであることが分かった。これ以外の指針としては
、消耗するニッケルのｇ当たり２５〜２（１６）ｍｇの
サッカリンの存在が浴を維持する関係で好適な結果を生
むことが実験室的に見いだされ；ニッケルのｇ当り７５
〜１２５ｍｇｓ特にニッケルのｇ当り約１（１６） 一
ｇが好ましい比率であることが判明した。
緩衝剤を浴中に存在させることもできる。緩衝剤として
は例えば弱有機酸およびその塩を使用できるが、主とし
て酢酸／酢酸塩系が使用される。
は例えば弱有機酸およびその塩を使用できるが、主とし
て酢酸／酢酸塩系が使用される。
この緩衝剤濃度は１〜５０ｇ／！、例えば５〜４ ０
ｇ／ｌ、典型的には２０〜３０ｇ／ｌである。
ｇ／ｌ、典型的には２０〜３０ｇ／ｌである。
緩衝剤として酢酸ナトリウムを使用する場合には、３水
和物として供給する。
和物として供給する。
この組成物は一種または２種以上の安定剤をさらに含有
してもよい。無電解ニッケル系に対しては適量の鉛が好
ましい安定剤であることが分かった。鉛は酢酸鉛として
供給するか、または他の適当な水溶性鉛塩として添加す
る。鉛の濃度は０．１〜５ｍｇ／Ｊ、例えば０．２〜３
曽ｇ／ １ １典型的には０．６〜１．５ｍｇ／／であ
る。
してもよい。無電解ニッケル系に対しては適量の鉛が好
ましい安定剤であることが分かった。鉛は酢酸鉛として
供給するか、または他の適当な水溶性鉛塩として添加す
る。鉛の濃度は０．１〜５ｍｇ／Ｊ、例えば０．２〜３
曽ｇ／ １ １典型的には０．６〜１．５ｍｇ／／であ
る。
イオウ含有化合物も他の部類に属する有用な安定剤であ
る。この部類で有用な安定剤には、３一（（アミノーイ
ンミノメチノレ）チオ）−１−プロパンスルフオン酸で
あるが，必ずしも該化合物のみに限定されない。このイ
オウ化合物の濃度は、０．１〜１ ０ ｍｇ／ ７ １
例えば０．２〜５ ｔｉｅ／ ｌ、典型的には０．５〜
３一ｇ／ｌである。
る。この部類で有用な安定剤には、３一（（アミノーイ
ンミノメチノレ）チオ）−１−プロパンスルフオン酸で
あるが，必ずしも該化合物のみに限定されない。このイ
オウ化合物の濃度は、０．１〜１ ０ ｍｇ／ ７ １
例えば０．２〜５ ｔｉｅ／ ｌ、典型的には０．５〜
３一ｇ／ｌである。
通常無電解ニッケルメッキｉ■成物のｐＨは酸性側であ
る。３〜６、例えば４〜５，５、典型的には４，５〜５
である。
る。３〜６、例えば４〜５，５、典型的には４，５〜５
である。
本発明の第２の提案によれば、黒色無電ニッケルッキ膜
の形成方法が提供され、該方法によればサッカリンを含
む無電解ニッケルメッキ組成物と素地とを接触させ、次
いでクロムを含む転化層を形成させる。この転化層はリ
ンおよび任意にイオウ成分を含んでいる。特に該転化層
はＣｒＰＯ４およびＣｒ（ＯＨ）ｉ成分から成り場合に
よりＣｒ２ （８０４）！！成分をも含みうる層であ
って、かつＣｒ：Ｐ：Ｓ＝１： （０．２ 〜１．５）
：（０〜０．５））の重量比を示す塩基性永和リン酸ク
ロム層から成っている。
の形成方法が提供され、該方法によればサッカリンを含
む無電解ニッケルメッキ組成物と素地とを接触させ、次
いでクロムを含む転化層を形成させる。この転化層はリ
ンおよび任意にイオウ成分を含んでいる。特に該転化層
はＣｒＰＯ４およびＣｒ（ＯＨ）ｉ成分から成り場合に
よりＣｒ２ （８０４）！！成分をも含みうる層であ
って、かつＣｒ：Ｐ：Ｓ＝１： （０．２ 〜１．５）
：（０〜０．５））の重量比を示す塩基性永和リン酸ク
ロム層から成っている。
無電解ニッケルメッキ膜の形成において、浴温は４０〜
９９℃、例えば６０〜９５’Ｃ，典型的には８５〜９０
℃である。メッキ時間は特に限定されないが、例えば５
分ないし５時間であり所望するメッキ厚さに依存する。
９９℃、例えば６０〜９５’Ｃ，典型的には８５〜９０
℃である。メッキ時間は特に限定されないが、例えば５
分ないし５時間であり所望するメッキ厚さに依存する。
通常のメッキ時間は２時間であるが、約１０ミクロン厚
さを得る為には３０〜４５分が普通である。
さを得る為には３０〜４５分が普通である。
転化にはクロム、リンおよびイオウを含み、典型的には
Ｃｒ：Ｐ：Ｓ＝１：１ （０ 〜０．２）の重量比お示
す。
Ｃｒ：Ｐ：Ｓ＝１：１ （０ 〜０．２）の重量比お示
す。
一般に該転化層は無電解ニッケルメッキ済み物品を定期
的な逆電流で処理したときに形成され、これに関しては
ＥＰ特許出願第（１６）９４１２７号に記載がある。逆
電流の周期は０．１〜５０１１ｚ、例えば０． ５〜２
５ Ｈｚ ，典型的には約１ ［１ｚである。
的な逆電流で処理したときに形成され、これに関しては
ＥＰ特許出願第（１６）９４１２７号に記載がある。逆
電流の周期は０．１〜５０１１ｚ、例えば０． ５〜２
５ Ｈｚ ，典型的には約１ ［１ｚである。
与えられた電流サイクルにおいて、無電解ニッケルメッ
キ済み物品がカソードである期間とアノードである期間
との比率（１．．１／ｌ．．）は１に等しいことを必要
としない。一般的にはｔｏ．ｔ／ｔ０比は０．０５〜２
０が適当であるが、１以下が好ましい。０．１〜０．８
が特に好ましいことが判明した。
キ済み物品がカソードである期間とアノードである期間
との比率（１．．１／ｌ．．）は１に等しいことを必要
としない。一般的にはｔｏ．ｔ／ｔ０比は０．０５〜２
０が適当であるが、１以下が好ましい。０．１〜０．８
が特に好ましいことが判明した。
電流密度は０．１〜Ｉ ＡＳＤ，例えば０．２〜０．
５ ＡＳＤ，典型的には約０． ２５ １ＳＤである
。
５ ＡＳＤ，典型的には約０． ２５ １ＳＤである
。
本発明のｆｆｉ要なる特徴は、この転化浴組成物中に硝
酸イオンが存在すると性能が向上する；すなわち均一電
着性が向上することが観察され、かつ高電流密度領域で
緑色化する傾向が減少するということである。したがっ
て転化浴組成物中に鞘酸イオンを含有させるのが好まし
＜、該硝酸イオン源としては硝酸を用いる。添加量とし
ては６５％硝酸としてｌ〜１０１１１／ｌ、例えば５〜
１０■１／ １，典型的には約７．５ 閣！である。
酸イオンが存在すると性能が向上する；すなわち均一電
着性が向上することが観察され、かつ高電流密度領域で
緑色化する傾向が減少するということである。したがっ
て転化浴組成物中に鞘酸イオンを含有させるのが好まし
＜、該硝酸イオン源としては硝酸を用いる。添加量とし
ては６５％硝酸としてｌ〜１０１１１／ｌ、例えば５〜
１０■１／ １，典型的には約７．５ 閣！である。
転化浴組成物中のクロメートイオン濃度は１〜４０ｇ７
１％例えば２〜２０ｇ／ｌ、典型的には５〜１５ｇ／ｌ
である。リン酸イオン濃度は濃リン酸として１〜Ｂｏｗ
ｌ／ｌ，例えば２〜４０ｍｌ／ｌ，典型的には１０〜３
０閣１／ｌを供給したときの濃度である。硫酸イオン濃
度は濃硫酸０〜１０ｌｌ１例えば０．１〜５■１／ｌ，
典型的には０．５〜３ｔｍｌ／！を供給したときの濃度
である。
１％例えば２〜２０ｇ／ｌ、典型的には５〜１５ｇ／ｌ
である。リン酸イオン濃度は濃リン酸として１〜Ｂｏｗ
ｌ／ｌ，例えば２〜４０ｍｌ／ｌ，典型的には１０〜３
０閣１／ｌを供給したときの濃度である。硫酸イオン濃
度は濃硫酸０〜１０ｌｌ１例えば０．１〜５■１／ｌ，
典型的には０．５〜３ｔｍｌ／！を供給したときの濃度
である。
［実施例］
尖１ば（Ｌ
無電解ニッケルメッキ水性組成物を次の処方で調製した
。
。
ＣｒＯ３
１０ｇ／ｌ
Ｈ３ ＰＯ４ （８５％） ２０ ■１７１
Ｈ．８０． （９８％） ’２ｓｌ／ｌＮ
ｉ ” （硫酸ニッケルとして） ８． ２ｇ／ｌ酪
酸（ ８ ０ ％Ｗ ／ Ｖ ） ３ ０ ．
０ 富！ ／ １酢酸ナトリウム●３水和物 ２
４．０ｇ／ ｊ次亜リン酸ナトリウム ３０．０ｇ
，＃Ｐｂ”（酢酸鉛として） １．３＠ｇ／ｌ
３−（（アミノインムノメチル）チオ）一ｌ−プロパン
スノレフオンａ ２． Ｏ ｔａｇ／ｌＮａＯＨ
３． ８ ｇ／ ＩＮａ
−サッカリン １．５ｇ＃ｐＨ
４．８ 鋼製パネルを上記の組成物で３５分間、ｐＨ４．９、浴
温８９℃でメッキした。
Ｈ．８０． （９８％） ’２ｓｌ／ｌＮ
ｉ ” （硫酸ニッケルとして） ８． ２ｇ／ｌ酪
酸（ ８ ０ ％Ｗ ／ Ｖ ） ３ ０ ．
０ 富！ ／ １酢酸ナトリウム●３水和物 ２
４．０ｇ／ ｊ次亜リン酸ナトリウム ３０．０ｇ
，＃Ｐｂ”（酢酸鉛として） １．３＠ｇ／ｌ
３−（（アミノインムノメチル）チオ）一ｌ−プロパン
スノレフオンａ ２． Ｏ ｔａｇ／ｌＮａＯＨ
３． ８ ｇ／ ＩＮａ
−サッカリン １．５ｇ＃ｐＨ
４．８ 鋼製パネルを上記の組成物で３５分間、ｐＨ４．９、浴
温８９℃でメッキした。
実ＩＬｄ』１
実施例１に従って作ったニッケルメッキ済み鋼製パネル
を次の処方による溶液で処理した。
を次の処方による溶液で処理した。
アノード時間
カソード時間
電流密度
浴温
０．８秒
０． ２秒
０． ２５ＡＳＤ
２０〜２２℃
電解処理を３０分間継続した。
優れた均一Ａ黒色被膜が得られた。
見飯匙エ
実施例１に記載のように鋼製パネルをメッキした。メッ
キの間、ニッケルと余分の次ｉＵン酸ナトリウムおよび
安定剤を添加して各成分を初期濃度に戻した。副生が避
けられないニッケルオルト亜リン酸塩の沈殿を防止する
ために、さらに酪酸を加えた。
キの間、ニッケルと余分の次ｉＵン酸ナトリウムおよび
安定剤を添加して各成分を初期濃度に戻した。副生が避
けられないニッケルオルト亜リン酸塩の沈殿を防止する
ために、さらに酪酸を加えた。
金属交換回数１１２、３、４および５後、この鋼製パネ
ルを実施例２に記載の転化方法に従って処理した。優れ
た均一な黒色披膜が得られた。
ルを実施例２に記載の転化方法に従って処理した。優れ
た均一な黒色披膜が得られた。
丸艷匙
実施例１に記載の組成物中で鋼製パネルの無電解メッキ
を行なったが、ナトリウムサッカリンは添加しなかった
。金属交換回数ｌ後、この鋼製パネルを取り出し実施例
２に記載の転化方法で処理した。転化ニッケル被膜の高
電流密度部分はＵ！Ｉ緑色、中電流密度部分は若干玉虫
色の黒色、低電流密度部分は玉虫色をした黒色を呈し、
満足できる黒色被膜は得られなかった。
を行なったが、ナトリウムサッカリンは添加しなかった
。金属交換回数ｌ後、この鋼製パネルを取り出し実施例
２に記載の転化方法で処理した。転化ニッケル被膜の高
電流密度部分はＵ！Ｉ緑色、中電流密度部分は若干玉虫
色の黒色、低電流密度部分は玉虫色をした黒色を呈し、
満足できる黒色被膜は得られなかった。
Claims (22)
- （１） サッカリンを含む無電解ニッケルメッキ組成物
。 - （２） ニッケル濃度が１〜２５ｇ／ｌである請求項１
記載の組成物。 - （３） 還元剤を濃度５〜５０ｇ／ｌで含む請求項１ま
たは２記載の組成物。 - （４） 該還元剤が次亜リン酸ナトリウムである請求項
３記載の組成物。 - （５） ニッケルイオン用錯化剤を濃度５〜５０ｇ／ｌ
で含む請求項１または２記載の組成物。 - （６） 該錯化剤が酪酸である請求項５記載の組成物。
- （７） 該サッカリンの濃度が少なくとも０．７ｇ／ｌ
である請求項１記載の組成物。 - （８） 該サッカリンの濃度が２ｇ／ｌ以下である請求
項１記載の組成物。 - （９） 緩衝剤を濃度５〜４０ｇ／ｌで含む請求項１記
載のの組成物。 - （１０） 該緩衝剤が酢酸である請求項９項記載の組成
物。 - （１１） 一種または二種以上の安定剤を含む請求項１
記載の組成物。 - （１２） サッカリンを含む無電解ニッケルメッキ組成
物と素地とを接触させ、かつクロムを含む転化層を形成
させることから成る黒色無電解ニッケルメッキ膜の形成
方法。 - （１３） 該転化層がリンを含み、かつ任意成分として
の硫黄を含む請求項１２記載の方法。 - （１４） 該転化層がＣｒＰＯ＿４とＣｒ（ＯＨ）＿３
成分から成る塩基性水和リン酸クロムから成り、場合に
よりＣｒ＿２（ＳＯ＿４）＿３をも含み得る転化層であ
ってＣｒ：Ｐ：Ｓ＝１：（０．２〜１．５）：（０〜０
．５）の重量比を示す請求項１３記載の方法。 - （１５） 該転化層が、転化組成物中で定期的に電流を
逆転させて処理することにより形成されて成る請求項１
２記載の方法。 - （１６） 電流の逆転周期が０．５〜２５Ｈｚである請
求項１５記載の方法。 - （１７） 与えられた電流サイクルにおいて無電解ニッ
ケルメッキ物品がカソードである期間とアノードである
期間との比（Ｔ＿ｏ＿ａ＿ｔ／Ｔ＿ａ＿ｎ）が０．１〜
０．８である請求項１２記載の方法。 - （１８） 該転化層が、硝酸イオンを含む転化組成物と
接触させて形成されて成る請求項１２記載の方法。 - （１９） 硝酸イオン濃度が、５〜１０ｍｌ／ｌの硝酸
（６５％）の供給により提供される濃度である請求項１
８記載の方法。 - （２０） ２〜２０ｇ／ｌＣｒＯ＿３を含む組成物と接
触させることにより転化反応を生起させて成る請求項１
２記載の方法。 - （２１） ２〜４０ｍｌ／ｌの濃リン酸の供給により得
られる濃度のリン酸イオンを含む組成物と接触させるこ
とにより転化反応を生起させて成る請求項１２記載の方
法。 - （２２） ０．１〜５ｍｌ／ｌの濃硫酸の供給により得
られる濃度の硫酸イオンを含む組成物と接触させること
により転化反応を生起させて成る請求項１２記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8904435.8 | 1989-02-27 | ||
| GB8904435A GB2231063A (en) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | Electroless plating composition containing saccharin |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317277A true JPH0317277A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=10652386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2047102A Pending JPH0317277A (ja) | 1989-02-27 | 1990-02-27 | メッキ組成物および黒色無電解ニッケルメッキ膜の形成方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0317277A (ja) |
| BE (1) | BE1003583A5 (ja) |
| CH (1) | CH680449A5 (ja) |
| DE (1) | DE4005088A1 (ja) |
| ES (1) | ES2021949A6 (ja) |
| GB (1) | GB2231063A (ja) |
| IT (1) | IT1240776B (ja) |
| NL (1) | NL9000308A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004124261A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Enthone Inc | 金属の無電解析出法 |
| JP2006169605A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Nippon Kanizen Kk | リン酸塩被膜を有する無電解ニッケルめっき膜の形成方法およびその形成膜 |
| KR20120050999A (ko) * | 2009-07-03 | 2012-05-21 | 엔쏜 인코포레이티드 | 베타-아미노산 함유 전해질 및 금속 층 침착 방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2135635C1 (ru) * | 1998-04-27 | 1999-08-27 | Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН | Раствор для химического никелирования |
| CN111850534B (zh) * | 2020-06-16 | 2022-03-01 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种马氏体不锈钢油管低应力预钝化膜及其制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3088846A (en) * | 1962-01-24 | 1963-05-07 | Gen Am Transport | Processes of treating nickel-phosphorus alloy coatings and the resulting modified coatings |
| US3215700A (en) * | 1964-02-03 | 1965-11-02 | Harshaw Chem Corp | Certain 2-(hydroxyalkynyl)-substituted saccharins |
| US3586524A (en) * | 1969-07-10 | 1971-06-22 | Shell Oil Co | Consolidation of formations by electroless metal plating process |
| DE2111136A1 (de) * | 1971-03-09 | 1972-09-28 | Kalle Ag | Verfahren zur Herstellung von metallisierten Formkoerpern aus makromolekularem Material |
| JPS5437088B2 (ja) * | 1972-02-18 | 1979-11-13 | ||
| CA1016488A (en) * | 1974-04-01 | 1977-08-30 | Oxy Metal Industries Corporation | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits |
| GB1553503A (en) * | 1976-05-14 | 1979-09-26 | Oxy Metal Industries Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits |
| US4179343A (en) * | 1979-02-12 | 1979-12-18 | Oxy Metal Industries Corporation | Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits |
| NL8201849A (nl) * | 1982-05-06 | 1983-12-01 | Philips Nv | Voorwerp met een laag van een nikkel-fosfor-legering en met een conversielaag bedekt. |
| JPS6075583A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-27 | Komatsu Ltd | 超砥粒の無電解めつき法 |
| JPS60248882A (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-09 | Aisin Seiki Co Ltd | 高リン含有ニツケル合金の無電解めつき浴 |
| CA1274754A (en) * | 1985-09-06 | 1990-10-02 | Gary A. Reghi | Passivation process and composition for zinc-aluminum alloys |
-
1989
- 1989-02-27 GB GB8904435A patent/GB2231063A/en not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-02-09 NL NL9000308A patent/NL9000308A/nl not_active Application Discontinuation
- 1990-02-17 DE DE4005088A patent/DE4005088A1/de active Granted
- 1990-02-21 ES ES9000522A patent/ES2021949A6/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-23 BE BE9000202A patent/BE1003583A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1990-02-23 IT IT47670A patent/IT1240776B/it active IP Right Grant
- 1990-02-27 JP JP2047102A patent/JPH0317277A/ja active Pending
- 1990-02-27 CH CH609/90A patent/CH680449A5/de not_active IP Right Cessation
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| JP2013508538A (ja) * | 2009-07-03 | 2013-03-07 | エンソン インコーポレイテッド | β−アミノ酸含有電解質および金属層の堆積方法 |
| JP2017166073A (ja) * | 2009-07-03 | 2017-09-21 | マクダーミッド エンソン インコーポレイテッド | 基板上に金属層を堆積させるための鍍金処方物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| GB8904435D0 (en) | 1989-04-12 |
| BE1003583A5 (fr) | 1992-04-28 |
| IT9047670A0 (it) | 1990-02-23 |
| IT1240776B (it) | 1993-12-17 |
| GB2231063A (en) | 1990-11-07 |
| IT9047670A1 (it) | 1990-08-28 |
| ES2021949A6 (es) | 1991-11-16 |
| DE4005088A1 (de) | 1990-08-30 |
| CH680449A5 (ja) | 1992-08-31 |
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