JPH03179023A - 導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法 - Google Patents
導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法Info
- Publication number
- JPH03179023A JPH03179023A JP2238845A JP23884590A JPH03179023A JP H03179023 A JPH03179023 A JP H03179023A JP 2238845 A JP2238845 A JP 2238845A JP 23884590 A JP23884590 A JP 23884590A JP H03179023 A JPH03179023 A JP H03179023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- acid
- alkoxy group
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920002779 poly(alkoxythiophenes) Polymers 0.000 title claims abstract description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 36
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 68
- -1 Tetrafluoroborates Chemical class 0.000 claims description 55
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 22
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 3-methoxythiophene Chemical compound COC=1C=CSC=1 RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 12
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 9
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005002 aryl methyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001496 lithium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 5
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical class FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 claims 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 24
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 abstract description 12
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 abstract description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract 2
- OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 2,2'-bithiophene Chemical compound C1=CSC(C=2SC=CC=2)=C1 OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 22
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 13
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 13
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- HQKVUWMATDWFJI-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 HQKVUWMATDWFJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 3
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 2-Methylfuran Chemical compound CC1=CC=CO1 VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDEGOEYUQCUBPE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxythiophene Chemical compound CCOC=1C=CSC=1 RDEGOEYUQCUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N carvone Chemical compound CC(=C)C1CC=C(C)C(=O)C1 ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N cyanoacetic acid Chemical compound OC(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OXHNLMTVIGZXSG-UHFFFAOYSA-N 1-Methylpyrrole Chemical compound CN1C=CC=C1 OXHNLMTVIGZXSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRMSQVBRUNSOJL-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)F LRMSQVBRUNSOJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALLSOOQIDPLIER-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl ALLSOOQIDPLIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEPXLRANFJEOFZ-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trifluorobenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(F)C(F)=C1F WEPXLRANFJEOFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)acetic acid Chemical compound COCCOCC(O)=O CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAQAERNKMHATDZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-pyrrole Chemical compound BrC1=CC=CN1 SAQAERNKMHATDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPPONNUKANAMCK-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,4-dimethyl-1h-pyrrole Chemical compound CC1=CNC(Br)=C1C GPPONNUKANAMCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSNAMSQNHCXVSZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-methoxythiophene Chemical compound COC=1C=CSC=1Br WSNAMSQNHCXVSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromothiophene Chemical compound BrC1=CC=CS1 TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLGXRTUGMZEVII-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-pyrrole Chemical compound ClC1=CC=CN1 PLGXRTUGMZEVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUZBPJAGZHSQ-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutanoic acid Chemical compound CCC(Cl)C(O)=O RVBUZBPJAGZHSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSFNQBFZFXUTBN-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothiophene Chemical compound ClC1=CC=CS1 GSFNQBFZFXUTBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONAAFLGGIVAPCF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=CS1 ONAAFLGGIVAPCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPMFDNZCLKTHE-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CS1 NJPMFDNZCLKTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTLZCUPHHPZCBE-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxythiophene Chemical compound CCCCCCOC1=CC=CS1 UTLZCUPHHPZCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLZVRTHPHPXHIK-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-3-methylthiophene Chemical compound COC=1SC=CC=1C VLZVRTHPHPXHIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXCGHDNCMSOEBZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyfuran Chemical compound COC1=CC=CO1 OXCGHDNCMSOEBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKEHURCMYKPVFW-UHFFFAOYSA-N 2-methoxythiophene Chemical compound COC1=CC=CS1 OKEHURCMYKPVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiophene Chemical compound CC1=CC=CS1 XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWMRVTDUWMBHRV-UHFFFAOYSA-N 3,4-diethylthiophene Chemical compound CCC1=CSC=C1CC KWMRVTDUWMBHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKRLIYPHRWOEN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethylhexoxy)thiophene Chemical compound CCCCC(CC)COC=1C=CSC=1 VYKRLIYPHRWOEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIOKHGQQEXNADI-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)-4-methylthiophene Chemical compound COCCOC1=CSC=C1C FIOKHGQQEXNADI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGYDQPSQRSYFLU-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxymethyl)thiophene Chemical compound COCCOCC=1C=CSC=1 UGYDQPSQRSYFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVJVIDPAXDSUFB-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-4-methylthiophene Chemical compound COCCOCCOC1=CSC=C1C UVJVIDPAXDSUFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHYNYTDUZMSYNO-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]thiophene Chemical compound COCCOCCOC=1C=CSC=1 LHYNYTDUZMSYNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIIDGUVJMBQEDB-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxymethyl]thiophene Chemical compound COCCOCCOCC=1C=CSC=1 PIIDGUVJMBQEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVXRIZGELELNZ-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4-dodecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CSC=C1OCCCC OHVXRIZGELELNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYGMNINJNDULL-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4-ethoxythiophene Chemical compound C(CCC)OC1=CSC=C1OCC VSYGMNINJNDULL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLQOTRSBUUUIQU-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4-ethylthiophene Chemical compound CCCCOC1=CSC=C1CC WLQOTRSBUUUIQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHKXKQNKNKCYKD-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4-methylthiophene Chemical compound CCCCOC1=CSC=C1C MHKXKQNKNKCYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZSSXTMHSXMZBL-UHFFFAOYSA-N 3-butoxythiophene Chemical compound CCCCOC=1C=CSC=1 NZSSXTMHSXMZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHCKAMFCPXNEZ-UHFFFAOYSA-N 3-butyl-4-methoxythiophene Chemical compound CCCCC1=CSC=C1OC ZTHCKAMFCPXNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUUOHRSINXUJKX-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1h-pyrrole Chemical compound ClC=1C=CNC=1 UUUOHRSINXUJKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYLKKXHEIIFTJH-UHFFFAOYSA-N 3-cyanobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C#N)=C1 GYLKKXHEIIFTJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTIXUMPBYXTWQA-UHFFFAOYSA-N 3-decoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 YTIXUMPBYXTWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYSJSYOUJDPQP-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxy-4-methoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CSC=C1OC WBYSJSYOUJDPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWCYHUDGBIAFEG-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxy-4-methylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CSC=C1C QWCYHUDGBIAFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFUBQYBYEMDNGP-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-4-methoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CSC=C1OC KFUBQYBYEMDNGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNQMRPQGUYPISL-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-4-ethylthiophene Chemical compound CCOC1=CSC=C1CC NNQMRPQGUYPISL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFGMGURHKDBSMH-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-4-hexoxythiophene Chemical compound CCCCCCOC1=CSC=C1OCC FFGMGURHKDBSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OERNGHXVZHWZLB-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-4-methoxythiophene Chemical compound CCC1=CSC=C1OC OERNGHXVZHWZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXNBDFWNYRNIBH-UHFFFAOYSA-N 3-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(F)=C1 MXNBDFWNYRNIBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJHLDVJFOQWLT-UHFFFAOYSA-N 3-hexoxythiophene Chemical compound CCCCCCOC=1C=CSC=1 GFJHLDVJFOQWLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFJNRPQCSFTUCT-UHFFFAOYSA-N 3-icosoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 ZFJNRPQCSFTUCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXHKQGRHPLZUGH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-2-methylthiophene Chemical compound COC=1C=CSC=1C OXHKQGRHPLZUGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1h-pyrrole Chemical compound CC=1C=CNC=1 FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPORMHZYIJPHAV-UHFFFAOYSA-N 3-octadecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 KPORMHZYIJPHAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMZKQNBVXAWQHH-UHFFFAOYSA-N 3-pentadecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 BMZKQNBVXAWQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJAURUMTVMVSGR-UHFFFAOYSA-N 3-pentoxythiophene Chemical compound CCCCCOC=1C=CSC=1 NJAURUMTVMVSGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZQHSASYJPDSRJ-UHFFFAOYSA-N 3-tetradecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 QZQHSASYJPDSRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHBQFLXPSQEUQE-UHFFFAOYSA-N 3-undecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 BHBQFLXPSQEUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 4-cyanobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C#N)C=C1 ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBYDXOIZLAWGSL-UHFFFAOYSA-N 4-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 BBYDXOIZLAWGSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICQPBAWSBLMHGD-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylthiophene Chemical compound COC1=CSC(C)=C1 ICQPBAWSBLMHGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZLSBOVWPHXCLT-UHFFFAOYSA-N 5-chlorothiophene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)S1 QZLSBOVWPHXCLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000005973 Carvone Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N Methylthiophene Natural products CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005418 aryl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N butynedioic acid Chemical compound OC(=O)C#CC(O)=O YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010349 cathodic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 1
- YMGUBTXCNDTFJI-UHFFFAOYSA-N cyclopropanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC1 YMGUBTXCNDTFJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005661 deetherification reaction Methods 0.000 description 1
- CNHGJEZYPAXGQW-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene;thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1.C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 CNHGJEZYPAXGQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound ClCCN(N=O)C(=O)NC1(C(=O)OCC)CCCCC1 FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002395 hexacarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N m-Trifluoromethylhippuric acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- DOUYEKHGDMRGAT-UHFFFAOYSA-N n-(3-methoxythiophen-2-yl)acetamide Chemical compound COC=1C=CSC=1NC(C)=O DOUYEKHGDMRGAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUJUXBNNUCFWLW-UHFFFAOYSA-N n-(4-methoxythiophen-2-yl)acetamide Chemical compound COC1=CSC(NC(C)=O)=C1 IUJUXBNNUCFWLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical compound C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005301 thienylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(S1)C([H])([H])* 0.000 description 1
- QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CS1 QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002827 triflate group Chemical class FC(S(=O)(=O)O*)(F)F 0.000 description 1
- CPYIZQLXMGRKSW-UHFFFAOYSA-N zinc;iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3].[Zn+2] CPYIZQLXMGRKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は工業的規模での製造の必要性を考慮した導電性
ポリアルコキシチオフェンの改良された電気化学的製造
方法に関する。
ポリアルコキシチオフェンの改良された電気化学的製造
方法に関する。
ポリアルコキシチオフェンは空気および水に対する高い
安定性ならびに良好な耐熱性を有するので、導電性ポリ
マーの中でも特に重要である9さらに、ポリアルコキシ
チオフェンはドープされた状LQ(doped 5ta
te)で可溶である多くの典型的な例(represe
ntatives)を含み、その結果、種々な支持体(
3ubstrate)上の導電性被覆を可能にする。
安定性ならびに良好な耐熱性を有するので、導電性ポリ
マーの中でも特に重要である9さらに、ポリアルコキシ
チオフェンはドープされた状LQ(doped 5ta
te)で可溶である多くの典型的な例(represe
ntatives)を含み、その結果、種々な支持体(
3ubstrate)上の導電性被覆を可能にする。
アルコキシチオフェンの電気化学的アノード酸化は導電
性ポリアルコキシチオフェンの公知の製造方法である(
ヨーロッパ特許出願第257,573号参照)、シかし
、カソードプロセスは今まで殆んど注目されていない、
カソードプロセスは転換率(conversion)が
大きくなるにつれ電気分解分野でますます重要視される
と考えられる。さらに、導電性塩として好んで用いられ
るテトラアルキルアンモニウム塩は比較的高価であり、
電気分解中に一部は分解されるので、完全には回収され
ない。
性ポリアルコキシチオフェンの公知の製造方法である(
ヨーロッパ特許出願第257,573号参照)、シかし
、カソードプロセスは今まで殆んど注目されていない、
カソードプロセスは転換率(conversion)が
大きくなるにつれ電気分解分野でますます重要視される
と考えられる。さらに、導電性塩として好んで用いられ
るテトラアルキルアンモニウム塩は比較的高価であり、
電気分解中に一部は分解されるので、完全には回収され
ない。
機能的電気化学的セルではアノードとカソードにおいて
同時に異なる電気化学反応が行われる。
同時に異なる電気化学反応が行われる。
従って、例えばチオフェンの電気化学的重合ではアノー
ドにおいてモノマーのチオフェンが徐々に反応してポリ
チオフェンを形成し、1モノマ一単位につき2個のプロ
トンが放出される、またカソードではプロトンが通常の
やり方で還元されて水素になる。チオフェンのアノード
重合中は、形成されたポリチオフェンがアノードにおい
て付加的にさらに酸化されて、ドープト(doped)
ポリチオフェンが形成され、3−5モノマ一単位につき
陽電荷1個が一般に失われる。この場合に、各反応の化
学量論は次式で表されるニ アノード: カソード: 2H” + 2e−→ H。
ドにおいてモノマーのチオフェンが徐々に反応してポリ
チオフェンを形成し、1モノマ一単位につき2個のプロ
トンが放出される、またカソードではプロトンが通常の
やり方で還元されて水素になる。チオフェンのアノード
重合中は、形成されたポリチオフェンがアノードにおい
て付加的にさらに酸化されて、ドープト(doped)
ポリチオフェンが形成され、3−5モノマ一単位につき
陽電荷1個が一般に失われる。この場合に、各反応の化
学量論は次式で表されるニ アノード: カソード: 2H” + 2e−→ H。
モノマーまたはポリマーのチオフェンから離脱して、ア
ノードに流入する各電子に対して、電子がカソードを出
なければならず、この点においてプロトンを放出するこ
とができる。アノード反応の化学量論から、プロトンよ
りも正確にn個多い電子が発生することが明らかである
。このことはカソードにおいて放出するために不充分な
電子が用いられるにすぎないという不可避な結果が生ず
る。特に、一定電流で高転換率による分取電気分解(p
repara t iνe electrolysis
)では、これによって電圧が増大し、導電性塩と溶媒と
の制御不能な反応が生し、選択性と収量は低下し、好ま
しくないカソードプロセスからの分解生成物の結果とし
て、電解質の処理(working up>が困難にな
る。
ノードに流入する各電子に対して、電子がカソードを出
なければならず、この点においてプロトンを放出するこ
とができる。アノード反応の化学量論から、プロトンよ
りも正確にn個多い電子が発生することが明らかである
。このことはカソードにおいて放出するために不充分な
電子が用いられるにすぎないという不可避な結果が生ず
る。特に、一定電流で高転換率による分取電気分解(p
repara t iνe electrolysis
)では、これによって電圧が増大し、導電性塩と溶媒と
の制御不能な反応が生し、選択性と収量は低下し、好ま
しくないカソードプロセスからの分解生成物の結果とし
て、電解質の処理(working up>が困難にな
る。
電気分解中のpH値上昇は、安価なアルカリ金属塩を導
電性塩として用いた場合に、厄介なスケールをカソード
上に付着させるので、特に面倒に感しられる。
電性塩として用いた場合に、厄介なスケールをカソード
上に付着させるので、特に面倒に感しられる。
カソードスペースでのpHの増加は、アノードで形成さ
れたプロトンのカソードへの輸送が妨害または完全に抑
制されるならば、例えば隔膜またはイオン交換膜を用い
るならば、特別な程度に生ずる。
れたプロトンのカソードへの輸送が妨害または完全に抑
制されるならば、例えば隔膜またはイオン交換膜を用い
るならば、特別な程度に生ずる。
「導電性塩」として用いられるがプロトンを利用可能に
もする硫酸の存在下でのチオフェンの合或は低温におい
てのみ有用な結果を生ずる(シンセティック メタノレ
ス(Synthetic Me仁als)6 69(1
983)参照〕、フジメチルスルフェート中硫酸から成
る前記電解質はアルコキシチオフェンの場合にエーテル
開裂およびアルキル化架橋を生ずるので、ポリアルコキ
シチオフェンの製造に不適切である。
もする硫酸の存在下でのチオフェンの合或は低温におい
てのみ有用な結果を生ずる(シンセティック メタノレ
ス(Synthetic Me仁als)6 69(1
983)参照〕、フジメチルスルフェート中硫酸から成
る前記電解質はアルコキシチオフェンの場合にエーテル
開裂およびアルキル化架橋を生ずるので、ポリアルコキ
シチオフェンの製造に不適切である。
pKa値−1,75〜5を有するブレンステッド酸の添
加は多←の場合に満足な解決法である。この陰イオンは
導電性ポリマーの性質に適当な効果を及ホス〔シェイ
ボ1マー サ 、水土−ヱ土ニー孟上、 (J Pa
l mer Set Pol Ph s Ed 、)
22巻、33(1984)参照〕、ブレンステッド酸の
陰イオンが導電性塩の陰イオンと同じでないならば、両
方の陰イオンタイプの同時導入によってドープトポリア
ルコキシチオフェンの重要な性質が制御不能に変化する
危険性がある。
加は多←の場合に満足な解決法である。この陰イオンは
導電性ポリマーの性質に適当な効果を及ホス〔シェイ
ボ1マー サ 、水土−ヱ土ニー孟上、 (J Pa
l mer Set Pol Ph s Ed 、)
22巻、33(1984)参照〕、ブレンステッド酸の
陰イオンが導電性塩の陰イオンと同じでないならば、両
方の陰イオンタイプの同時導入によってドープトポリア
ルコキシチオフェンの重要な性質が制御不能に変化する
危険性がある。
従って、本発明の目的は工業的製造に適し、カソードプ
ロセスに必要なプロトンが使用導電性塩から入手可能で
あるがドープトポリマー中の必要な対イオンも使用導電
性塩から発生し、その結果ポリマーの性質がプロトンソ
ースに実質的に依存しない、導電性ポリアルコキシチオ
フェンの電気化学的製造方法を開発することである。
ロセスに必要なプロトンが使用導電性塩から入手可能で
あるがドープトポリマー中の必要な対イオンも使用導電
性塩から発生し、その結果ポリマーの性質がプロトンソ
ースに実質的に依存しない、導電性ポリアルコキシチオ
フェンの電気化学的製造方法を開発することである。
必要な導電性塩と電解質溶媒とに加えるカルボン酸がカ
ソードにおける水素の遊離に付加的に必要なプロトンを
入手可能にし、使用カルボン酸の陰イオンが生成ポリマ
ーに意外にも導入されないかまたは有意でない量でのみ
導入されるのにすぎないので、ポリマーの性質に不利な
影響が与えられないことが判明した。
ソードにおける水素の遊離に付加的に必要なプロトンを
入手可能にし、使用カルボン酸の陰イオンが生成ポリマ
ーに意外にも導入されないかまたは有意でない量でのみ
導入されるのにすぎないので、ポリマーの性質に不利な
影響が与えられないことが判明した。
本発明はドープト形(酸化形)の導電性ポリアルコキシ
チオフェンの製造方法において、式(1) 〔式中、 R’は直鎖または分枝鎖C1−C5・アルコキシ基、ま
たは−G(C1bC1hO)llCHs (n ”
1〜4 )であり、 R1は水素原子、CI〜C1□アルキル基、Cl−C5
゜アルコキシ基または一〇(CHxCHiO)、C11
3(n = 1〜4)である;または R1とRオが共にラジカル−〇(CIり、0−または−
0(CHg)JHt−(m −1”12)を形成する〕
で表される化合物、または 式(■): 〔式中、ラジカルR3、R4、RSまたはR6の少なく
とも1つは直鎖または分枝tIct−c3゜アルコキシ
基または一〇(CHzCHtO) −CHg (n =
1〜4 )であり、ラジカルR3、R4、Ir&また
はRhの残りは水素原子、Cl C+gアルキル基ま
たはCl−C1゜アルコキシ基であり、 R1はアリーレン基、ヘテロアリーレン基または式(C
H=C11)、 (P =零、1,2または3)で示
される共役系であるか、または R3、R4、R5およびRhが相互に独立的に水素原子
、Cl Ctgアルキル基またはC,−Cl。アルコ
キシ基であり、 R1が式(■〉 : (式中R1は直鎖または分枝鎖C+ Cs。アルコキ
シ基、または−〇(CHxCHiO)−C1(i (n
= 1〜4 )であり、 R◆は水素原子、c、 CI!アルキル基またはC,
−C,。
チオフェンの製造方法において、式(1) 〔式中、 R’は直鎖または分枝鎖C1−C5・アルコキシ基、ま
たは−G(C1bC1hO)llCHs (n ”
1〜4 )であり、 R1は水素原子、CI〜C1□アルキル基、Cl−C5
゜アルコキシ基または一〇(CHxCHiO)、C11
3(n = 1〜4)である;または R1とRオが共にラジカル−〇(CIり、0−または−
0(CHg)JHt−(m −1”12)を形成する〕
で表される化合物、または 式(■): 〔式中、ラジカルR3、R4、RSまたはR6の少なく
とも1つは直鎖または分枝tIct−c3゜アルコキシ
基または一〇(CHzCHtO) −CHg (n =
1〜4 )であり、ラジカルR3、R4、Ir&また
はRhの残りは水素原子、Cl C+gアルキル基ま
たはCl−C1゜アルコキシ基であり、 R1はアリーレン基、ヘテロアリーレン基または式(C
H=C11)、 (P =零、1,2または3)で示
される共役系であるか、または R3、R4、R5およびRhが相互に独立的に水素原子
、Cl Ctgアルキル基またはC,−Cl。アルコ
キシ基であり、 R1が式(■〉 : (式中R1は直鎖または分枝鎖C+ Cs。アルコキ
シ基、または−〇(CHxCHiO)−C1(i (n
= 1〜4 )であり、 R◆は水素原子、c、 CI!アルキル基またはC,
−C,。
アルコキシ基である〉
によって示されるラジカルである〕
で表される化合物を、
任意に、式(■):
〔式中、
1711とR目は相互に独立的に、水素原子、ハロゲン
原子、CI−C+xアルキル、アルコキシアルキル、ア
リールメチルまたはアリール基であるか、またはそれら
を結合する炭素原子と共に芳香環を形成する; RIOと1711は相互に独立的に、水素原子であるか
、またはR目は1711およびこれらを結合する炭素原
子と共に、R1!はR′3およびこれらを結合する炭素
原子と共にそれぞれ芳香環を形成する;Xは酸素原子、
硫黄原子、Nl+基、N−アルキル基またはN−アリー
ル基である〕 で表される1種類以上のコモノマーと共に、または 式(V): 〔式中、 11114とRI5は相互に独立的に、水素原子、ハロ
ゲン原子、CI Catアルキル基、CI C3゜
アルコキシ基またはC,−C,アジルアξ)基であり、
R1はハロゲン原子、CI Catアルキル基、CI
−C1゜アルコキシ基またはC,−C,アシルアミノ基
であり、 Xは上記で定義した意味を有する〕 で表されるコモノマーと共に、 導電性塩の存在下および付加的に、その陰イオンが導電
性塩の陰イオンとは異なる少なくとも1種類のモノマー
またはポリマーカルボン酸としてのプロトンソースの存
在下の電気分解溶媒中で電気化学的にアノード酸化する
ことから成る方法に関する。
原子、CI−C+xアルキル、アルコキシアルキル、ア
リールメチルまたはアリール基であるか、またはそれら
を結合する炭素原子と共に芳香環を形成する; RIOと1711は相互に独立的に、水素原子であるか
、またはR目は1711およびこれらを結合する炭素原
子と共に、R1!はR′3およびこれらを結合する炭素
原子と共にそれぞれ芳香環を形成する;Xは酸素原子、
硫黄原子、Nl+基、N−アルキル基またはN−アリー
ル基である〕 で表される1種類以上のコモノマーと共に、または 式(V): 〔式中、 11114とRI5は相互に独立的に、水素原子、ハロ
ゲン原子、CI Catアルキル基、CI C3゜
アルコキシ基またはC,−C,アジルアξ)基であり、
R1はハロゲン原子、CI Catアルキル基、CI
−C1゜アルコキシ基またはC,−C,アシルアミノ基
であり、 Xは上記で定義した意味を有する〕 で表されるコモノマーと共に、 導電性塩の存在下および付加的に、その陰イオンが導電
性塩の陰イオンとは異なる少なくとも1種類のモノマー
またはポリマーカルボン酸としてのプロトンソースの存
在下の電気分解溶媒中で電気化学的にアノード酸化する
ことから成る方法に関する。
本発明による方法は式(I):
で表される化合物の、電解質溶媒、導電性塩およびブレ
ンステッド酸の存在下での電気化学的重合によるドープ
ト ポリアルコキシチオフェンの有利な製造方法を開示
する。
ンステッド酸の存在下での電気化学的重合によるドープ
ト ポリアルコキシチオフェンの有利な製造方法を開示
する。
R1は直鎖または分枝鎖C,−C3゜アルコキシ基、好
ましくはCI CI!アルコキシ基であり、特にメト
キシ基または一〇(CHgCllgO) −CHl (
n ” 1〜4、好ましくは1または2)である。
ましくはCI CI!アルコキシ基であり、特にメト
キシ基または一〇(CHgCllgO) −CHl (
n ” 1〜4、好ましくは1または2)である。
R2は水素原子、C1−Cl!アルキル基、好ましくは
メチル基、CI Csaアルコキシ基、好ましくはC
I Coxアルコキシ基、特にメトキシ基、または0
(C1lxCHiO) −CHx (n = 1〜4、
好ましくは1または2)である。
メチル基、CI Csaアルコキシ基、好ましくはC
I Coxアルコキシ基、特にメトキシ基、または0
(C1lxCHiO) −CHx (n = 1〜4、
好ましくは1または2)である。
R1とR2は共に、ラジカル−〇(CHz)。C1h−
または0(CHx)−0(m = 1〜12、好ましく
は1〜4)を形成することもできる。
または0(CHx)−0(m = 1〜12、好ましく
は1〜4)を形成することもできる。
式Iの化合物の例は、
3−メトキシチオフェン
3−メトキシ−4−メチルチオフェン。
34−ジメトキシチオフェン。
3−エトキシチオフェン。
3−エトキン−4−メチルチオフェン。
3−エトキシ−4−メトキシチオフェン3−プロポキシ
−チオフェン。
−チオフェン。
3−ブトキシチオフェン。
3−ブトキシ−4−メチルチオフェン。
3−ブトキシ−4−エトキシチオフェン。
3−ペンチルオキシチオフェン。
3−へキシルオキシチオフェン。
3−へブチルオキシチオフェン。
3−オクチルチオフェン
3−ノニルオキシチオフェン。
3−デシルオキシチオフェン。
3−ウンデシルオキシチオフェン。
3−ドデシルオキシチオフェン。
3−テトラデシルオキシチオフェン。
3−ペンタデシルオキシチオフェン。
3−ヘキサデシルオキシヂオフェン5
3−オクタデシルオキシチオフェン。
3−エイコシルオキシチオフェン。
3−トコシルオキシチオフェン。
3−(2’−エチルへキシルオキシ)−チオフェン3−
(2’、 4’、 4’ −)リメチルペンチルオキ
シ〉チオフェン 3.4−ジヘキシルオキシチオフエン。
(2’、 4’、 4’ −)リメチルペンチルオキ
シ〉チオフェン 3.4−ジヘキシルオキシチオフエン。
3.4−ジオクチルオキシチオフェン。
3.4−ドデシルオキシチオフェン。
3−メトキシ−4−ペンチルオキシチオフェン3−へキ
シルオキシ−4−メトキシチオフェン。
シルオキシ−4−メトキシチオフェン。
3−ドデシルオキシ−4−メトキシチオフェン。
3−ドデシルオキシ−4−メチルチオフェン3−トコシ
ルオキシ−4−メトキシチオフェン3−エトキシ−4−
ベンチルオキシチオフェン3−エトキシ−4−ヘキシル
オキシチオフェン。
ルオキシ−4−メトキシチオフェン3−エトキシ−4−
ベンチルオキシチオフェン3−エトキシ−4−ヘキシル
オキシチオフェン。
3−ブトキシ−4−ドデシルオキシチオフェン。
3−(2’−エチルへキシルオキシ)−4−メトキシチ
オフェン 3−(メトキシエトキシ)チオフェン。
オフェン 3−(メトキシエトキシ)チオフェン。
3−(メトキシエトキシ)−4−メチルチオフェン。
3−(メトキシエトキシエトキシ)チオフェン。
3−(メトキシエトキシエトキシ)−4−メチルチオフ
ェン。
ェン。
3−エチル−4−メトキシチオフェン。
3−ブチル−4−メトキシチオフェン。
3−ドデシル−4−メトキシチオフェン。
3−エトキシ−4−エチルチオフェン。
3−ブトキシ−4−エチルチオフェン。
3.4− (エチレン−1,2−ジオキシ)チオフェン
。
。
3.4− (プロプ−3−イレン−1−オキシ)チオフ
ェン。
ェン。
である0式(1)の化合物の混合物も使用可能である。
本発明の方法は式(■):
で表される化合物の電解質溶媒、導電性塩およびカルボ
ン酸の存在下での電気化学的重合によるドープト ポリ
アルコキシチオフェンの有利な製造法を述べる。
ン酸の存在下での電気化学的重合によるドープト ポリ
アルコキシチオフェンの有利な製造法を述べる。
ラジカルlp、 R4、RsおよびR”中の少なくとも
1つは直鎖または分枝鎖C+−Ci。アルコキシ基、好
ましくはCr Cryアルコキシ基、特にメトキシ基
、または−〇(CHxCHxO)−CHs (n =
1〜4、好ましくは1または2)である。
1つは直鎖または分枝鎖C+−Ci。アルコキシ基、好
ましくはCr Cryアルコキシ基、特にメトキシ基
、または−〇(CHxCHxO)−CHs (n =
1〜4、好ましくは1または2)である。
他のラジカルR3、R4、RSおよびRSは水素原子、
Cr−C+*アルキル基、特にメチル基またはCr
Cs。
Cr−C+*アルキル基、特にメチル基またはCr
Cs。
アルコキシ基、好ましくはCr C+□アルコキシ基
であることが好ましい。
であることが好ましい。
R′はアリーレン基、好ましくはフェニレン、ヘテロア
リーレン基、好ましくはチェニレン、フラニレン、ピロ
リレンまたは式(CH=cn)t (pは零。
リーレン基、好ましくはチェニレン、フラニレン、ピロ
リレンまたは式(CH=cn)t (pは零。
1.2または3.好ましくは零またはlである)である
。
。
R3、R4、戸およびRhは相互に独立的に、水素原子
、C,−C,、アルキル基、好ましくはメチル基、また
はCr Cs。アルコキシ基、好ましくはCI C
11アルコキシ基、特にメトキシ基でもありうる、この
場合には、Reは式(III) :で表されるラジカ
ルである。
、C,−C,、アルキル基、好ましくはメチル基、また
はCr Cs。アルコキシ基、好ましくはCI C
11アルコキシ基、特にメトキシ基でもありうる、この
場合には、Reは式(III) :で表されるラジカ
ルである。
R1は直鎖または分枝鎖Ct Cs。アルコキシ基、
特にCr C目アルコキシ基、特にメトキシ基または
一〇(CIhCHxO)、1CHs (n = 1〜4
、好ましくは1または2)である。
特にCr C目アルコキシ基、特にメトキシ基または
一〇(CIhCHxO)、1CHs (n = 1〜4
、好ましくは1または2)である。
Reは水素原子、C11etアルキル基、特にメチル基
、またはCr−Os。アルコキシ基、好ましくはC1〜
cogアルコキシ基、特にメトキシ基である。
、またはCr−Os。アルコキシ基、好ましくはC1〜
cogアルコキシ基、特にメトキシ基である。
式(II)の化合物の例は、
3.3′−ジメトキシ−2,25−ビチオフェン。
3.4′−ジメトキシ−2,2′−ビチオフェン。
4.4′−ジメトキシ−2,2′−ビチオフェン。
3.3′−ジエチルオキシ−2,2′−ビチオフェン。
4.4′−ジドデシルオキシ−2,2′−ビチオフェン
。
。
3−ドデシルオキシ−41−メトキシ−2,2′−ビチ
オフェン。
オフェン。
3.3′−ジメトキシ−4,4′−ジメチル−2,2′
−ビチオフェン。
−ビチオフェン。
4.4′−ジメトキシ−3,3′−ジメチル−2,2′
−ビチオフェン。
−ビチオフェン。
3′−メトキシ−2,2’ : 5’、 2”−ターチ
ェニル。
ェニル。
3.4′−ジメトキシ−2,2’ : 5’、 2’−
ターチェニル。
ターチェニル。
3′−メトキシ−4′−メチル−2,2’ : 5’、
2’−ターチェニル。
2’−ターチェニル。
4.4′−ジメトキシ−2,2’ : 5’、 2’−
ターチェニル。
ターチェニル。
3、r−ジメトキシ−2,2’ : 5’、 2“−タ
ーチェニルである6式(n)の化合物の混合物または式
(II)の化合物と式(1)の化合物との混合物も用い
ることができる。
ーチェニルである6式(n)の化合物の混合物または式
(II)の化合物と式(1)の化合物との混合物も用い
ることができる。
式(りまたは式(n)の化合物の割合は電解質の全モノ
マー含量に基づいて一般に60〜100モル%、好まし
くは90−100モル%、特に95〜100モル%であ
る。
マー含量に基づいて一般に60〜100モル%、好まし
くは90−100モル%、特に95〜100モル%であ
る。
式(1)および式(II)の化合物に対する適当なコモ
ノマーは式(IV)および(V)の化合物であることが
好ましい。
ノマーは式(IV)および(V)の化合物であることが
好ましい。
式(TV)において、
11+1とR1ff1は、相互に独立的に、水素原子、
ハロゲン原子、CI C+zアルキル基、好ましくは
C1C4アルキル基、アルコキシアルキル基、好ましく
はアルコキシメチル、アリールメチル基、好ましくはベ
ンジルまたはチエニルメチル、了り−ル基、好ましくは
フェニルまたはチエニルであるか、またはそれらを結合
する炭素原子と共に芳香環、好ましくはベンゼン、チオ
フェンまたはビロール環を形成する。
ハロゲン原子、CI C+zアルキル基、好ましくは
C1C4アルキル基、アルコキシアルキル基、好ましく
はアルコキシメチル、アリールメチル基、好ましくはベ
ンジルまたはチエニルメチル、了り−ル基、好ましくは
フェニルまたはチエニルであるか、またはそれらを結合
する炭素原子と共に芳香環、好ましくはベンゼン、チオ
フェンまたはビロール環を形成する。
R′″とill″は、相互に独立的に、水素原子である
かまたはそれぞれR11またはR1!と共にそれらを結
合する炭素原子によって芳香環、好ましくはベンゼン、
チオフェンまたはビロール環を形成する。
かまたはそれぞれR11またはR1!と共にそれらを結
合する炭素原子によって芳香環、好ましくはベンゼン、
チオフェンまたはビロール環を形成する。
Xは酸素原子、硫黄原子、NH基、N−アルキル基、好
ましく N−(c、−c、)アルキルまたはN−アリー
ル基、好ましくはN−フェニルである。
ましく N−(c、−c、)アルキルまたはN−アリー
ル基、好ましくはN−フェニルである。
ビロール 3−クロロピロール、3−メチルピロール、
3.4−ジメチルビロール5 N−メチルピロール、チ
ェノ(3,2−b )ピロール、カルバゾールチオフェ
ン 3−メチルチオフェン 3−オクチルチオフェン
34−ジメチルチオフェン 3,4−ジエチルチオフェ
ン、3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン、3−
(メトキシエトキシエトキシメチル)チオフェン、チェ
ノ(2,3−b 〕チオフェン、ジチェノ(3,2−b
; 2’、 3’ −d )チオフェン ジベンゾチ
オフェンおよびイソチオナフタレンが適している。これ
らのコモノマーの割合は一般に電解質の全七ツマー含量
に基づいて0〜40モル%、好ましくは10モル%未満
である。
3.4−ジメチルビロール5 N−メチルピロール、チ
ェノ(3,2−b )ピロール、カルバゾールチオフェ
ン 3−メチルチオフェン 3−オクチルチオフェン
34−ジメチルチオフェン 3,4−ジエチルチオフェ
ン、3−(メトキシエトキシメチル)チオフェン、3−
(メトキシエトキシエトキシメチル)チオフェン、チェ
ノ(2,3−b 〕チオフェン、ジチェノ(3,2−b
; 2’、 3’ −d )チオフェン ジベンゾチ
オフェンおよびイソチオナフタレンが適している。これ
らのコモノマーの割合は一般に電解質の全七ツマー含量
に基づいて0〜40モル%、好ましくは10モル%未満
である。
さらに、ポリアルコキシチオフェンの末端基を改質する
ために、式(■): を有する化合物を式(+)または(■)の化合物に加え
ることができる。
ために、式(■): を有する化合物を式(+)または(■)の化合物に加え
ることができる。
1714とRI5は、相互に独立的に、水素原子、ハロ
ゲン原子、好ましくは塩素または臭素、C1−C4!ア
ルキル基、好ましくはCI C4アルキル基、CC3
゜アルコキシ基、好ましくはCI C+zアルコキシ
基またはC,−C,アジルアミノ基、好ましくはアセチ
ルアミノ基である。
ゲン原子、好ましくは塩素または臭素、C1−C4!ア
ルキル基、好ましくはCI C4アルキル基、CC3
゜アルコキシ基、好ましくはCI C+zアルコキシ
基またはC,−C,アジルアミノ基、好ましくはアセチ
ルアミノ基である。
1716はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素、
CI Csoアルコキシ基、好ましくはCI C+
zアルコキシ基、またはC1〜C4アシルアミノ基、好
ましくはアセチルアミノ基である。
CI Csoアルコキシ基、好ましくはCI C+
zアルコキシ基、またはC1〜C4アシルアミノ基、好
ましくはアセチルアミノ基である。
Xは上記の意味を有する。
式(■)の化合物の例は、
2−ブロモチオフェン、2−クロロチオフェン2−メチ
ルチオフェン、2−ドデシルチオフェン2−メトキシチ
オフェン、2−ヘキシルオキシチオフェン、2−ドデシ
ルオキシチオフェン12アセチルアミノチオフエン、2
−ブロモ−3−メトキシチオフェン、2−ブロモー4−
メトキシチオフェン 2−クロロ−3−メチルチオフェ
ン2.3−ジメチルチオフェン。
ルチオフェン、2−ドデシルチオフェン2−メトキシチ
オフェン、2−ヘキシルオキシチオフェン、2−ドデシ
ルオキシチオフェン12アセチルアミノチオフエン、2
−ブロモ−3−メトキシチオフェン、2−ブロモー4−
メトキシチオフェン 2−クロロ−3−メチルチオフェ
ン2.3−ジメチルチオフェン。
24−ジメチルチオフェン。
2.3−ジメトキシチオフェン
24−ジメトキシチオフェン
3−メトキシ−2−メチルチオフェン23−へキシルオ
キシ−2−メチルチオフェン2−メトキシ−3−メチル
チオフェン。
キシ−2−メチルチオフェン2−メトキシ−3−メチル
チオフェン。
4−メトキシ−2−メチルチオフェン。
2−アセチルアミノ−3−メトキシチオフェン。
2−アセチルアミノ−4−メトキシチオフェン2.3.
4− トリメチルチオフェン。
4− トリメチルチオフェン。
34−ジメチル−2−メトキシチオフェン。
2.4−ジメチル−3−メトキシチオフェン。
3.4−ジメチル−2−ドデシルオキシチオフェン34
−ジメトキシ−2−メチルチオフェン。
−ジメトキシ−2−メチルチオフェン。
2.3.4−トリメトキシチオフェン。
2−ブロモピロール。
2−クロロピロール。
2−クロロ−3−メチルビロール。
2−ブロモ−3,4−ジメチルピロール。
2−メチルフラン。
2−メトキシフラン。
2・3.4− トリメチルフランである0位置2での置
換のために、式(TV)の化合物は連鎖停止作用を有す
る。これらの割合は一般に電解質の全モノマー含量に基
づいて0〜40モル%、好ましくは10モル%未満であ
る0式(IV)と(V)の上記コモノマーは混合物とし
て用いられる。
換のために、式(TV)の化合物は連鎖停止作用を有す
る。これらの割合は一般に電解質の全モノマー含量に基
づいて0〜40モル%、好ましくは10モル%未満であ
る0式(IV)と(V)の上記コモノマーは混合物とし
て用いられる。
式(1)、(■〉、(IV)および(Vlの化合物の製
造は先行技術から公知である。モノマー濃度は電解質溶
媒1dm’につきモノマー0.01〜5モル、好ましく
はO,OS〜1モルである。
造は先行技術から公知である。モノマー濃度は電解質溶
媒1dm’につきモノマー0.01〜5モル、好ましく
はO,OS〜1モルである。
モノマーまたはモノマー混合物の電気化学的重合は標準
電解質/溶媒系の1つで実施される。この系は電気化学
的重合の条件下で安定でなければならず、モノマーと導
電性塩とに対して充分な溶解度を有さなければならない
0例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル、プロピレン
、カーボネート、ニトロメタンおよび二酸化硫黄のよう
な双極性非プロトン性溶媒および、任意に例えばジメチ
ルホルムアミド、N−メチルピロリジノン、ジメチルス
ルホキシド、塩化メチレンおよびテトラヒドロフランの
ような、電気化学的重合条件下で安定である他の溶媒と
の前記溶媒の混合物も用いられる。
電解質/溶媒系の1つで実施される。この系は電気化学
的重合の条件下で安定でなければならず、モノマーと導
電性塩とに対して充分な溶解度を有さなければならない
0例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル、プロピレン
、カーボネート、ニトロメタンおよび二酸化硫黄のよう
な双極性非プロトン性溶媒および、任意に例えばジメチ
ルホルムアミド、N−メチルピロリジノン、ジメチルス
ルホキシド、塩化メチレンおよびテトラヒドロフランの
ような、電気化学的重合条件下で安定である他の溶媒と
の前記溶媒の混合物も用いられる。
電気化学的重合中に電荷を移動させ、その陰イオンをポ
リマーに導入して、ポリマーの例えば熱安定性、溶解度
および電気伝導度(conductivity)のよう
な性質に影響を与える導電性塩としては、それ自体標準
的である化合物が用いられる。ここでは例えばテトラフ
ルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフル
オロヒ酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサク
ロロアンチモン酸塩、ペルフルオロアルキルスルホン酸
塩、p−トルエンスルホン酸塩および過塩素酸塩が挙げ
られる。これに関連して、テトラフルオロホウ酸塩、ヘ
キサフルオロリン酸塩およびトリフルオロメタンスルホ
ン酸塩が好ましい、これらの導電性塩の混合物も用いら
れる。
リマーに導入して、ポリマーの例えば熱安定性、溶解度
および電気伝導度(conductivity)のよう
な性質に影響を与える導電性塩としては、それ自体標準
的である化合物が用いられる。ここでは例えばテトラフ
ルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフル
オロヒ酸塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、ヘキサク
ロロアンチモン酸塩、ペルフルオロアルキルスルホン酸
塩、p−トルエンスルホン酸塩および過塩素酸塩が挙げ
られる。これに関連して、テトラフルオロホウ酸塩、ヘ
キサフルオロリン酸塩およびトリフルオロメタンスルホ
ン酸塩が好ましい、これらの導電性塩の混合物も用いら
れる。
導電性塩の適当な陽イオンは、アルカリ土類金属陽イオ
ンの他に、アルカリ金属陽イオン、特にLi・とNa・
が好ましい、ラジカルRがそれぞれ相互に独立的に、水
素、cIc+!アルキルラジカル、脂環式または芳香族
ラジカルであるR4N+またはRAP”タイプの陽イオ
ンが適切であると実証されている。
ンの他に、アルカリ金属陽イオン、特にLi・とNa・
が好ましい、ラジカルRがそれぞれ相互に独立的に、水
素、cIc+!アルキルラジカル、脂環式または芳香族
ラジカルであるR4N+またはRAP”タイプの陽イオ
ンが適切であると実証されている。
特に好ましい導電性塩はテトラフルオロホウ酸リチウム
とテトラフルオロホウ酸ナトリウムである。導電性塩の
量は溶媒1 da’につき0.01〜1モル、好ましく
は0.05〜0.5モルであり、最大濃度としては飽和
濃度に等しい。
とテトラフルオロホウ酸ナトリウムである。導電性塩の
量は溶媒1 da’につき0.01〜1モル、好ましく
は0.05〜0.5モルであり、最大濃度としては飽和
濃度に等しい。
ポリアルコキシチオフェンを電気化学的製造するための
本発明の方法にとって重要であるのは、電解質溶媒中の
導電性塩の他に、導電性塩の陰イオンとは異なる陰イオ
ンを有し、0〜2、特に0〜lのpKaを有するのが好
ましい、少なくとも1種類のモノマーまたはポリマーカ
ルボン酸としてのプロトンソースの存在である。
本発明の方法にとって重要であるのは、電解質溶媒中の
導電性塩の他に、導電性塩の陰イオンとは異なる陰イオ
ンを有し、0〜2、特に0〜lのpKaを有するのが好
ましい、少なくとも1種類のモノマーまたはポリマーカ
ルボン酸としてのプロトンソースの存在である。
カルボン酸は不飽和または飽和直鎖、分枝鎖脂肪族、脂
環式、不飽和、芳香族またはアリール脂肪族カルボン酸
であることが好ましく、例えばC1−Cl!好ましくは
Cl Caアルキルカルボン酸、C1−C+*−α−
ハロアルキルカルボン酸、好ましくはCr−Ca−α−
クロロアルキルカルボン酸、Cl−ctz−α−ジハロ
アルキルカルボン酸、好ましくはC1−Ca−α−ジク
ロロアルキルカルボン酸、’C1−C+iペルハロアル
キルカルボン酸、好ましくはC,−C。
環式、不飽和、芳香族またはアリール脂肪族カルボン酸
であることが好ましく、例えばC1−Cl!好ましくは
Cl Caアルキルカルボン酸、C1−C+*−α−
ハロアルキルカルボン酸、好ましくはCr−Ca−α−
クロロアルキルカルボン酸、Cl−ctz−α−ジハロ
アルキルカルボン酸、好ましくはC1−Ca−α−ジク
ロロアルキルカルボン酸、’C1−C+iペルハロアル
キルカルボン酸、好ましくはC,−C。
ベルクロロアルキルカルボン酸またはCI C4ペル
フルオロアルキルカルボン酸、CHsO(CHgCHt
O)qcH*GOON (式中q−0〜4)タイプのエ
ーテルカルボン酸、CFsCh(CFzOCF(CFs
)x)−Cool (式中r−1〜4)タイプのペルフ
ルオロアルキルエーテルカルボン酸、Cよ−C11アル
キルカルボン酸(alkynec−arboxylic
acid)、不飽和または飽和アリールカルボン酸また
はへテロアリールカルボン酸、好ましくはモノクロロー
、ジクロロ−1もしくはトリクロロ安息香酸、またはモ
ノフルオロ−、ジフルオロ−もしくはトリフルオロ安息
香酸、不飽和または飽和CI C4アリールアルキル
カルボンfllマf、−はC,−C4ヘテロアルキルカ
ルボン酸である。カルボン酸はまた、不飽和または飽和
脂肪族、脂環式、不飽和または芳香族ジカルボン酸、例
えばCz C+zアルキルジカルボン酸、C4C+z
アルケンカルボン酸、C4C12アルキンジカルボン酸
、アリールジカルボン酸またはへテロアリールジカルボ
ン酸、好ましくはベンゼンジカルボン酸でありうる。カ
ルボン酸はまた脂肪族、脂環式または芳香族トリ、テト
ラ−、ペンタ−1およびヘキサ−カルボン酸でもありう
る。カルボン酸はまた不飽和または飽和ポマー脂肪族、
脂環式、不飽和、芳香族またはアリール脂肪族カルボン
酸でもありうる。
フルオロアルキルカルボン酸、CHsO(CHgCHt
O)qcH*GOON (式中q−0〜4)タイプのエ
ーテルカルボン酸、CFsCh(CFzOCF(CFs
)x)−Cool (式中r−1〜4)タイプのペルフ
ルオロアルキルエーテルカルボン酸、Cよ−C11アル
キルカルボン酸(alkynec−arboxylic
acid)、不飽和または飽和アリールカルボン酸また
はへテロアリールカルボン酸、好ましくはモノクロロー
、ジクロロ−1もしくはトリクロロ安息香酸、またはモ
ノフルオロ−、ジフルオロ−もしくはトリフルオロ安息
香酸、不飽和または飽和CI C4アリールアルキル
カルボンfllマf、−はC,−C4ヘテロアルキルカ
ルボン酸である。カルボン酸はまた、不飽和または飽和
脂肪族、脂環式、不飽和または芳香族ジカルボン酸、例
えばCz C+zアルキルジカルボン酸、C4C+z
アルケンカルボン酸、C4C12アルキンジカルボン酸
、アリールジカルボン酸またはへテロアリールジカルボ
ン酸、好ましくはベンゼンジカルボン酸でありうる。カ
ルボン酸はまた脂肪族、脂環式または芳香族トリ、テト
ラ−、ペンタ−1およびヘキサ−カルボン酸でもありう
る。カルボン酸はまた不飽和または飽和ポマー脂肪族、
脂環式、不飽和、芳香族またはアリール脂肪族カルボン
酸でもありうる。
カルボン酸の例として、下記の酸が挙げられる;ギ酸2
酢酸、プロピオン酸、酪酸1イソ酪酸、ペンタン酸、ヘ
キサン酸、オクタン酸、デカン酸。
酢酸、プロピオン酸、酪酸1イソ酪酸、ペンタン酸、ヘ
キサン酸、オクタン酸、デカン酸。
ドデカン酸、シアノ酢酸1 クロロ酢酸、2−クロロ酪
酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
、ペルフルオロオクタン酸、メトキシ酢酸、(メトキシ
エトキシ)酢酸、2−ペルフルオロプロポキシベルフル
オロプロピオン酸、2(2′−ベルフルオロプロボキシ
ペルフルオロブロポキシ)ペルフルオロプロピオン酸、
シクロプロパンカルボン酸、シクロベンクンカルボン酸
、シクロヘキサンカルボン酸、アクリル酸、メタクリル
酸、プロピオン酸安息香酸、チオフェンカルボン酸、ピ
リジンカルボン酸、4−クロロ安息香酸。
酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
、ペルフルオロオクタン酸、メトキシ酢酸、(メトキシ
エトキシ)酢酸、2−ペルフルオロプロポキシベルフル
オロプロピオン酸、2(2′−ベルフルオロプロボキシ
ペルフルオロブロポキシ)ペルフルオロプロピオン酸、
シクロプロパンカルボン酸、シクロベンクンカルボン酸
、シクロヘキサンカルボン酸、アクリル酸、メタクリル
酸、プロピオン酸安息香酸、チオフェンカルボン酸、ピ
リジンカルボン酸、4−クロロ安息香酸。
3−クロロ安息香酸、2.4−ジクロロ安息香酸、2゜
4.6−ドリクロロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸。
4.6−ドリクロロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸。
3−フルオロ安息香酸、5−クロロチオフェン−2−カ
ルボン酸、4−シアノ安息香酸、3−シアノ安息香酸、
フェニル酢酸、修酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸
、アジピン酸、ピメリン酸。
ルボン酸、4−シアノ安息香酸、3−シアノ安息香酸、
フェニル酢酸、修酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸
、アジピン酸、ピメリン酸。
ドデカンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸。
アセチレンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、トリメリット酸、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸。
レフタル酸、トリメリット酸、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸。
カルボンflI量は電解質溶媒1dm3につき0.00
2〜5モル、好ましくは0.01〜1モルであり、少な
くとも使用モノマー量の20eq%である。
2〜5モル、好ましくは0.01〜1モルであり、少な
くとも使用モノマー量の20eq%である。
カルボン酸の他に、水も電解質に、電解質溶媒1 dm
3につき5モルまで、好ましくは1モルまで、特に0.
2モルまでの量で加えることができる。
3につき5モルまで、好ましくは1モルまで、特に0.
2モルまでの量で加えることができる。
アノードはアノード重合の条件下で安定な標準材料の1
種類、好ましくは貴金属、特に白金および金、または炭
素、特にガラス譬炭素(熱分解炭素)から構成される。
種類、好ましくは貴金属、特に白金および金、または炭
素、特にガラス譬炭素(熱分解炭素)から構成される。
これはプレート、シートまたはシリンダー形状で用いら
れ、一般にカソードに平行して配置される。2個のカソ
ードを用いる場合には、アノードの前と後に同し距離を
おいて配置される。変更態様は多くの空隙を含み大きな
比表面積を提供する電極構造、例えば貴金属または炭素
繊維製のネット型、布帛(fabric)型およびフェ
ルト型構造を選択することである。適当なアノードは例
えば硬質および軟質フェルト、および炭素繊維製の単層
および多層状布帛である。
れ、一般にカソードに平行して配置される。2個のカソ
ードを用いる場合には、アノードの前と後に同し距離を
おいて配置される。変更態様は多くの空隙を含み大きな
比表面積を提供する電極構造、例えば貴金属または炭素
繊維製のネット型、布帛(fabric)型およびフェ
ルト型構造を選択することである。適当なアノードは例
えば硬質および軟質フェルト、および炭素繊維製の単層
および多層状布帛である。
短絡を阻止するために、例えば不活性プラスチックガー
ゼ(plastic gauze)から構成されるスペ
ーサーによって、カソードをアノードから分離すること
ができる。
ゼ(plastic gauze)から構成されるスペ
ーサーによって、カソードをアノードから分離すること
ができる。
電気化学的重合を電解質/溶媒系の凝固点と沸点との間
の温度、通常−60°C〜80°C1好ましくは30℃
〜50°Cの温度において実施する。−20℃〜40℃
の温度において最高収量が得られる。
の温度、通常−60°C〜80°C1好ましくは30℃
〜50°Cの温度において実施する。−20℃〜40℃
の温度において最高収量が得られる。
電解時間は使用電解質系、特定の電解条件および特に、
−使用モノマー量に依存する1通常、電解時間は1〜1
2時間、好ましくは2〜8時間であるや電気化学的重合
は標準セルまたは電解装置において実施される0例えば
非分割セル、2個以上の電極、外部ii流流電電圧供給
源から戒る簡単な電解装置が充分に適している。しかし
、隔膜またはイオン交換膜を含む分割セル(divid
ed cell)または電位の正確な測定のための基準
電極を含むセルを用いることもできる。電流消費量の測
定は、すでに使用されたモノマー量の算出を可能にする
ので、好ましい、カソードが底部において層状構造であ
り、アノードが電解質を通って定常に進行するストリッ
プ形状で移動する電解装置は、プロセスの連続的実施を
可能にする。
−使用モノマー量に依存する1通常、電解時間は1〜1
2時間、好ましくは2〜8時間であるや電気化学的重合
は標準セルまたは電解装置において実施される0例えば
非分割セル、2個以上の電極、外部ii流流電電圧供給
源から戒る簡単な電解装置が充分に適している。しかし
、隔膜またはイオン交換膜を含む分割セル(divid
ed cell)または電位の正確な測定のための基準
電極を含むセルを用いることもできる。電流消費量の測
定は、すでに使用されたモノマー量の算出を可能にする
ので、好ましい、カソードが底部において層状構造であ
り、アノードが電解質を通って定常に進行するストリッ
プ形状で移動する電解装置は、プロセスの連続的実施を
可能にする。
本発明によるプロセスを実施する電解セルを操作するた
めの電流/電圧供給源としては、充分に高い電圧を供給
する直流電圧源が適している0通常、電気化学的重合は
0.1−100Vの電圧によって好ましくは1.5〜3
0Vの範囲内の電圧によって操作される。特定のアノー
ド面積に対して、0.0002〜50mA/cd(7)
範囲内、好ましく l;lO,001〜1011A/C
−の範囲内の値が電流密度として有益かつ有利であると
実証されている。
めの電流/電圧供給源としては、充分に高い電圧を供給
する直流電圧源が適している0通常、電気化学的重合は
0.1−100Vの電圧によって好ましくは1.5〜3
0Vの範囲内の電圧によって操作される。特定のアノー
ド面積に対して、0.0002〜50mA/cd(7)
範囲内、好ましく l;lO,001〜1011A/C
−の範囲内の値が電流密度として有益かつ有利であると
実証されている。
酸を加えない電解(比較例)とは対照的に、カソードス
ケールの形成は本発明によるカルボン酸の添加によって
阻止または少なくとも減少され、好ましいテトラフルオ
ロホウ酸アルカリを導電性塩として用いる場合にも定常
電流での電解中の端子電圧は著しく低下する。
ケールの形成は本発明によるカルボン酸の添加によって
阻止または少なくとも減少され、好ましいテトラフルオ
ロホウ酸アルカリを導電性塩として用いる場合にも定常
電流での電解中の端子電圧は著しく低下する。
単離と精製のために、ポリアルコキシチオフェンをアノ
ードから機械的にまたは電解質の濾過によって分離する
。可溶性ポリアルコキシチオフェンは適当な溶媒によっ
てもアノードからストリップされ、溶媒を蒸発した後に
回収される。粗生成物の精製と、導電性塩、モノマーお
よびその他の付着不純物の除去とは例えば水、メタノー
ル、エタノール、石油エーテル、ペンタン、シクロヘキ
サンおよび任意にアセトニトリルまたはジクロロメタン
のような、ポリマーが不溶である溶媒によって実施する
。
ードから機械的にまたは電解質の濾過によって分離する
。可溶性ポリアルコキシチオフェンは適当な溶媒によっ
てもアノードからストリップされ、溶媒を蒸発した後に
回収される。粗生成物の精製と、導電性塩、モノマーお
よびその他の付着不純物の除去とは例えば水、メタノー
ル、エタノール、石油エーテル、ペンタン、シクロヘキ
サンおよび任意にアセトニトリルまたはジクロロメタン
のような、ポリマーが不溶である溶媒によって実施する
。
本発明の方法では約50〜80%収率が可能である。
得られるドープトポリアルコキシチオフェンに混入され
る陰イオンの99モル%より多く、好ましくは95モル
%より多く、特に99モル%より多くが導電性塩に由来
し、10モル%未満、好ましくは5モル%未満、特に1
モル%未満がカルボン酸に由来する。
る陰イオンの99モル%より多く、好ましくは95モル
%より多く、特に99モル%より多くが導電性塩に由来
し、10モル%未満、好ましくは5モル%未満、特に1
モル%未満がカルボン酸に由来する。
本発明による方法によって得られる、特にρにaO−1
を有するカルボン酸の添加によって得られるドープトポ
リマーの導電率(electrical condu−
ctivity)は、酸を添加せずに匹敵する条件下で
得たポリマーよりも高い。
を有するカルボン酸の添加によって得られるドープトポ
リマーの導電率(electrical condu−
ctivity)は、酸を添加せずに匹敵する条件下で
得たポリマーよりも高い。
高い転換率(convers 1on)においてもカル
ボン酸を加えることによって好ましいカソード反応とし
て水素の遊離が保証されるので、導電性塩および溶媒の
検知されうるカソード分解は生じない、従って、電解質
溶媒、過剰なカルボン酸、および導電性ポリマーに導入
されない過剰な導電性塩は電解質から回収され、再使用
可能である。
ボン酸を加えることによって好ましいカソード反応とし
て水素の遊離が保証されるので、導電性塩および溶媒の
検知されうるカソード分解は生じない、従って、電解質
溶媒、過剰なカルボン酸、および導電性ポリマーに導入
されない過剰な導電性塩は電解質から回収され、再使用
可能である。
本発明を次の実施例によってさらに説明する。
例中に記載する%は、他に述べないかぎり、重量に基づ
くものである。比導電率は底形体上の四点法によって測
定した。溶解性ポリマーの分子量分布は、例えは水性k
g/AgC1基準電極に関する−0.3Vにおける白金
電極での電気化学的還元によって得られた中性(非ドー
プト)形に対してゲル透過クロマトグラフィー(GPC
)を用いて測定した。
くものである。比導電率は底形体上の四点法によって測
定した。溶解性ポリマーの分子量分布は、例えは水性k
g/AgC1基準電極に関する−0.3Vにおける白金
電極での電気化学的還元によって得られた中性(非ドー
プト)形に対してゲル透過クロマトグラフィー(GPC
)を用いて測定した。
比較例A
テトラフルオロホウ酸ナトリウム11.Og、 3−メ
トキシチオフェンおよびアセトニトリル1200 gを
トラフ型非分解電解セルへ加えた。長さ170mm、幅
170−の水冷式ステンレス鉱中空カソードをセルの中
央に配置した。各場合に、片側にカソードと平行して2
C1間隔をおいて、長さ170mm、幅170国及び厚
さ4閣のカーボンフェルトアノード(単位面積重量0.
4kg/ポ、比表面積(BET)約1.5rrf/g)
を配置した。各場合に、ポリプロピレンガーゼをカソー
ドとアノード間のスペーサーとして配置した。電解温度
20℃およびアノード電流2Aの時に、カソードスケー
ル形成の結果として、電気分解中セル電圧が迅速に6.
2ボルトから30ボルト以上に上昇した。その結果、電
気分解を3回中断し、カソードを洗浄しなければならな
かった。
トキシチオフェンおよびアセトニトリル1200 gを
トラフ型非分解電解セルへ加えた。長さ170mm、幅
170−の水冷式ステンレス鉱中空カソードをセルの中
央に配置した。各場合に、片側にカソードと平行して2
C1間隔をおいて、長さ170mm、幅170国及び厚
さ4閣のカーボンフェルトアノード(単位面積重量0.
4kg/ポ、比表面積(BET)約1.5rrf/g)
を配置した。各場合に、ポリプロピレンガーゼをカソー
ドとアノード間のスペーサーとして配置した。電解温度
20℃およびアノード電流2Aの時に、カソードスケー
ル形成の結果として、電気分解中セル電圧が迅速に6.
2ボルトから30ボルト以上に上昇した。その結果、電
気分解を3回中断し、カソードを洗浄しなければならな
かった。
理論量の電流を消費した後に、電気分解を停止した。乾
燥後、粗生成物が負荷したアノードをアセトニトリルを
含む水浴に入れ、ポリマーが実際に完全に溶解するまで
その中に数回温浸した。溶液を孔度G3のガラスフィル
ターるつぼで濾過し、濾液を回転蒸発器で蒸発乾固した
。粗生1ft、物を機械的に粉砕し、水で洗浄し、乾燥
し、ジクロロメタンで温浸し、次に濾別し、乾燥した。
燥後、粗生成物が負荷したアノードをアセトニトリルを
含む水浴に入れ、ポリマーが実際に完全に溶解するまで
その中に数回温浸した。溶液を孔度G3のガラスフィル
ターるつぼで濾過し、濾液を回転蒸発器で蒸発乾固した
。粗生1ft、物を機械的に粉砕し、水で洗浄し、乾燥
し、ジクロロメタンで温浸し、次に濾別し、乾燥した。
ブロンズ金属光沢を有する固体6.8gを得た。粉砕生
成物の粉末成形は比導電率4.4X10−”S/C+s
f有した。
成物の粉末成形は比導電率4.4X10−”S/C+s
f有した。
非ドープト形(undoped form)のcpcは
、生成物の90%以上がペンタマーとヘキサマーからな
ることを示した。
、生成物の90%以上がペンタマーとヘキサマーからな
ることを示した。
例 l
テトラフルオロホウ酸ナトリウム11.0 g 、
トリフルオロ酸M5.7g、3−メトキシチオフェン2
2.8gおよびアセトニトリル1200 gを比較例A
による電解セル中で電解した。電解温度20°Cおよび
アノード電流2Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に
6,2ボルトであり、電解の終了近くには8.0ボルト
であり、カソードを洗浄する必要はなかった。
トリフルオロ酸M5.7g、3−メトキシチオフェン2
2.8gおよびアセトニトリル1200 gを比較例A
による電解セル中で電解した。電解温度20°Cおよび
アノード電流2Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に
6,2ボルトであり、電解の終了近くには8.0ボルト
であり、カソードを洗浄する必要はなかった。
理論量の電流を消費した後に、電解を停止した。
比較例Aに従って処理を実施した。ブロンズ金属光沢を
有する固体11.9 gを得た。粉砕生成物の粉末成形
は、比導電率1.4 X 10−” S / ellを
有した。
有する固体11.9 gを得た。粉砕生成物の粉末成形
は、比導電率1.4 X 10−” S / ellを
有した。
非ドープト形のGPCは生成物の90%以上がペンタマ
ーおよびヘキサマーからなることを示した。
ーおよびヘキサマーからなることを示した。
比較例B
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、60%濃
度へキサフルオロリン酸水溶液48.6g、3−メトキ
シチオフェン45.6 gおよびアセトニトリル250
0 gをトラフ型非分解電解セルへ加えた。セルの中央
には、ポリエチレンの仕切りが存在した。
度へキサフルオロリン酸水溶液48.6g、3−メトキ
シチオフェン45.6 gおよびアセトニトリル250
0 gをトラフ型非分解電解セルへ加えた。セルの中央
には、ポリエチレンの仕切りが存在した。
セルの画部分には、長さ170m、幅170+wのステ
ンレス鋼カソードを中央に配置した。各場合に、片側に
カソードと平行して2cm間隔をおいて、長さ170m
m、幅170mmおよび厚さ4Mのカーボンフェルトア
ノード(単位面積重It 0.4kg#、比表面積(B
ET)約1.5ボ/g)を配置した。各場合に、カソー
ドとアノード間のスペーサーとしてポリプロピレンガー
ゼを配置した。電解温度20’Cおよびアノード電流4
Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に3.0ボルトで
あり、電解の終了近くには10.5ボルトであった。理
論量の電流を消費した後に、電解を停止した。比較例A
に従って、処理を実施した。ブロンズ金属光沢を有する
固体10.6 gを得た。粉砕生成物の粉末成形体は比
導電率1.4XIO−3S/ctを有した。ドープトポ
リマーの”F NMRスペクトルにおける対イオンとし
てテトラフルオロホウ酸塩とへキサフルオロリン酸塩を
検出することが可能であった。
ンレス鋼カソードを中央に配置した。各場合に、片側に
カソードと平行して2cm間隔をおいて、長さ170m
m、幅170mmおよび厚さ4Mのカーボンフェルトア
ノード(単位面積重It 0.4kg#、比表面積(B
ET)約1.5ボ/g)を配置した。各場合に、カソー
ドとアノード間のスペーサーとしてポリプロピレンガー
ゼを配置した。電解温度20’Cおよびアノード電流4
Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に3.0ボルトで
あり、電解の終了近くには10.5ボルトであった。理
論量の電流を消費した後に、電解を停止した。比較例A
に従って、処理を実施した。ブロンズ金属光沢を有する
固体10.6 gを得た。粉砕生成物の粉末成形体は比
導電率1.4XIO−3S/ctを有した。ドープトポ
リマーの”F NMRスペクトルにおける対イオンとし
てテトラフルオロホウ酸塩とへキサフルオロリン酸塩を
検出することが可能であった。
9F−NMR(94,2MIIz、 DMSO) :δ
=−147.7(s)、 (BF4−);72.0(d
、71811z) (PFa−)例 2 テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、 )リ
フルオロ酢酸22.8g、3−メトキシチオフェン45
.6g及びアセトニトリル2500 gを比較例Bによ
る電解セル中で電解した。電解温度20°Cおよびアノ
ード電i4Aの時に、セル電圧は、電解の開始特に5ボ
ルトであり、電解の終了近くには9ボルトであり、カソ
ードを洗浄する必要はなかった。
=−147.7(s)、 (BF4−);72.0(d
、71811z) (PFa−)例 2 テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、 )リ
フルオロ酢酸22.8g、3−メトキシチオフェン45
.6g及びアセトニトリル2500 gを比較例Bによ
る電解セル中で電解した。電解温度20°Cおよびアノ
ード電i4Aの時に、セル電圧は、電解の開始特に5ボ
ルトであり、電解の終了近くには9ボルトであり、カソ
ードを洗浄する必要はなかった。
理論量の電流を消費した後に、電解を停止した。
比較例Aに従って、処理を実施した。ブロンズ金属光沢
を有する固体20.0gを得た。粉砕生成物の粉末成形
体は比導電率8.4 X 10− ” S / c+a
を有した。
を有する固体20.0gを得た。粉砕生成物の粉末成形
体は比導電率8.4 X 10− ” S / c+a
を有した。
ドープトポリマーの”F NMRスペクトルにおいて対
イオンとしてテトラフルオロホウ酸塩は検出できたが、
トリフルオロ酢酸塩は検出できなかった。
イオンとしてテトラフルオロホウ酸塩は検出できたが、
トリフルオロ酢酸塩は検出できなかった。
9F−NMR(94,2MIIZ、DMSO);δ=−
147.7(s)、 (BF−)。
147.7(s)、 (BF−)。
例 3
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0 g 、
Lリクロロ酢酸32.7g、3−メトキシチオフェン4
5.6gおよびアセトニトリル2500 gを比較例B
による電解セル中で電解した。電解温度20’Cおよび
アノード電流4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に3
、■ボルトであり、電解の終了近くには12ポルトであ
り、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電流
を消費した後に、電解を停止した。比較例Aに従って処
理を実施した。ブロンズ金属光沢を有する固体12.7
gを得た。粉砕生成物の粉末成形体は比導電率?、5X
10−3S 7cmを有した。
Lリクロロ酢酸32.7g、3−メトキシチオフェン4
5.6gおよびアセトニトリル2500 gを比較例B
による電解セル中で電解した。電解温度20’Cおよび
アノード電流4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に3
、■ボルトであり、電解の終了近くには12ポルトであ
り、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電流
を消費した後に、電解を停止した。比較例Aに従って処
理を実施した。ブロンズ金属光沢を有する固体12.7
gを得た。粉砕生成物の粉末成形体は比導電率?、5X
10−3S 7cmを有した。
例 4
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0 g 、ジク
ロロ酢酸25.8g、3−メトキシチオフェン45.6
g及びアセトニトリル2500 gを比較例Bによる
電解セル中で電解した。電解温度20″Cアノード電流
4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に5ボルトであり
、電解の終了近くには、17ボルトであり、カソードを
洗浄する必要はなかった。理論量のiit流を消費した
後、電解を停止した。比較例Aに従って、処理を実施し
た。ブロンズ金属光沢を有する固体14.9gを得た。
ロロ酢酸25.8g、3−メトキシチオフェン45.6
g及びアセトニトリル2500 gを比較例Bによる
電解セル中で電解した。電解温度20″Cアノード電流
4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に5ボルトであり
、電解の終了近くには、17ボルトであり、カソードを
洗浄する必要はなかった。理論量のiit流を消費した
後、電解を停止した。比較例Aに従って、処理を実施し
た。ブロンズ金属光沢を有する固体14.9gを得た。
粉砕生成物の粉末成形体は比導電率5.0X10−”3
7cmを有した。
7cmを有した。
例 5
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0 g、クロロ
酢酸18.9g、3−メトキシチオフェン45.6 g
およびアセトニトリル2500 gを比較例Bによる電
解セル中電解した。電解温度20℃およびアノード電流
4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に17ボルトであ
り、電解の終了近くには17ポルトであり、カソードを
洗浄する必要はなかった。比較例Aに従って、処理を実
施した。ブロンズ金属光沢を有する固体14.8gを得
た。粉砕生成物の粉末成形体は比導電率4.0X10−
’S 7cmを有した。
酢酸18.9g、3−メトキシチオフェン45.6 g
およびアセトニトリル2500 gを比較例Bによる電
解セル中電解した。電解温度20℃およびアノード電流
4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に17ボルトであ
り、電解の終了近くには17ポルトであり、カソードを
洗浄する必要はなかった。比較例Aに従って、処理を実
施した。ブロンズ金属光沢を有する固体14.8gを得
た。粉砕生成物の粉末成形体は比導電率4.0X10−
’S 7cmを有した。
例 6
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0 g 、ギ酸
9.2g、 3−メトキシチオフェン45.6 gおよ
びアセトニトリル2500 gを比較例Bによる電解セ
ル中で電解した。電解温度20℃およびアノード電流4
Aの時、セル電圧は、電解の開始時に7ボルトであり、
電解の終了近くには16ボルトであり、カソードを洗浄
する必要はなかった。理論量の電流を消費した後に、電
解を停止した。比較例Aに従って、処理を実施した。ブ
ロンズ金属光沢を有する固体15.5 gを得た。粉砕
生成物の粉末成形体は比導電率4.lX10−”37c
mを有した。
9.2g、 3−メトキシチオフェン45.6 gおよ
びアセトニトリル2500 gを比較例Bによる電解セ
ル中で電解した。電解温度20℃およびアノード電流4
Aの時、セル電圧は、電解の開始時に7ボルトであり、
電解の終了近くには16ボルトであり、カソードを洗浄
する必要はなかった。理論量の電流を消費した後に、電
解を停止した。比較例Aに従って、処理を実施した。ブ
ロンズ金属光沢を有する固体15.5 gを得た。粉砕
生成物の粉末成形体は比導電率4.lX10−”37c
mを有した。
例 7
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、4−クロ
ロ安息香酸31.3 g、3−メトキシチオフェン45
.6 gおよびアセトニトリル2500 gを比較例B
による電解セル中電解した。′を層温度20°Cおよび
アノード電流4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に2
2.5ボルトであり、電解の終了近くには15ボルトで
あり、カソードを洗浄する必要はなかった。
ロ安息香酸31.3 g、3−メトキシチオフェン45
.6 gおよびアセトニトリル2500 gを比較例B
による電解セル中電解した。′を層温度20°Cおよび
アノード電流4Aの時、セル電圧は、電解の開始時に2
2.5ボルトであり、電解の終了近くには15ボルトで
あり、カソードを洗浄する必要はなかった。
理論量の電流を消費した後に、電解を終了した。
比較例Aに従って、処理を実施した。ブロンズ金属光沢
を有する固体6.6gを得た。粉砕生成物の粉末成形体
は比導電率7.4X10−”S /cyaを有した。
を有する固体6.6gを得た。粉砕生成物の粉末成形体
は比導電率7.4X10−”S /cyaを有した。
例 8
テトラフルオロホウ酸ナトリウム11.0 g 、
)リフルオロ酢#11.4g、3−エトキシチオフェン
25.6gおよびアセトニトリル1200 gを比較例
Aによる電解セル中で電解した。1を層温度20”Cお
よびアノード電流2Aの時、セル電圧は、電解の開始時
に5.3ボルトであり、電解の終了近くには6.2ボル
トであり、カソードを洗浄する必要はなかった。
)リフルオロ酢#11.4g、3−エトキシチオフェン
25.6gおよびアセトニトリル1200 gを比較例
Aによる電解セル中で電解した。1を層温度20”Cお
よびアノード電流2Aの時、セル電圧は、電解の開始時
に5.3ボルトであり、電解の終了近くには6.2ボル
トであり、カソードを洗浄する必要はなかった。
理論量の電流を消費した後に、電解を停止した。
比較例Aに従って、処理を実施した。ブロンズ金属光沢
を有する固体4.5gを得た。ワ)砕生成物の粉末成形
体は比導電率2.3XIO−”37cmを有した。
を有する固体4.5gを得た。ワ)砕生成物の粉末成形
体は比導電率2.3XIO−”37cmを有した。
比較例C
テトラフルオロホウ酸ナトリウム11.0g、3−ドデ
シルオキシチオフェン26.8 gおよびアセトニトリ
ル1200gをトラフ型非分解電解セルに加えた。
シルオキシチオフェン26.8 gおよびアセトニトリ
ル1200gをトラフ型非分解電解セルに加えた。
長さ170■、幅17G鴎の水冷式ステンレス鋼中空カ
ソードをセルの中央に配置した。各場合に、片側にカソ
ードと平行して20間隔をおいて、直径0.07閣の白
金/ロジウム(95:5)”ツイヤ−製ノ8層ガーゼ製
アノード(長さ170−1幅170am)を配置した。
ソードをセルの中央に配置した。各場合に、片側にカソ
ードと平行して20間隔をおいて、直径0.07閣の白
金/ロジウム(95:5)”ツイヤ−製ノ8層ガーゼ製
アノード(長さ170−1幅170am)を配置した。
各場合に、カソードとアノード間にスペーサーとしてポ
リプロピレンガーゼを配置した。
リプロピレンガーゼを配置した。
電解温度20’Cおよびアノード電流IAの時に、セル
電圧は、電解中カソードスケール形成の結果として13
ボルトからToボルト以上へ上昇し、その結果、電解を
中断しカソードを洗浄しなければならなかった。理論量
の電流を消費した後に、電解を停止した。乾燥後に、粗
生成物が負荷したアノードをジクロロメタンを含む水浴
水に入れ、ポリマーが実際に完全に溶解するまでそれを
数回温浸した。溶液を孔度G3のガラスフィルターるつ
ぼで濾過し、濾液を回転蒸発器で蒸発乾固した。粗生成
物を機械的に粉砕し、アセトニトリルおよびヘキサンで
温浸し、次に濾別し、オイルポンプ真空で100℃にお
いて乾燥した。ブロンズ金属光沢を有する固体6.6g
を得た。粉砕生成物の粉末成形体は、比導電率?、4X
IO−’S/cmを有した。非ドープト形のGPCは、
平均モル質置駒5400を示した。
電圧は、電解中カソードスケール形成の結果として13
ボルトからToボルト以上へ上昇し、その結果、電解を
中断しカソードを洗浄しなければならなかった。理論量
の電流を消費した後に、電解を停止した。乾燥後に、粗
生成物が負荷したアノードをジクロロメタンを含む水浴
水に入れ、ポリマーが実際に完全に溶解するまでそれを
数回温浸した。溶液を孔度G3のガラスフィルターるつ
ぼで濾過し、濾液を回転蒸発器で蒸発乾固した。粗生成
物を機械的に粉砕し、アセトニトリルおよびヘキサンで
温浸し、次に濾別し、オイルポンプ真空で100℃にお
いて乾燥した。ブロンズ金属光沢を有する固体6.6g
を得た。粉砕生成物の粉末成形体は、比導電率?、4X
IO−’S/cmを有した。非ドープト形のGPCは、
平均モル質置駒5400を示した。
例 9
テトラフルオロホウ酸ナトリウム11.0g、トリフル
オロ酢酸11.4g、3−ドデシルオキシチオフエン2
6.8gおよびアセトニトリル1200 gを比較例C
による電解セル中で電解した。電解温度20’Cおよび
アノード電mlAの特、セル電圧は、電解の開始時に4
.8ボルトであり、電解の終了近くには7.0ボルトで
あり、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電
流を消費した後に、電解を停止した。比較例Cに従って
、処理を実施した。青みを帯びた黒色光沢を有する固体
10.5 gを得た。
オロ酢酸11.4g、3−ドデシルオキシチオフエン2
6.8gおよびアセトニトリル1200 gを比較例C
による電解セル中で電解した。電解温度20’Cおよび
アノード電mlAの特、セル電圧は、電解の開始時に4
.8ボルトであり、電解の終了近くには7.0ボルトで
あり、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電
流を消費した後に、電解を停止した。比較例Cに従って
、処理を実施した。青みを帯びた黒色光沢を有する固体
10.5 gを得た。
$5)砕生成物の粉末成形体は、比導電率1.7X10
””S/c+sを有した。非ドープト形のGPCは、平
均モル質星約5400を示した。ドープトポリマー〇″
’F NMRにおける対イオンとしてテトラフルオロホ
ウ酸塩は検出できたが、トリフルオロ酢酸塩は検出でき
なかった。
””S/c+sを有した。非ドープト形のGPCは、平
均モル質星約5400を示した。ドープトポリマー〇″
’F NMRにおける対イオンとしてテトラフルオロホ
ウ酸塩は検出できたが、トリフルオロ酢酸塩は検出でき
なかった。
比較例D
テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0 g 、
)リフルオロメタンスルホン酸12.0 g又は水1.
44g、3−メトキシチオフェン45.6 gおよびア
セトニトリル2500 gを比較例Aによる電解セル中
で電解した。電解温度20°Cおよびアノード電流4A
の時、セル電圧は、電解の開始時に5.0ボルトであり
、電解の終了近くには21.5ボルトであり、カソード
を洗浄する必要はなかった。理論量の電流が消費した後
に、電解を停止した。比較例Aに従って処理を実施した
。ブロンズ金属光沢を有する固体18.3 gを得た。
)リフルオロメタンスルホン酸12.0 g又は水1.
44g、3−メトキシチオフェン45.6 gおよびア
セトニトリル2500 gを比較例Aによる電解セル中
で電解した。電解温度20°Cおよびアノード電流4A
の時、セル電圧は、電解の開始時に5.0ボルトであり
、電解の終了近くには21.5ボルトであり、カソード
を洗浄する必要はなかった。理論量の電流が消費した後
に、電解を停止した。比較例Aに従って処理を実施した
。ブロンズ金属光沢を有する固体18.3 gを得た。
粉砕生成物の粉末成形は、比導電率3.9xlO−’S
/craを有した。ドープトポリマーの”F N?I
[lスペクトルにおける対イオンとしてテトラフルオロ
ホウ酸塩およびトリフルオロメタンスルホン酸塩を検出
することが可能であった。
/craを有した。ドープトポリマーの”F N?I
[lスペクトルにおける対イオンとしてテトラフルオロ
ホウ酸塩およびトリフルオロメタンスルホン酸塩を検出
することが可能であった。
”F NMR(94,2MHz、DMSO):δ=−1
47.7(sL (BF、−)77.2(s)、(CF
、5O3−) 例 IO テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、 トリ
フルオロ酢酸22.8g、3−メトキシチオフェン45
.6gおよびアセトニトリル2500 gを比較例Bに
よる電解セル中で電解した。電解温度10°Cおよびア
ノード電流4Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に5
ボルトであり、電解の終了近くには6.6ボルトであり
、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電流を
消費した後に、電解を停止した。比較例へに従って処理
を実施した。ブロンズ金属光沢を有する固体1.9.9
gを有した。粉砕生成物のむ)末成形体、比導電率1.
1X10−”S 7cmを有した。
47.7(sL (BF、−)77.2(s)、(CF
、5O3−) 例 IO テトラフルオロホウ酸ナトリウム22.0g、 トリ
フルオロ酢酸22.8g、3−メトキシチオフェン45
.6gおよびアセトニトリル2500 gを比較例Bに
よる電解セル中で電解した。電解温度10°Cおよびア
ノード電流4Aの時に、セル電圧は、電解の開始時に5
ボルトであり、電解の終了近くには6.6ボルトであり
、カソードを洗浄する必要はなかった。理論量の電流を
消費した後に、電解を停止した。比較例へに従って処理
を実施した。ブロンズ金属光沢を有する固体1.9.9
gを有した。粉砕生成物のむ)末成形体、比導電率1.
1X10−”S 7cmを有した。
(外4るJ
1、事件の表示
平成2年特許願第238845号
2゜
発明の名称
導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法3゜
補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所
名 称 (909)ヘキスト・アクチェンゲゼルシャ
フト4゜
フト4゜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 〔式中、 R^1は直鎖または分枝鎖C_1−C_3_0アルコキ
シ基、または−O(CH_2CH_2O)_nCH_3
(n=1〜4)であり、 R^2は水素原子、C_1〜C_1_2アルキル基、C
_1−C_3_0−アルコキシ基または−O(CH_2
CH_2O)_nCH_3(n=1〜4)である;また
は R^1とR^2が共にラジカル−O(CH_2)_mO
−または−O(CH_2)_mCH_2−(m=1〜1
2)を形成する〕によって表される化合物( I )、ま
たは式(II):▲数式、化学式、表等があります▼(I
I) 〔式中、ラジカルR^3、R^4、R^5またはR^6
の少なくとも1つは直鎖または分枝鎖C_1−C_3_
0アルコキシ基または−O(CH_2CH_2O)_n
CH_3(n=1〜4)であり、ラジカルR^3、R^
4、R^5またはR^6の残りは水素原子、C_1−C
_1_2アルキル基またはC_1−C_3_0アルコキ
シ基を表し、 R^7はアリーレン基、ヘテロアリーレン基または式(
CH=CH)_p(p=0、1、2または3)の共役系
である:または R^3、R^4、R^5のおよびR^6は相互に独立的
に、水素原子、C_1−C_1_2アルキル基またはC
_1−C_3_0アルコキシ基であり、または R^7は式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^mは、直鎖または分枝鎖C_1−C_3_0
アルコキ基、または−O(CH_2CH_2O)_nC
H_3(n=1〜4)であり、 R^9は水素原子、C_1−C_1_2をアルキル基ま
たはC_1−C_3_0アルコキシ基である) で表されるラジカルである〕 で表される化合物(II)を、 任意に式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、 R^1^1とR^1^2は相互に独立的に、水素原子、
ハロゲン原子、C_1−C_1_2アルキル、アルコキ
シアルキル、アリールメチルまたはアリール基であるか
、またはR^1^1とR^1^2を結合する炭素原子と
共に芳香環を形成する、 R^1^0とR^1^3は相互に独立的に、水素原子で
あるか、またはR^1^0はR^1^1と共にそれらを
結合する炭素原子によって、R^1^3はR^1^2と
共にそれらを結合する炭素原子によってそれぞれ芳香環
を形成する、 Xは酸素原子、硫黄原子、NH基、N−アルキル基また
はN−アリール基である〕 で表される1種類以上のコモノマーと共に、または式(
V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、 R^1^4とR^1^5は相互に独立的に、水素原子、
ハロゲン原子、C_1−C_1_2アルキル基、C_1
−C_3_0アルコキシ基またはC_1−C_4アシル
アミノ基であり、R^1^6はハロゲン原子、C_1−
C_1_2アルキル基、C_1−C_3_0アルコキシ
基またはC_1−C_4アシルアミノ基であり、 Xは上記で定義した意味を有する〕 で表されるコモノマーと共に、 導電性塩の存在下および付加的に、前記導電性塩の陰イ
オンとは異なる陰イオンを有する少なくとも1種類のモ
ノマーまたはポリマーカルボン酸としてのプロトンソー
スの存在下の電解質溶媒中で電気化学的にアノード重合
することを含むドープト(酸化)形の導電性ポリアルコ
キシチオフェンの製造方法。 2、上記で定義した式(1)の化合物を電解質溶媒1d
m^3につき0.01〜5モルの量でモノマーとして用
い、アセトニトリルを電解質溶媒として用い、アルカリ
金属、アルカリ土類金属またはテトラアルキルアンモニ
ウムのテトラフルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸
塩またはトリフルオロメタンスルホン酸塩を導電性塩と
して電解質溶媒1dm^3につき0.01〜1モルの量
で、但し最大値としては飽和濃度に等しい量で用い、 pKa0〜2を有するカルボン酸をプロトンソースとし
て電解質溶媒1dm^3につき0.002〜5モルの量
で、但し少なくとも使用モノマー量の20eq%の量で
用いる請求項1記載の方法。 3、pKa0〜1を有するモノカルボン酸をプロトンソ
ースとして用いる請求項1記載の方法。 4、電解質溶媒1dm^3につき5モルまでの量で水を
、カルボン酸に加えて用いる請求項1記載の方法。 5、上記で定義した式(1)においてR^1がC_1−
C_2_2アルコキシ基であり、R^2が水素原子であ
る請求項1記載の方法。 6、モノマーとして3−メトキシチオフェンを電解質溶
媒1dm^3につき0.05〜1モルの量で用い、電解
質溶媒としてアセトニトリルを用い、導電性塩としてテ
トラフルオロホウ酸リチウムまたはテトラフルオロホウ
酸ナトリウムを電解質溶媒1dm^3につき0.05〜
0.5モルの量で、但し最大値としては飽和濃度に等し
い量で用い、プロトンソースとして、トリフルオロ酢酸
を電解質溶媒1dm^3につき0.01〜1モルの量で
、但し少なくとも使用モノマー量の20eq%の量で用
いて、−20〜40℃の電解温度において実施する請求
項1記載の方法。 7、アノード重合およびドーピング中にポリアルコキシ
チオフェン中に導入される陰イオンの10モル%未満が
カルボン酸に由来し、90モル%より多くが導電性塩に
由来する請求項1記載の方法。 8、アノード重合およびドーピング中にポリアルコキシ
チオフェン中に導入される陰イオンの5モル%未満がカ
ルボン酸に由来し、95モル%より多くが導電性塩に由
来する請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3929690.3 | 1989-09-07 | ||
| DE3929690A DE3929690A1 (de) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | Elektrochemisches verfahren zur herstellung von elektrisch leitenden poly(alkoxythiophenen) unter zusatz von carbonsaeuren |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03179023A true JPH03179023A (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=6388796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238845A Pending JPH03179023A (ja) | 1989-09-07 | 1990-09-07 | 導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5098529A (ja) |
| EP (1) | EP0416571A3 (ja) |
| JP (1) | JPH03179023A (ja) |
| DE (1) | DE3929690A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010138222A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Kuraray Co Ltd | チオフェン骨格を有する新規重合体及びその用途 |
| WO2010110200A1 (ja) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | 三洋化成工業株式会社 | 導電性コーティング組成物及び導電性コーティング膜の製造方法 |
| US7871714B2 (en) | 2002-12-25 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Polymer, electroluminescent device, and light emitting device |
| JP2012012426A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Japan Carlit Co Ltd:The | 導電性高分子製造用酸化剤とそれを用いた固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| JP6031197B2 (ja) * | 2013-10-18 | 2016-11-24 | Dic株式会社 | 塗工液、それを用いた物品及び印刷物 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286414A (en) * | 1987-05-26 | 1994-02-15 | Hoechst Aktiengesellschaft | Electroconductive coating composition, a process for the production thereof and the use thereof |
| JPH06184740A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Hitachi Metals Ltd | 光磁気記録媒体用ターゲットおよびその製造方法 |
| US5595629A (en) * | 1995-09-22 | 1997-01-21 | Nalco Chemical Company | Papermaking process |
| US5767624A (en) * | 1996-06-26 | 1998-06-16 | International Business Machines Corporation | Light emitting device |
| EP1158588B1 (en) * | 1999-09-16 | 2008-07-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrochemical capacitor |
| DE10349029B4 (de) * | 2003-11-07 | 2006-09-28 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Verwendung von Poly(alkoxythiophen) als Funktionsschicht in elektrischen Bauelementen |
| EP1721323A1 (en) * | 2004-03-04 | 2006-11-15 | NV Bekaert SA | Metal element coated with a coating layer comprising an inherently conductive polymer |
| EP2584369A1 (en) * | 2011-10-17 | 2013-04-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetic field probe for MRI with a fluoroelastomer or a solution of a fluorine-containing compound |
| US10392529B2 (en) * | 2012-07-31 | 2019-08-27 | National University Corporation Chiba University | Film having metallic luster, article having said film formed thereon, and manufacturing method for film having metallic luster |
| FR3018817B1 (fr) * | 2014-03-19 | 2017-10-13 | Commissariat Energie Atomique | Polymere conducteur de type poly(thio- ou seleno-)phenique |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3318856A1 (de) * | 1983-05-25 | 1984-11-29 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur hersteellung von poly(heteroaromaten) und nach diesem verfahren erhaltene filmfoermige produkte |
| DE3327012A1 (de) * | 1983-07-27 | 1985-02-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur elektrochemischen polymerisation von pyrrolen, anode zur durchfuehrung dieses verfahrens sowie nach diesem verfahren erhaltene produkte |
| DE3603373A1 (de) * | 1986-02-05 | 1987-08-06 | Basf Ag | Verfahren zur elektrochemischen beschichtung von kohlenstoff-fasern |
| DE3750650D1 (de) * | 1986-08-26 | 1994-11-17 | Hoechst Ag | Lösliche, elektrisch leitende Polymere, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung. |
| JPH0625263B2 (ja) * | 1987-07-23 | 1994-04-06 | 工業技術院長 | 導電性高分子フイルムの処理方法 |
| DE3804520A1 (de) * | 1988-02-13 | 1989-08-24 | Hoechst Ag | Elektrisch leitende polymere und ihre herstellung |
| DE3804523A1 (de) * | 1988-02-13 | 1989-08-24 | Hoechst Ag | Elektrisch leitende polymere mit verbesserter loeslichkeit |
| DE3804521A1 (de) * | 1988-02-13 | 1989-08-24 | Hoechst Ag | Elektrisch leitende beschichtungsmasse, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
-
1989
- 1989-09-07 DE DE3929690A patent/DE3929690A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-09-05 EP EP19900117051 patent/EP0416571A3/de not_active Withdrawn
- 1990-09-05 US US07/577,927 patent/US5098529A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-07 JP JP2238845A patent/JPH03179023A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7871714B2 (en) | 2002-12-25 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Polymer, electroluminescent device, and light emitting device |
| JP2010138222A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Kuraray Co Ltd | チオフェン骨格を有する新規重合体及びその用途 |
| WO2010110200A1 (ja) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | 三洋化成工業株式会社 | 導電性コーティング組成物及び導電性コーティング膜の製造方法 |
| JP2010248487A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-11-04 | Sanyo Chem Ind Ltd | 導電性コーティング組成物及び導電性コーティング膜の製造方法 |
| JP2012012426A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Japan Carlit Co Ltd:The | 導電性高分子製造用酸化剤とそれを用いた固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| JP6031197B2 (ja) * | 2013-10-18 | 2016-11-24 | Dic株式会社 | 塗工液、それを用いた物品及び印刷物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0416571A3 (en) | 1991-07-31 |
| DE3929690A1 (de) | 1991-03-14 |
| US5098529A (en) | 1992-03-24 |
| EP0416571A2 (de) | 1991-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03179023A (ja) | 導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法 | |
| JP2540166B2 (ja) | 可溶性の導電性重合体、その製造方法およびその用途 | |
| JP4187656B2 (ja) | 新規な3,4−アルキレンジオキシチオフェン化合物及びそのポリマー | |
| US4487667A (en) | Polymethylene pyrroles and electrically conductive polymers thereof | |
| JPH01261470A (ja) | 導電性重合体およびその製造方法 | |
| JPS5998165A (ja) | 導電性ポリマ−組成物 | |
| US5066731A (en) | Process for modifying electroconductive polymers using ion exchange | |
| JPH0138808B2 (ja) | ||
| KR100996257B1 (ko) | 폴리(5-아미노퀴녹살린)의 제조 방법 | |
| JPWO2012173148A1 (ja) | 導電性ポリマー前駆体、導電性ポリマー、及び固体電解コンデンサ | |
| JPH03174436A (ja) | 導電性ポリアルコキシチオフェンの製造方法 | |
| JP2016041780A (ja) | チオフェン系共重合体及び該チオフェン系共重合体の合成方法 | |
| JPH02292327A (ja) | 2,5―ジチエニルピロール誘導体およびその製造方法 | |
| AU619521B2 (en) | Electrically conducting polymers with improved solubility | |
| JPH06239996A (ja) | 電導性高分子及びその製造方法 | |
| JPH0748437A (ja) | 新規導電性重合体およびその製造法 | |
| JP3163426B2 (ja) | ポリアリーレンチオエーテルの製造法 | |
| JP2003137981A (ja) | 新規導電性重合体およびその製造法 | |
| JP2003292480A (ja) | スルホン酸誘導体及び導電性高分子材料 | |
| Cecile et al. | Preparation of alternating π-conjugated copolymers involving electrochemically generated aryldizinc intermediates | |
| JPS6372726A (ja) | ポリ(2−アミノチオフエン)系導電体およびその製造法 | |
| AT398076B (de) | Verfahren zur herstellung eines intrinsisch elektrisch leitenden polymeren | |
| JPH0532414B2 (ja) | ||
| JPH0451584B2 (ja) | ||
| KR20020067659A (ko) | 벤조디옥시노피롤, 그의 제조 방법 및 용도 |