JPH0318573B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0318573B2 JPH0318573B2 JP59086099A JP8609984A JPH0318573B2 JP H0318573 B2 JPH0318573 B2 JP H0318573B2 JP 59086099 A JP59086099 A JP 59086099A JP 8609984 A JP8609984 A JP 8609984A JP H0318573 B2 JPH0318573 B2 JP H0318573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- discontinuous
- polyester
- fine particles
- height
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は被覆フイルムの製造方法に関するもの
である。 〔従来技術〕 従来、磁性物質をポリエステルフイルムの表面
に蒸着せしめた蒸着型ビデオテープが使用されて
いる。 しかし、この蒸着型ビデオテープは、磁性層の
厚さが非常に薄いため、使用するベースフイルム
の表面形態が、そのまま真空蒸着した強磁性金属
薄膜（以下、単に蒸着膜という）と同一の表面形
態となる。そのためベースフイルムの表面粗さが
粗いと蒸着ビデオテープの電磁変換特性が著しく
悪くなる。この電磁変換特性の面から考えると、
平滑な全くの鏡面からなるベースフイルムが好ま
しいが、そのようなベースフイルム上に形成され
た蒸着膜は、蒸着面がそのまま鏡面を保つので、
すべり性が非常に悪く、蒸着面に保護層を設ける
ようなことをしない限り、蒸着工程以降のテープ
化プロセスにおいて大量のすり傷が発生し、全く
実用性はなくなる。 また蒸着ビデオテープ実際使用時の重大な問題
は蒸着面の走行性である。従来の磁性体粉末を有
機バインダーに混入させてベースフイルムに塗布
してなる塗布型ビデオテープの場合には、バイン
ダー中に滑剤を入れて、磁性面の走行性を向上さ
せることができるが、蒸着ビデオテープの場合、
蒸着面の走行性は保護膜層を設けない限り一般に
不利である。保護膜層を均一に蒸着面上に設ける
ことは困難であるので、この保護膜層を設けない
蒸着テープの場合、蒸着面の走行性向上、特に実
際に使用される時の過酷な条件下、すなわち高温
高湿条件下での走行性向上が計れないなどの欠点
がある。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、平滑性、耐すり傷性、通常環
境のみならず高温高湿条件下においても走行性の
優れた蒸着膜を形成することが可能なベースフイ
ルムの製造方法を提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明は、一方向に延伸後の平滑なポリエステ
ルフイルムの少なくとも片面に、ポリスチレン、
ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリ
アクリル酸エステル、ポリエポキシ樹脂、ポリ酢
酸ビニルおよびポリ塩化ビニルからなる群から選
ばれた少なくとも１種からなる疎水性の有機化合
物粒子あるいは疎水性表面処理を施した無機化合
物粒子を含有した水溶性高分子水溶液を固形分濃
度で３〜1000mg／m2塗布し、乾燥したのち、前記
フイルムの延伸方向と直角の方向に延伸し、さら
に必要であれば再延伸を施したあとに、熱処理を
施す被覆フイルムの製造方法を特徴とするもので
ある。 この方法によつて、ポリエステルフイルムの少
なくとも片面に密着された高さ500Å以下の水溶
性高分子を主体とする不連続皮膜と、該不連続皮
膜の不連続部のフイルム面に密着された微細粒子
とからなり、該微細粒子の高さが不連続皮膜の高
さより高い被覆フイルムが製造できる。 本発明の一方向に延伸後の平滑なポリエステル
フイルムとは、周知の方法で形成したポリエステ
ルフイルム、すなわち、ポリエステルを溶融して
シートまたは円筒状に押出し、これを一方向に延
伸、（好ましくは２倍以上に延伸）して形成した
フイルムである。なお、延伸倍率の上限は、特に
限定されないが約６倍である。 また、ポリエステルフイルムの表面は平滑であ
り、具体的にはフイルム表面の粗さは、触針式表
面粗さ計のカツトオフ値0.08mmで、Ra値が0.015μ
以下、より好ましくは0.010μ〜0.002μの範囲内に
あることが望ましい。 なお、Ra値とは、触針式表面粗さ計から得ら
れる断面曲線から適当なカツトオフ値を用いて、
うねりを除いた粗さ曲線において、中心線（中心
線より上の部分と下の部分の面積が等しくなるよ
うにして求められる）からの粗さ曲線の高さ（低
さ）の絶対値の算術平均である（DIN 4768によ
る）。 上記フイルムを形成するポリエステルは、線状
ポリエステルを主体とするものであればどのよう
なものでもよい。たとえば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、
ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリン
ジカルボキシレート、ポリエチレン−ｐ−オキシ
ベンゾエートなどがその代表例である。 また上記のポリエステルは、ホモポリエステル
であつても、コポリエステルであつてもよい。コ
ポリエステルの場合、共重合する成分としては、
例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレン
グリコール、ｐ−キシリレングリコール、１，４
−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成
分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、５−
ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン
酸成分、トリメリツト酸、ピロメリツト酸などの
多官能ジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安
息香酸などが挙げられる。なお、共重合の場合、
共重合する成分は20モル％以下とする。 さらに、上記のポリエステルは、他にポリエス
テルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘
導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアル
キレングリコールなどの少なくとも一つを５重量
％を超えない程度に混合してもよい。また、その
フイルム中に延伸した際に、フイルム表面突起の
原因となる重合残査からなる内在粒子あるいは外
部から加えられた不活性粒子等が含まれていても
よく、その含有量は、それらのポリマーを二軸延
伸した場合、厚さ30μ以下で、１枚当りのヘイズ
５％以下であれば良い。 本発明の疎水性の有機化合物粒子とは、ポリス
チレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリアクリル酸エステル、ポリエポキシ樹
脂、ポリ酢酸ビニルまたはポリ塩化ビニルからな
る微細粒子である。また、疎水性表面処理を施し
た無機化合物粒子とは、シリカ、炭酸カルシウム
等の無機化合物表面にメチル基、エチル基のよう
なアルキル基等の疎水性有機基を結合させたもの
である。 本発明の粒子の径は50〜10000Å、好ましくは
100〜5000Åである。径とは本発明フイルムを電
子顕微鏡で観察することによつて求められる微細
粒子の最大長さを言う。微細粒子の形態としては
球形、楕円球形、長方体形、立方体形等である。 本発明の水溶性高分子とは、分子量が１万〜
200万、好ましくは10万〜100万のものが使用され
る。分子量が１万を下まわると、以下に述べる皮
膜が柔らかくなり、構造保持が難しくなり、耐久
性が悪くなる。分子量が200万を上まわると、皮
膜が固くなりすぎ、もろくなり、やはり耐久性が
悪くなる。かかる水溶性高分子としては、ポリビ
ニルアルコール、トラガントゴム、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース等が適用できる。 本発明では上記説明の微細粒子を主体として含
む水溶性高分子水溶液を、上記説明の一軸に延伸
されたポリエステルフイルムに、フイルムの片面
につき固形分濃度で３〜1000mg／m2塗布するが、
シリコーン、フツ素化合物のような滑剤、シラン
カツプリング剤、チタンカツプリング剤等のカツ
プリング剤を塗液に含ませても良い。 使用可能なシリコーンは、分子量が３万〜30万
のものであり、好ましくは、鎖状成分として、 ただしR1：CH3、C6H5、Ｈ R2：CH3、C6H5、Ｈまたは官能性基（例えば、
エポキシ基、アミノ基、水酸基） ｎ：100〜7000でR1、R2によつて上記分子量を
満足させる整数 を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキ
シ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基
を有する。本発明においてシリコーン化合物は必
ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマ
ーあるいは、数種のホモポリマーの混合体であつ
ても良い。 シリコーンの分子量は３万〜30万のものが好ま
しい。分子量が３万を下まわると皮膜は柔らかく
なりすぎ、また、構造が変化しやすくなる。一
方、30万を超えると逆に皮膜がもろくなる。 使用可能なフツ素系化合物としては、フツ素系
界面活性剤、フツ素含有炭化水素化合物等が挙げ
られるが、原子数割合で10〜60％、好ましくは20
〜50％の含有フツ素分率のものが望ましい。フツ
素含有率が高いと、すべり性の効果が向上する。 また、塗液構成分の乾燥後の結合性を強めるた
めに、溶液にシランカツプリング剤を加えること
が望ましい。 シランカツプリング剤としては、その分子中に
２個以上の異なつた反応基をもつ有機けい素単量
体であり、反応基の一つはメトキシ基、エトキシ
基、シラノール基などであり、もう一つの反応基
は、ビニル基、エポキシ基、メタアクリル基、ア
ミノ基、メルカプト基などである。反応基は水溶
性高分子側鎖、末端基およびポリエステルと結合
するものを選ぶが、シランカツプリング剤として
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン等が適用できる。 塗液成分としての水溶性高分子〔Ａ〕、シリコ
ーンあるいはフツ素系化合物あるいはその混合体
〔Ｂ〕、シランカツプリング剤〔Ｃ〕、および疎水
性の有機化合物粒子、あるいは疎水性表面処理を
施した無機化合物粒子〔Ｄ〕の使用割合（重量
比）は〔Ａ〕：〔Ｂ〕：〔Ｃ〕：〔Ｄ〕＝20：０〜20：
０〜20：１〜10、好ましくは〔Ａ〕：〔Ｂ〕：
〔Ｃ〕：〔Ｄ〕＝20：０〜20：１〜10：１〜８であ
る。〔Ｂ〕、〔Ｃ〕はすべり性、耐すり傷性向上、
および成分間の結合力向上のために使用が好まし
いが必須成分ではない。〔Ｂ〕が上限を超えると
この被覆フイルム被覆面上に形成される蒸着膜の
付着強度が不良となる。〔Ｃ〕が上限を超えると
不連続皮膜構造が固くなりすぎ、皮膜がもろくな
り好ましくない。 〔Ｃ〕を使用すると〔Ｄ〕がフイルム面に強固
に結びつけられる。微細粒子は、主として不連続
皮膜の不連続部のフイルム面に密着しているが、
〔Ｄ〕が上記下限を下まわると密着数が少なくな
り、この不連続皮膜上に形成する蒸着膜面の走行
性向上に寄与しなくなる。上限を超えると微細粒
子のフイルム表面からの脱落が激しくなる。また
電磁変換特性も悪化し、好ましくない。 この塗液を片面につき固形分濃度で３〜1000
mg／m2塗布するが、塗布量が下限をきると、不連
続皮膜が形成されなくなる。また上限を超える
と、不連続皮膜の高さが500Åを超えてしまう。
本発明の不連続皮膜とは、形状が網状および／ま
たは点在したものであり、第１図の符号２で示し
たもので、その高さは500Å以下、フイルム面上
に占める割合は10〜90％となる。 塗液塗布の一軸延伸フイルムを、一軸と直角方
向に延伸するが、延伸前に皮膜を完全に形成する
ため、熱風等で100〜150℃に加熱し、フイルム表
面塗布液中の水分を完全に蒸発乾固（好ましくは
水分率を皮膜形成成分の１％以下とする）にせし
め、そのあと90〜120℃の延伸温度で2.5〜4.5倍
に延伸する。 さらに、この延伸フイルムを180〜220℃で熱処
理、あるいは1.1〜1.8倍に、再延伸後に180〜220
℃で熱処理すると、平滑なポリエステルフイルム
の表面に、微細粒子が不連続部に存在する、高さ
500Å以下の不連続皮膜が形成された面を少なく
とも片面にもつ二軸延伸ポリエステルフイルムが
得られる。 なお、粒子は、表面が疎水性のため親水性高分
子からなる不連続皮膜の外の不連続部に密着され
る。 以下、図面に基づいて本発明の製造法により作
られる被覆フイルムを説明する。 第１図はポリエステルフイルムの表面を部分的
に覆つた不連続皮膜と、その皮膜の不連続部のフ
イルム面に密着された微細粒子を示す平面図であ
る。拡大倍率１万倍以上で電子顕微鏡観察をする
ことにより、その様子がわかる。 第２図は不連続皮膜および微細粒子が密着され
た第１図のフイルムの概略の断面図である。微細
粒子の高さが不連続皮膜の高さより高い状態を示
す。なお第１図および第２図において、１はポリ
エステルフイルム、２は不連続皮膜、３は微細粒
子である。 本発明の製造法により作られる不連続皮膜の高
さ（厚さ）は、第３図のｈで示されるもので、そ
のｈ、すなわち高さの測定は、触針式表面粗さ計
により、カツトオフ値0.08mmを用い、縦倍率50万
倍の条件で、表面皮膜形成面を測定した時の表面
粗さ曲線において、微細粒子によるピーク部分を
除いた、山と谷との平均的な高さ間隔を測定した
値である。微細粒子の高さは、第３図のhP1，
hP2，hP3で示されるもので、ｈよりも大きく高さ
方向にはずれた山と谷部分の差を測定した値であ
る。なお、第３図は実際に測定した曲線を模式的
に示したものである。 本発明の製造法により形成される不連続皮膜の
高さは500Å以下、好ましくは50〜300Åである。
高さが500Åをこえるとこの表面に蒸着膜を形成
させたビデオテープの電磁変換特性、特にＳ／Ｎ
比が悪化する。 テープ特性は一般市販のVHS方式のVTRを用
い、録画、再生を繰り返して評価した。 テープ走行性の評価は常温常湿、高温高湿の２
条件下での再生を行ない、テープ走行のみだれに
よる画面のゆらぎを観察することにより行つた。
評価基準は次の通りである。 〇：走行順調で再生画面のゆらぎが全くなし。 ×：ところどころで走行が遅くなり、再生画面の
ゆらぎが生ずる。 また耐すり傷性の評価は、やはり常温常湿およ
び高温高湿条件下で100回繰り返し走行させたあ
とのテープ薄膜上のすり傷観察により行なつた。
評価基準は次の通り。 ◎：テープ薄膜面上にほとんど全くすり傷の発生
がみられない。 〇：テープ薄膜面上にきわめて弱いすり傷の発生
が少し見られる。 ×：テープ薄膜面上に、きついすり傷が発生す
る。 なお、常温常湿とは25℃、60％RHであり、高
温高湿とは40℃、80％RH条件である。 Ｓ／Ｎ比は50％白レベル信号を各テープの最適
記録電流で記録し、再生時のビデオ復調信号に含
まれる信号と雑音の比をビデオノイズメーターを
用い、市販のVHS標準テープを0dBとして比較
測定した。 ドロツプアウトは、磁気記録テープに３段階段
波信号を最適記録電流で記録し、再生時のビデオ
ヘツドアンプ出力の減衰量が18dB、継続時間
20μsec以上のドロツプアウトを10分間ドロツプア
ウトカウンターで測定し、１分間あたりの平均を
とつた。Ｓ／Ｎ比、ドロツプアウト測定は常温常
湿条件で行なつた。 〔発明の効果〕 本発明の製造法により得られたポリエステルフ
イルムの表面に水溶性高分子を主体とする不連続
皮膜を密着させ、かつ微細粒子をその不連続部に
密着せしめた被覆フイルムは、易滑性と平面性が
優れているだけでなく、被覆フイルムの不連続皮
膜と、微細粒子の密着された面側に蒸着膜を設け
た場合、磁気ヘツド・ガイド等は、その蒸着膜表
面との接触面積が極めて小さくなるにもかかわら
ず、強磁性体薄膜面と磁気ヘツドとの間隔は非常
に狭く保たれるので、この蒸着膜表面の走行性は
極めて良好であり、しかも電磁変換特性は優れて
いる。 なお、この不連続皮膜は高さが500Å以下であ
るので、蒸着テープの電磁変換特性を損うことは
ない。また形成微細粒子の高さは不連続皮膜の高
さより500Å以下の高さとなり、ドロツプアウト
が増加するということはない。 本発明により得られる被覆フイルムは、各種の
用途に適用できるが好ましくは、磁気記録媒体用
のベースフイルム、より好ましくは強磁性金属薄
膜形成用のベースフイルムとするのが望ましい。 〔実施例〕 次に、本発明の被覆フイルム製造法およびその
フイルムを磁気テープに適用した例を実施例に基
づいて説明する。 実施例 １ 重合触媒残査等にもとづく内部粒子をできる限
り含まない実質的に無配向、非結晶のポリエチレ
ンテレフタレート原料を約20℃に維持された回転
ドラム上に溶融押出しし、つぎに3.4倍の機械方
向への延伸を施し、その後メタリングバーコータ
ーを用いて下記水溶液エマルジヨンを固形分濃度
で20mg／m2両面塗布した。 水溶液エマルジヨンとしてはメチルセルロース
0.20wt％、ポリアクリル酸エステルエマルジヨン
（固形分濃度40％）0.10wt％の割合のものを調合
した。乾燥、予熱、延伸温度は115℃で水分乾燥
速度は15％／秒とした。 横延伸倍率3.4倍、熱処理温度200℃で、両面に
高さ260Åの不連続皮膜が形成され、不連続皮膜
の高さより50Å高い微細粒子が該不連続皮膜不連
続部に４×106ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μ
のポリエチレンテレフタレートフイルムを得た。 このポリエステルフイルム表面に真空蒸着によ
りコバルト−ニツケル合金薄膜を1500Åの膜厚で
形成した。続いて所定幅にフイルムの機械方向に
切断し、磁気テープとした。この特性を表１に示
す。 実施例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、使用
水溶液エマルジヨン中にシランカツプリング剤Ｎ
−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン0.05％の割合で加えた水溶液を
用い、他は実施例１と同様にして両面に高さ280
Åの不連続皮膜が形成され、該不連続皮膜の高さ
より30Å高い微細粒子が該不連続部に４×106
ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 １ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.50％にした水溶液を
用い、固形分濃度で1600mg／m2両面塗布したこと
以外は実施例１と同様にして両面に高さ700Åの
不連続皮膜が形成され、不連続皮膜の高さより低
い微細粒子が該不連続皮膜不連続部に４×106
ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.10％にして固形分濃
度で２mg／m2両面塗布したこと以外は同様にして
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイルム
を得た。塗布ムラが生じ、全く不連続皮膜等は形
成されなかつた。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 表１の特性結果から明らかなように、本発明に
より得られる被覆フイルムの不連続皮膜と微細粒
子の密着された面側に蒸着膜を形有させた磁気テ
ープは、常温常湿、高温高湿の使用においても、
ともに走行性、耐すりきず性が良好であり、しか
も平滑で電磁変換特性がすぐれている。 【表】
である。 〔従来技術〕 従来、磁性物質をポリエステルフイルムの表面
に蒸着せしめた蒸着型ビデオテープが使用されて
いる。 しかし、この蒸着型ビデオテープは、磁性層の
厚さが非常に薄いため、使用するベースフイルム
の表面形態が、そのまま真空蒸着した強磁性金属
薄膜（以下、単に蒸着膜という）と同一の表面形
態となる。そのためベースフイルムの表面粗さが
粗いと蒸着ビデオテープの電磁変換特性が著しく
悪くなる。この電磁変換特性の面から考えると、
平滑な全くの鏡面からなるベースフイルムが好ま
しいが、そのようなベースフイルム上に形成され
た蒸着膜は、蒸着面がそのまま鏡面を保つので、
すべり性が非常に悪く、蒸着面に保護層を設ける
ようなことをしない限り、蒸着工程以降のテープ
化プロセスにおいて大量のすり傷が発生し、全く
実用性はなくなる。 また蒸着ビデオテープ実際使用時の重大な問題
は蒸着面の走行性である。従来の磁性体粉末を有
機バインダーに混入させてベースフイルムに塗布
してなる塗布型ビデオテープの場合には、バイン
ダー中に滑剤を入れて、磁性面の走行性を向上さ
せることができるが、蒸着ビデオテープの場合、
蒸着面の走行性は保護膜層を設けない限り一般に
不利である。保護膜層を均一に蒸着面上に設ける
ことは困難であるので、この保護膜層を設けない
蒸着テープの場合、蒸着面の走行性向上、特に実
際に使用される時の過酷な条件下、すなわち高温
高湿条件下での走行性向上が計れないなどの欠点
がある。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、平滑性、耐すり傷性、通常環
境のみならず高温高湿条件下においても走行性の
優れた蒸着膜を形成することが可能なベースフイ
ルムの製造方法を提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明は、一方向に延伸後の平滑なポリエステ
ルフイルムの少なくとも片面に、ポリスチレン、
ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリ
アクリル酸エステル、ポリエポキシ樹脂、ポリ酢
酸ビニルおよびポリ塩化ビニルからなる群から選
ばれた少なくとも１種からなる疎水性の有機化合
物粒子あるいは疎水性表面処理を施した無機化合
物粒子を含有した水溶性高分子水溶液を固形分濃
度で３〜1000mg／m2塗布し、乾燥したのち、前記
フイルムの延伸方向と直角の方向に延伸し、さら
に必要であれば再延伸を施したあとに、熱処理を
施す被覆フイルムの製造方法を特徴とするもので
ある。 この方法によつて、ポリエステルフイルムの少
なくとも片面に密着された高さ500Å以下の水溶
性高分子を主体とする不連続皮膜と、該不連続皮
膜の不連続部のフイルム面に密着された微細粒子
とからなり、該微細粒子の高さが不連続皮膜の高
さより高い被覆フイルムが製造できる。 本発明の一方向に延伸後の平滑なポリエステル
フイルムとは、周知の方法で形成したポリエステ
ルフイルム、すなわち、ポリエステルを溶融して
シートまたは円筒状に押出し、これを一方向に延
伸、（好ましくは２倍以上に延伸）して形成した
フイルムである。なお、延伸倍率の上限は、特に
限定されないが約６倍である。 また、ポリエステルフイルムの表面は平滑であ
り、具体的にはフイルム表面の粗さは、触針式表
面粗さ計のカツトオフ値0.08mmで、Ra値が0.015μ
以下、より好ましくは0.010μ〜0.002μの範囲内に
あることが望ましい。 なお、Ra値とは、触針式表面粗さ計から得ら
れる断面曲線から適当なカツトオフ値を用いて、
うねりを除いた粗さ曲線において、中心線（中心
線より上の部分と下の部分の面積が等しくなるよ
うにして求められる）からの粗さ曲線の高さ（低
さ）の絶対値の算術平均である（DIN 4768によ
る）。 上記フイルムを形成するポリエステルは、線状
ポリエステルを主体とするものであればどのよう
なものでもよい。たとえば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、
ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリン
ジカルボキシレート、ポリエチレン−ｐ−オキシ
ベンゾエートなどがその代表例である。 また上記のポリエステルは、ホモポリエステル
であつても、コポリエステルであつてもよい。コ
ポリエステルの場合、共重合する成分としては、
例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレン
グリコール、ｐ−キシリレングリコール、１，４
−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成
分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、５−
ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン
酸成分、トリメリツト酸、ピロメリツト酸などの
多官能ジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安
息香酸などが挙げられる。なお、共重合の場合、
共重合する成分は20モル％以下とする。 さらに、上記のポリエステルは、他にポリエス
テルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘
導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアル
キレングリコールなどの少なくとも一つを５重量
％を超えない程度に混合してもよい。また、その
フイルム中に延伸した際に、フイルム表面突起の
原因となる重合残査からなる内在粒子あるいは外
部から加えられた不活性粒子等が含まれていても
よく、その含有量は、それらのポリマーを二軸延
伸した場合、厚さ30μ以下で、１枚当りのヘイズ
５％以下であれば良い。 本発明の疎水性の有機化合物粒子とは、ポリス
チレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリアクリル酸エステル、ポリエポキシ樹
脂、ポリ酢酸ビニルまたはポリ塩化ビニルからな
る微細粒子である。また、疎水性表面処理を施し
た無機化合物粒子とは、シリカ、炭酸カルシウム
等の無機化合物表面にメチル基、エチル基のよう
なアルキル基等の疎水性有機基を結合させたもの
である。 本発明の粒子の径は50〜10000Å、好ましくは
100〜5000Åである。径とは本発明フイルムを電
子顕微鏡で観察することによつて求められる微細
粒子の最大長さを言う。微細粒子の形態としては
球形、楕円球形、長方体形、立方体形等である。 本発明の水溶性高分子とは、分子量が１万〜
200万、好ましくは10万〜100万のものが使用され
る。分子量が１万を下まわると、以下に述べる皮
膜が柔らかくなり、構造保持が難しくなり、耐久
性が悪くなる。分子量が200万を上まわると、皮
膜が固くなりすぎ、もろくなり、やはり耐久性が
悪くなる。かかる水溶性高分子としては、ポリビ
ニルアルコール、トラガントゴム、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース等が適用できる。 本発明では上記説明の微細粒子を主体として含
む水溶性高分子水溶液を、上記説明の一軸に延伸
されたポリエステルフイルムに、フイルムの片面
につき固形分濃度で３〜1000mg／m2塗布するが、
シリコーン、フツ素化合物のような滑剤、シラン
カツプリング剤、チタンカツプリング剤等のカツ
プリング剤を塗液に含ませても良い。 使用可能なシリコーンは、分子量が３万〜30万
のものであり、好ましくは、鎖状成分として、 ただしR1：CH3、C6H5、Ｈ R2：CH3、C6H5、Ｈまたは官能性基（例えば、
エポキシ基、アミノ基、水酸基） ｎ：100〜7000でR1、R2によつて上記分子量を
満足させる整数 を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキ
シ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基
を有する。本発明においてシリコーン化合物は必
ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマ
ーあるいは、数種のホモポリマーの混合体であつ
ても良い。 シリコーンの分子量は３万〜30万のものが好ま
しい。分子量が３万を下まわると皮膜は柔らかく
なりすぎ、また、構造が変化しやすくなる。一
方、30万を超えると逆に皮膜がもろくなる。 使用可能なフツ素系化合物としては、フツ素系
界面活性剤、フツ素含有炭化水素化合物等が挙げ
られるが、原子数割合で10〜60％、好ましくは20
〜50％の含有フツ素分率のものが望ましい。フツ
素含有率が高いと、すべり性の効果が向上する。 また、塗液構成分の乾燥後の結合性を強めるた
めに、溶液にシランカツプリング剤を加えること
が望ましい。 シランカツプリング剤としては、その分子中に
２個以上の異なつた反応基をもつ有機けい素単量
体であり、反応基の一つはメトキシ基、エトキシ
基、シラノール基などであり、もう一つの反応基
は、ビニル基、エポキシ基、メタアクリル基、ア
ミノ基、メルカプト基などである。反応基は水溶
性高分子側鎖、末端基およびポリエステルと結合
するものを選ぶが、シランカツプリング剤として
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン等が適用できる。 塗液成分としての水溶性高分子〔Ａ〕、シリコ
ーンあるいはフツ素系化合物あるいはその混合体
〔Ｂ〕、シランカツプリング剤〔Ｃ〕、および疎水
性の有機化合物粒子、あるいは疎水性表面処理を
施した無機化合物粒子〔Ｄ〕の使用割合（重量
比）は〔Ａ〕：〔Ｂ〕：〔Ｃ〕：〔Ｄ〕＝20：０〜20：
０〜20：１〜10、好ましくは〔Ａ〕：〔Ｂ〕：
〔Ｃ〕：〔Ｄ〕＝20：０〜20：１〜10：１〜８であ
る。〔Ｂ〕、〔Ｃ〕はすべり性、耐すり傷性向上、
および成分間の結合力向上のために使用が好まし
いが必須成分ではない。〔Ｂ〕が上限を超えると
この被覆フイルム被覆面上に形成される蒸着膜の
付着強度が不良となる。〔Ｃ〕が上限を超えると
不連続皮膜構造が固くなりすぎ、皮膜がもろくな
り好ましくない。 〔Ｃ〕を使用すると〔Ｄ〕がフイルム面に強固
に結びつけられる。微細粒子は、主として不連続
皮膜の不連続部のフイルム面に密着しているが、
〔Ｄ〕が上記下限を下まわると密着数が少なくな
り、この不連続皮膜上に形成する蒸着膜面の走行
性向上に寄与しなくなる。上限を超えると微細粒
子のフイルム表面からの脱落が激しくなる。また
電磁変換特性も悪化し、好ましくない。 この塗液を片面につき固形分濃度で３〜1000
mg／m2塗布するが、塗布量が下限をきると、不連
続皮膜が形成されなくなる。また上限を超える
と、不連続皮膜の高さが500Åを超えてしまう。
本発明の不連続皮膜とは、形状が網状および／ま
たは点在したものであり、第１図の符号２で示し
たもので、その高さは500Å以下、フイルム面上
に占める割合は10〜90％となる。 塗液塗布の一軸延伸フイルムを、一軸と直角方
向に延伸するが、延伸前に皮膜を完全に形成する
ため、熱風等で100〜150℃に加熱し、フイルム表
面塗布液中の水分を完全に蒸発乾固（好ましくは
水分率を皮膜形成成分の１％以下とする）にせし
め、そのあと90〜120℃の延伸温度で2.5〜4.5倍
に延伸する。 さらに、この延伸フイルムを180〜220℃で熱処
理、あるいは1.1〜1.8倍に、再延伸後に180〜220
℃で熱処理すると、平滑なポリエステルフイルム
の表面に、微細粒子が不連続部に存在する、高さ
500Å以下の不連続皮膜が形成された面を少なく
とも片面にもつ二軸延伸ポリエステルフイルムが
得られる。 なお、粒子は、表面が疎水性のため親水性高分
子からなる不連続皮膜の外の不連続部に密着され
る。 以下、図面に基づいて本発明の製造法により作
られる被覆フイルムを説明する。 第１図はポリエステルフイルムの表面を部分的
に覆つた不連続皮膜と、その皮膜の不連続部のフ
イルム面に密着された微細粒子を示す平面図であ
る。拡大倍率１万倍以上で電子顕微鏡観察をする
ことにより、その様子がわかる。 第２図は不連続皮膜および微細粒子が密着され
た第１図のフイルムの概略の断面図である。微細
粒子の高さが不連続皮膜の高さより高い状態を示
す。なお第１図および第２図において、１はポリ
エステルフイルム、２は不連続皮膜、３は微細粒
子である。 本発明の製造法により作られる不連続皮膜の高
さ（厚さ）は、第３図のｈで示されるもので、そ
のｈ、すなわち高さの測定は、触針式表面粗さ計
により、カツトオフ値0.08mmを用い、縦倍率50万
倍の条件で、表面皮膜形成面を測定した時の表面
粗さ曲線において、微細粒子によるピーク部分を
除いた、山と谷との平均的な高さ間隔を測定した
値である。微細粒子の高さは、第３図のhP1，
hP2，hP3で示されるもので、ｈよりも大きく高さ
方向にはずれた山と谷部分の差を測定した値であ
る。なお、第３図は実際に測定した曲線を模式的
に示したものである。 本発明の製造法により形成される不連続皮膜の
高さは500Å以下、好ましくは50〜300Åである。
高さが500Åをこえるとこの表面に蒸着膜を形成
させたビデオテープの電磁変換特性、特にＳ／Ｎ
比が悪化する。 テープ特性は一般市販のVHS方式のVTRを用
い、録画、再生を繰り返して評価した。 テープ走行性の評価は常温常湿、高温高湿の２
条件下での再生を行ない、テープ走行のみだれに
よる画面のゆらぎを観察することにより行つた。
評価基準は次の通りである。 〇：走行順調で再生画面のゆらぎが全くなし。 ×：ところどころで走行が遅くなり、再生画面の
ゆらぎが生ずる。 また耐すり傷性の評価は、やはり常温常湿およ
び高温高湿条件下で100回繰り返し走行させたあ
とのテープ薄膜上のすり傷観察により行なつた。
評価基準は次の通り。 ◎：テープ薄膜面上にほとんど全くすり傷の発生
がみられない。 〇：テープ薄膜面上にきわめて弱いすり傷の発生
が少し見られる。 ×：テープ薄膜面上に、きついすり傷が発生す
る。 なお、常温常湿とは25℃、60％RHであり、高
温高湿とは40℃、80％RH条件である。 Ｓ／Ｎ比は50％白レベル信号を各テープの最適
記録電流で記録し、再生時のビデオ復調信号に含
まれる信号と雑音の比をビデオノイズメーターを
用い、市販のVHS標準テープを0dBとして比較
測定した。 ドロツプアウトは、磁気記録テープに３段階段
波信号を最適記録電流で記録し、再生時のビデオ
ヘツドアンプ出力の減衰量が18dB、継続時間
20μsec以上のドロツプアウトを10分間ドロツプア
ウトカウンターで測定し、１分間あたりの平均を
とつた。Ｓ／Ｎ比、ドロツプアウト測定は常温常
湿条件で行なつた。 〔発明の効果〕 本発明の製造法により得られたポリエステルフ
イルムの表面に水溶性高分子を主体とする不連続
皮膜を密着させ、かつ微細粒子をその不連続部に
密着せしめた被覆フイルムは、易滑性と平面性が
優れているだけでなく、被覆フイルムの不連続皮
膜と、微細粒子の密着された面側に蒸着膜を設け
た場合、磁気ヘツド・ガイド等は、その蒸着膜表
面との接触面積が極めて小さくなるにもかかわら
ず、強磁性体薄膜面と磁気ヘツドとの間隔は非常
に狭く保たれるので、この蒸着膜表面の走行性は
極めて良好であり、しかも電磁変換特性は優れて
いる。 なお、この不連続皮膜は高さが500Å以下であ
るので、蒸着テープの電磁変換特性を損うことは
ない。また形成微細粒子の高さは不連続皮膜の高
さより500Å以下の高さとなり、ドロツプアウト
が増加するということはない。 本発明により得られる被覆フイルムは、各種の
用途に適用できるが好ましくは、磁気記録媒体用
のベースフイルム、より好ましくは強磁性金属薄
膜形成用のベースフイルムとするのが望ましい。 〔実施例〕 次に、本発明の被覆フイルム製造法およびその
フイルムを磁気テープに適用した例を実施例に基
づいて説明する。 実施例 １ 重合触媒残査等にもとづく内部粒子をできる限
り含まない実質的に無配向、非結晶のポリエチレ
ンテレフタレート原料を約20℃に維持された回転
ドラム上に溶融押出しし、つぎに3.4倍の機械方
向への延伸を施し、その後メタリングバーコータ
ーを用いて下記水溶液エマルジヨンを固形分濃度
で20mg／m2両面塗布した。 水溶液エマルジヨンとしてはメチルセルロース
0.20wt％、ポリアクリル酸エステルエマルジヨン
（固形分濃度40％）0.10wt％の割合のものを調合
した。乾燥、予熱、延伸温度は115℃で水分乾燥
速度は15％／秒とした。 横延伸倍率3.4倍、熱処理温度200℃で、両面に
高さ260Åの不連続皮膜が形成され、不連続皮膜
の高さより50Å高い微細粒子が該不連続皮膜不連
続部に４×106ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μ
のポリエチレンテレフタレートフイルムを得た。 このポリエステルフイルム表面に真空蒸着によ
りコバルト−ニツケル合金薄膜を1500Åの膜厚で
形成した。続いて所定幅にフイルムの機械方向に
切断し、磁気テープとした。この特性を表１に示
す。 実施例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、使用
水溶液エマルジヨン中にシランカツプリング剤Ｎ
−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン0.05％の割合で加えた水溶液を
用い、他は実施例１と同様にして両面に高さ280
Åの不連続皮膜が形成され、該不連続皮膜の高さ
より30Å高い微細粒子が該不連続部に４×106
ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 １ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.50％にした水溶液を
用い、固形分濃度で1600mg／m2両面塗布したこと
以外は実施例１と同様にして両面に高さ700Åの
不連続皮膜が形成され、不連続皮膜の高さより低
い微細粒子が該不連続皮膜不連続部に４×106
ケ／mm2の割合で密着された厚さ12μのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.10％にして固形分濃
度で２mg／m2両面塗布したこと以外は同様にして
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイルム
を得た。塗布ムラが生じ、全く不連続皮膜等は形
成されなかつた。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 表１の特性結果から明らかなように、本発明に
より得られる被覆フイルムの不連続皮膜と微細粒
子の密着された面側に蒸着膜を形有させた磁気テ
ープは、常温常湿、高温高湿の使用においても、
ともに走行性、耐すりきず性が良好であり、しか
も平滑で電磁変換特性がすぐれている。 【表】
第１図は本発明の製造法により得られる被覆フ
イルムの微細粒子と不連続皮膜の密着された面を
模式的に示した平面図である。第２図は第１図の
断面を模式的に示した断面図であり、微細粒子と
不連続皮膜の密着された状態を示す。図中ｈが皮
膜厚さである。第３図は本発明の製造法により形
成された不連続皮膜面の縦倍率50万倍での触針式
表面粗さ曲線チヤートである。ｈが皮膜の高さ、
hP1，hP2，hP3が微細粒子の高さである。 １：ポリエステルフイルム、２：不連続皮膜、
３：微細粒子。
イルムの微細粒子と不連続皮膜の密着された面を
模式的に示した平面図である。第２図は第１図の
断面を模式的に示した断面図であり、微細粒子と
不連続皮膜の密着された状態を示す。図中ｈが皮
膜厚さである。第３図は本発明の製造法により形
成された不連続皮膜面の縦倍率50万倍での触針式
表面粗さ曲線チヤートである。ｈが皮膜の高さ、
hP1，hP2，hP3が微細粒子の高さである。 １：ポリエステルフイルム、２：不連続皮膜、
３：微細粒子。
Claims (1)
- １ 一方向に延伸後の平滑なポリエステルフイル
ムの少なくとも片面に、ポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリル
酸エステル、ポリエポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル
およびポリ塩化ビニルからなる群から選ばれた少
なくとも１種からなる疎水性の有機化合物粒子あ
るいは疎水性表面処理を施した無機化合物粒子を
含有した水溶性高分子水溶液を固形分濃度で３〜
1000mg／m2塗布し、乾燥したのち、前記フイルム
の延伸方向と直角の方向に延伸し、さらに必要で
あれば再延伸を施したあとに、熱処理を施す被覆
フイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086099A JPS60230824A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 被覆フイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086099A JPS60230824A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 被覆フイルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60230824A JPS60230824A (ja) | 1985-11-16 |
| JPH0318573B2 true JPH0318573B2 (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=13877256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59086099A Granted JPS60230824A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 被覆フイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60230824A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6035267B2 (ja) * | 1978-01-09 | 1985-08-13 | 東レ株式会社 | 表面の改質されたポリエステルフイルム |
-
1984
- 1984-05-01 JP JP59086099A patent/JPS60230824A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60230824A (ja) | 1985-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6357238B2 (ja) | ||
| EP0074750B1 (en) | Polyester film for magnetic recording medium and magnetic recording medium made therewith | |
| JPH0380410B2 (ja) | ||
| JPH10157024A (ja) | 積層フイルム | |
| JPS6230106B2 (ja) | ||
| JPH0479368B2 (ja) | ||
| JPH0134456B2 (ja) | ||
| JPS60180838A (ja) | 被覆フイルム | |
| JPS6230105B2 (ja) | ||
| JPH0318573B2 (ja) | ||
| JP2555998B2 (ja) | 易接着性ポリエステルフイルム | |
| JP2523102B2 (ja) | 磁気記録媒体用複合ポリエステルフイルム | |
| JPS6412218B2 (ja) | ||
| JPH0126337B2 (ja) | ||
| JPS6412224B2 (ja) | ||
| JPH0126338B2 (ja) | ||
| JPH0699579B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPS62130848A (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPH0628096B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPS6050151B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JPH06286089A (ja) | 金属薄膜磁気記録媒体用二軸配向複合ポリエチレンナフタレートフィルム | |
| JPH0575582B2 (ja) | ||
| JPS59182820A (ja) | 被覆フイルム | |
| JPH10261215A (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム及び磁気記録テープ | |
| JPH09323385A (ja) | 積層フイルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |