JPH03188277A - 真空プロセス装置 - Google Patents
真空プロセス装置Info
- Publication number
- JPH03188277A JPH03188277A JP32466989A JP32466989A JPH03188277A JP H03188277 A JPH03188277 A JP H03188277A JP 32466989 A JP32466989 A JP 32466989A JP 32466989 A JP32466989 A JP 32466989A JP H03188277 A JPH03188277 A JP H03188277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- space
- sample
- loading
- volume
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、プラズマ処理装置、蒸着装置等の真空プロセ
ス装置に関するものである。
ス装置に関するものである。
［従来の技術］
真空プロセス装置においては、処理室を常時真空に保持
しておくために、該処理室に隣接させて、大気・真空を
繰り返す搬出入室が設けられることが多い。このような
装置においては、搬出入室は処理室と連通される前に減
圧され、大気開放される前にベントされる。
しておくために、該処理室に隣接させて、大気・真空を
繰り返す搬出入室が設けられることが多い。このような
装置においては、搬出入室は処理室と連通される前に減
圧され、大気開放される前にベントされる。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、ベント及び減圧を行うに際し、従来からダス
ト舞い上がりの問題がある。これを極力回避するために
は、ベント操作や減圧操作をできるだけ緩やかに行うべ
きであることは言うまでもない。しかし、ベント及び減
圧に時間をかけることは、そのまま生産性の低下に繋が
り、好ましくない。
ト舞い上がりの問題がある。これを極力回避するために
は、ベント操作や減圧操作をできるだけ緩やかに行うべ
きであることは言うまでもない。しかし、ベント及び減
圧に時間をかけることは、そのまま生産性の低下に繋が
り、好ましくない。
本発明は、このような課題に着目してなされたものであ
って、試料あるいは試料ホルダの搬出入に影響を与えず
、可能な限り試料が配設される空間の容積を減容できる
ようにし、これによりベント及び減圧を所要時間内で極
力緩やかに行うことができるように図った真空プロセス
装置を実現することを目的としている。
って、試料あるいは試料ホルダの搬出入に影響を与えず
、可能な限り試料が配設される空間の容積を減容できる
ようにし、これによりベント及び減圧を所要時間内で極
力緩やかに行うことができるように図った真空プロセス
装置を実現することを目的としている。
［課題を解決するための手段］
本発明は、かかる目的を達成するために、次のような手
段を講じたものである。
段を講じたものである。
すなわち、本発明の真空プロセス装置は、搬出入室を有
する真空プロセス装置において、前記搬出入室を可撓性
隔壁によって試料が配設される空間と試料が配設されな
い空間とに分離し、各々の空間に独立にガス導出入系路
を接続したことを特徴とする。
する真空プロセス装置において、前記搬出入室を可撓性
隔壁によって試料が配設される空間と試料が配設されな
い空間とに分離し、各々の空間に独立にガス導出入系路
を接続したことを特徴とする。
［作用］
可撓性隔壁によって分離される両空間に対して、試料が
配設される空間は緩やかにベント若しくは減圧する必要
があるが、試料が配設されない空間はその必要がない。
配設される空間は緩やかにベント若しくは減圧する必要
があるが、試料が配設されない空間はその必要がない。
このため、試料が配設される空間に対するベント若しく
は減圧が行われる前に可撓性隔壁を速やかに作動させて
該空間の容積を極力減容しておけば、ベント若しくは減
圧すべき容量が減少し、その結果、従来と同等の所要時
間内であっても、かかるベント操作及び減圧操作をより
緩やかに行うことが可能になる。
は減圧が行われる前に可撓性隔壁を速やかに作動させて
該空間の容積を極力減容しておけば、ベント若しくは減
圧すべき容量が減少し、その結果、従来と同等の所要時
間内であっても、かかるベント操作及び減圧操作をより
緩やかに行うことが可能になる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
く第１実施例〉
この真空プロセス装置は、第１図及び第２図に示すよう
に、平行平板、横型カートホルダ１を処理室Ｓに搬入し
又は該処理室Ｓから装置外に搬出するための搬出入室２
を有しており、真空処理を要する試料３がそのカートホ
ルダ１に取り付けられる。前記搬出入室２には、可撓性
隔壁たるフレキシブルチューブ４が拡縮可能に装着され
ており、このチューブ４により、搬出入室２を、試料３
が配設される空間Ｘ（チューブ外）と、試料３が配設さ
れない空間Ａ（チューブ内）とに分離している。フレキ
シブルチューブ４は膨脂時に第２図中想像線に示す如く
試料３の近傍にまで垂下し、収縮時に同図実線に示す如
く搬出入室２の上壁２ａ側に縮退し得るように設けられ
ている。
に、平行平板、横型カートホルダ１を処理室Ｓに搬入し
又は該処理室Ｓから装置外に搬出するための搬出入室２
を有しており、真空処理を要する試料３がそのカートホ
ルダ１に取り付けられる。前記搬出入室２には、可撓性
隔壁たるフレキシブルチューブ４が拡縮可能に装着され
ており、このチューブ４により、搬出入室２を、試料３
が配設される空間Ｘ（チューブ外）と、試料３が配設さ
れない空間Ａ（チューブ内）とに分離している。フレキ
シブルチューブ４は膨脂時に第２図中想像線に示す如く
試料３の近傍にまで垂下し、収縮時に同図実線に示す如
く搬出入室２の上壁２ａ側に縮退し得るように設けられ
ている。
そして、両空間ＩＳＡに、それぞれバルブ５．６を介し
て各一対のガス導出入系路７ｘ、７Ａを接続している。
て各一対のガス導出入系路７ｘ、７Ａを接続している。
これらのガス導出入系路７Ｘ１７８は、バルブ５が開か
れると空間ＩＳＡを図外の真空ポンプと接続し、バルブ
６が開かれると空間Ｘ、Ａを大気解放する。なお、第１
図において８は搬出入室２と処理室Ｓとを適宜連通又は
遮断する仕切弁であり、９は搬出入室２を開成するノ＼
・ソチである。
れると空間ＩＳＡを図外の真空ポンプと接続し、バルブ
６が開かれると空間Ｘ、Ａを大気解放する。なお、第１
図において８は搬出入室２と処理室Ｓとを適宜連通又は
遮断する仕切弁であり、９は搬出入室２を開成するノ＼
・ソチである。
このような構成により、処理を終えた試料３が処理室Ｓ
から搬出入室２に搬送されてくると、次のような手順に
よって試料３を装置外に取り出す。
から搬出入室２に搬送されてくると、次のような手順に
よって試料３を装置外に取り出す。
先ず、ガス導出入系路７Ａのバルブ６を開にして空間Ａ
をベントし、これにより空間Ｘの容積を第２図中想像線
の如く減少させる。この時は緩やかにベントする必要は
ない。次に、減容された空間Ｘに対して導出入系路７Ｘ
のバルブ６を開き、空間Ｘをベントする。この時は緩や
かに行う必要がある。しかし、空間Ｘは事前に減容され
ているため、ベントにさほど時間がかかることはない。
をベントし、これにより空間Ｘの容積を第２図中想像線
の如く減少させる。この時は緩やかにベントする必要は
ない。次に、減容された空間Ｘに対して導出入系路７Ｘ
のバルブ６を開き、空間Ｘをベントする。この時は緩や
かに行う必要がある。しかし、空間Ｘは事前に減容され
ているため、ベントにさほど時間がかかることはない。
ベントが終わると、試料３を取り出し易くするため、ガ
ス導出入系路７ｘのバルブ６を開のまま、ガス導出入系
路７Ａのバルブ５を開にしてフレキシブルチューブ４を
再び縮退させ、空間Ａの体積を減容させる。この時は緩
やかにベントする必要はない。そして、最後にノ１ツチ
９を開け、試料３を取り出す。
ス導出入系路７ｘのバルブ６を開のまま、ガス導出入系
路７Ａのバルブ５を開にしてフレキシブルチューブ４を
再び縮退させ、空間Ａの体積を減容させる。この時は緩
やかにベントする必要はない。そして、最後にノ１ツチ
９を開け、試料３を取り出す。
また、試料３を取り出した状態から、新たな試料３を次
のような手順によって処理室Ｓに送り込む。先ず、搬出
入室２内に試料３を挿入してハツチ９を閉め、ガス導出
入系路７Ａのバルブ６を開にしたまま、ガス導出入系路
７Ｘのバルブ５を開にして空間Ｘを緩やかに排気する。
のような手順によって処理室Ｓに送り込む。先ず、搬出
入室２内に試料３を挿入してハツチ９を閉め、ガス導出
入系路７Ａのバルブ６を開にしたまま、ガス導出入系路
７Ｘのバルブ５を開にして空間Ｘを緩やかに排気する。
この時、空間Ａは空間Ｘの排気に伴って徐々に容積が増
大し、空間Ｘは徐々に減容されるため、排気にさほど時
間がかかることはない。空間Ｘが排気されたら、ガス導
出入系路７Ａのバルブ５を開にし、空間Ａを減容する。
大し、空間Ｘは徐々に減容されるため、排気にさほど時
間がかかることはない。空間Ｘが排気されたら、ガス導
出入系路７Ａのバルブ５を開にし、空間Ａを減容する。
この時は緩やかに排気する必要はない。そして、排気を
終えると、仕切弁８を開いて試料３を処理室Ｓに搬送す
る。
終えると、仕切弁８を開いて試料３を処理室Ｓに搬送す
る。
しかして、このようなものであると、ダストが舞い上が
り易い操作時（空間Ｘに対するベント若しくは減圧時）
には該空間Ｘは予め減容されているため、従来と同等の
所要時間内においてもより緩やかな排気を行うことがで
き、それ以外の操作ではフレキシブルチューブ４を急速
に作動させることで時間を浪費しないようにすることが
できる。
り易い操作時（空間Ｘに対するベント若しくは減圧時）
には該空間Ｘは予め減容されているため、従来と同等の
所要時間内においてもより緩やかな排気を行うことがで
き、それ以外の操作ではフレキシブルチューブ４を急速
に作動させることで時間を浪費しないようにすることが
できる。
このため、図示装置によると生産性の低下を招くことな
く、製品の歩留りを有効に向上させることが可能になる
。
く、製品の歩留りを有効に向上させることが可能になる
。
く第２実施例〉
この実施例は、第３図及び第４図に示すように、平行平
板・縦型かつ両面電極型カートホルダ１１を搬出入する
ための搬出入室１２を有している。
板・縦型かつ両面電極型カートホルダ１１を搬出入する
ための搬出入室１２を有している。
試料１３はカートホルダ１１の両側壁１１ａに対峙して
装着される。前記振出人室１２内には、可撓性隔壁とし
て３つのフレキシブルチューブ１４．１５．１６が拡縮
可能に装着されており、これらのチューブ１４．１５．
１６によって、搬出入室１２を、試料が配設される空間
Ｙ（チューブ外）と、試料が配設されない空間Ｂ、Ｃ，
Ｄ （チューブ内）とに分離している。フレキシブルチ
ューブ１４は膨脹時に第３図に示す如くカートホルダ１
１の側壁１１ａに沿ってそれらの対向空隙間に垂下し、
収縮時に第４図に示す如く搬出入１２室の上壁１２ａに
張り付くようにして縮退し得るように設けられている。
装着される。前記振出人室１２内には、可撓性隔壁とし
て３つのフレキシブルチューブ１４．１５．１６が拡縮
可能に装着されており、これらのチューブ１４．１５．
１６によって、搬出入室１２を、試料が配設される空間
Ｙ（チューブ外）と、試料が配設されない空間Ｂ、Ｃ，
Ｄ （チューブ内）とに分離している。フレキシブルチ
ューブ１４は膨脹時に第３図に示す如くカートホルダ１
１の側壁１１ａに沿ってそれらの対向空隙間に垂下し、
収縮時に第４図に示す如く搬出入１２室の上壁１２ａに
張り付くようにして縮退し得るように設けられている。
また、左右のフレキシブルチューブ１５．１６は膨脹時
に第３図に示す如くカートホルダ１１の側壁１１ａに沿
ってそれらの背面近傍にまで膨出し、収縮時に第４図に
示す如く搬出入室１２の側壁１２ｂに張り付くようにし
て縮退し得るように設けられている。
に第３図に示す如くカートホルダ１１の側壁１１ａに沿
ってそれらの背面近傍にまで膨出し、収縮時に第４図に
示す如く搬出入室１２の側壁１２ｂに張り付くようにし
て縮退し得るように設けられている。
そして、各々の空間ＹＳＢ−Ｄに、それぞれバルブ１８
．１９を介して各一対のガス導出入系路１７ｙ 、１７
ｓ 、１７ｃ 、１７ｏを接続している。
．１９を介して各一対のガス導出入系路１７ｙ 、１７
ｓ 、１７ｃ 、１７ｏを接続している。
これらのガス導出入系路１７Ｙ、１７Ｂ〜１７Ｄは、バ
ルブ１８が開かれると空間Ｙ、Ｂ−Ｄを図外の真空ポン
プと接続し、バルブ１９が開かれると空間ＹＳＢ−Ｄを
大気解放するようになっている。
ルブ１８が開かれると空間Ｙ、Ｂ−Ｄを図外の真空ポン
プと接続し、バルブ１９が開かれると空間ＹＳＢ−Ｄを
大気解放するようになっている。
次に、試料１３を取り出す手順について説明する。先ず
、ガス導出入系路１７Ｂ、１７Ｃ，１７、の各バルブ１
９を開にして空間Ｂ、ＣＳＤを第３図に示す如くベント
し、これにより空間Ｙの容積を減少させる。この時は緩
やかにベントする必要はない。次に、減容された空間Ｙ
に対してガス導出入系路１７Ｙのバルブ１９を開き、空
間Ｙをベントする。この時は緩やかに行う必要がある。
、ガス導出入系路１７Ｂ、１７Ｃ，１７、の各バルブ１
９を開にして空間Ｂ、ＣＳＤを第３図に示す如くベント
し、これにより空間Ｙの容積を減少させる。この時は緩
やかにベントする必要はない。次に、減容された空間Ｙ
に対してガス導出入系路１７Ｙのバルブ１９を開き、空
間Ｙをベントする。この時は緩やかに行う必要がある。
しかし、空間Ｙは事前に減容されているため、ベントに
さほど時間がかかることはない。ベントが終わると、試
料１３を取り出し易くするため、ガス導出入系路１７ｙ
のバルブ１９を開のまま、ガス導出入系路１７Ｂ 、１
７ｃ 、１７Ｄのノくルブ１８を開にしてフレキシブル
チューブ１４．１５．１６を縮退させる。この時は緩や
かにベントする必要はない。そして、ベントが終わると
ノトソチを開け、試料を取り出す。
さほど時間がかかることはない。ベントが終わると、試
料１３を取り出し易くするため、ガス導出入系路１７ｙ
のバルブ１９を開のまま、ガス導出入系路１７Ｂ 、１
７ｃ 、１７Ｄのノくルブ１８を開にしてフレキシブル
チューブ１４．１５．１６を縮退させる。この時は緩や
かにベントする必要はない。そして、ベントが終わると
ノトソチを開け、試料を取り出す。
また、試料１３を送り込む手順は次のようになる。先ず
、ガス導出入系路１７Ｂ−１７゜、１７Ｄのバルブ１９
を開にしたまま、ガス導出入系路１７Ｙのバルブ１８を
開にして空間Ｙを緩やかに排気する。この時、空間Ｂ−
Ｄは空間Ｙの排気に伴って徐々に容積が増大し、空間Ｙ
は徐々に減容するため、排気にさほど時間がかかること
はない。
、ガス導出入系路１７Ｂ−１７゜、１７Ｄのバルブ１９
を開にしたまま、ガス導出入系路１７Ｙのバルブ１８を
開にして空間Ｙを緩やかに排気する。この時、空間Ｂ−
Ｄは空間Ｙの排気に伴って徐々に容積が増大し、空間Ｙ
は徐々に減容するため、排気にさほど時間がかかること
はない。
空間Ｙが排気されたら、ガス導出入系路１７Ｂ、１７Ｃ
，１７Ｄのバルブ１８を開にし、空間Ｂ１Ｃ５Ｄを減容
する。この時に緩やかに排気する必要はない。そして、
排気を終えると、仕切弁を開いて試料を処理室に搬送す
る。
，１７Ｄのバルブ１８を開にし、空間Ｂ１Ｃ５Ｄを減容
する。この時に緩やかに排気する必要はない。そして、
排気を終えると、仕切弁を開いて試料を処理室に搬送す
る。
しかして、このようなものであると、ダストが舞い上が
り易い操作時（空間Ｙに対するベント若しくは減圧時）
には該空間Ｙは予め減容されているため、従来と同等の
所要時間内においてもより緩やかな排気を行うことがで
き、それ以外の操作はフレキシブルチューブ１４．１５
．１６を急速に作動させることで時間を浪費しないよう
にすることができる。このため、図示装置によると生産
性の低下を招くことなく、製品の歩留りを有効に向上さ
せることが可能になる。
り易い操作時（空間Ｙに対するベント若しくは減圧時）
には該空間Ｙは予め減容されているため、従来と同等の
所要時間内においてもより緩やかな排気を行うことがで
き、それ以外の操作はフレキシブルチューブ１４．１５
．１６を急速に作動させることで時間を浪費しないよう
にすることができる。このため、図示装置によると生産
性の低下を招くことなく、製品の歩留りを有効に向上さ
せることが可能になる。
以上、本発明の各実施例について説明したが、各部の構
成は図示例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を
逸脱しない範囲で種々変形が可能である。例えば、第５
図に示すように、搬出入室２１を可撓性隔壁たるベロー
２２により試料が配設される空間Ｚと試料が配設されな
い空間Ｅとに分離してもよい。また、ガス導出入系路は
排気とベントを兼ねたものにすることもできる。
成は図示例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を
逸脱しない範囲で種々変形が可能である。例えば、第５
図に示すように、搬出入室２１を可撓性隔壁たるベロー
２２により試料が配設される空間Ｚと試料が配設されな
い空間Ｅとに分離してもよい。また、ガス導出入系路は
排気とベントを兼ねたものにすることもできる。
［発明の効果］
本発明は、以上のような構成であるから、生産性を低下
させることなく、試料が配設される空間に対するスロー
排気及びスローベントの時間を比較的多くとってダスト
舞い上がりを極力低減することが可能になり、これによ
り製品の歩留りを有効に向上させた真空プロセス装置を
提供することができる。
させることなく、試料が配設される空間に対するスロー
排気及びスローベントの時間を比較的多くとってダスト
舞い上がりを極力低減することが可能になり、これによ
り製品の歩留りを有効に向上させた真空プロセス装置を
提供することができる。
第１図及び第２図は本発明の一実施例を示し、第１図は
装置全体の模式図、第２図は搬出入室の原理図である。 第３図及び第４図は本発明の他の実施例をそれぞれ異な
る状態において示す原理図である。第５図はさらに他の
実施例の搬出入室を示す原理図である。 ２．１２．２１・・・搬出入室 ３．１３・・・試料 ７Ａ 、７ｘ 、１７Ｂ 、１７ｃ 、１７Ｄ 、１７
ｙ・・・ガス導出入系路 ４．１４．１５．１６・・・可撓性隔壁（フレキシブル
チューブ） ２２・・・可撓性隔壁（ベロー）
装置全体の模式図、第２図は搬出入室の原理図である。 第３図及び第４図は本発明の他の実施例をそれぞれ異な
る状態において示す原理図である。第５図はさらに他の
実施例の搬出入室を示す原理図である。 ２．１２．２１・・・搬出入室 ３．１３・・・試料 ７Ａ 、７ｘ 、１７Ｂ 、１７ｃ 、１７Ｄ 、１７
ｙ・・・ガス導出入系路 ４．１４．１５．１６・・・可撓性隔壁（フレキシブル
チューブ） ２２・・・可撓性隔壁（ベロー）
Claims (1)
- 搬出入室を有する真空プロセス装置において、前記搬出
入室を可撓性隔壁によって試料が配設される空間と試料
が配設されない空間とに分離し、各々の空間に独立にガ
ス導出入系路を接続したことを特徴とする真空プロセス
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32466989A JPH03188277A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 真空プロセス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32466989A JPH03188277A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 真空プロセス装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03188277A true JPH03188277A (ja) | 1991-08-16 |
Family
ID=18168410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32466989A Pending JPH03188277A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 真空プロセス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03188277A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000011237A1 (en) * | 1998-08-19 | 2000-03-02 | Shibaura Mechatronics Corporation | Drive mechanism for vacuum device and vacuum device |
| JP2006156762A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Sumitomo Eaton Noba Kk | ウエハ処理装置及びウエハ処理方法並びにイオン注入装置 |
-
1989
- 1989-12-14 JP JP32466989A patent/JPH03188277A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000011237A1 (en) * | 1998-08-19 | 2000-03-02 | Shibaura Mechatronics Corporation | Drive mechanism for vacuum device and vacuum device |
| US6337003B1 (en) | 1998-08-19 | 2002-01-08 | Shibaura Mechatronics Corporation | Vacuum apparatus and driving mechanism therefor |
| EP1029942A4 (en) * | 1998-08-19 | 2004-11-10 | Shibaura Mechatronics Corp | DRIVE FOR VACUUM DEVICE AND VACUUM DEVICE |
| JP2006156762A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Sumitomo Eaton Noba Kk | ウエハ処理装置及びウエハ処理方法並びにイオン注入装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6904699B2 (en) | Vacuum processing apparatus and operating method therefor | |
| KR970013175A (ko) | 기판처리장치 | |
| TW298658B (ja) | ||
| KR20140041820A (ko) | 진공처리장치 | |
| JPH03188277A (ja) | 真空プロセス装置 | |
| JPS61246381A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPS60113428A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2566308B2 (ja) | ロードロック装置を備えた処理装置 | |
| KR20140118718A (ko) | 진공 처리 장치 및 진공 처리 장치의 운전 방법 | |
| JP2767142B2 (ja) | 真空処理装置用ユニット | |
| JPS6147677B2 (ja) | ||
| JPS59231816A (ja) | ドライエツチング装置 | |
| US7089680B1 (en) | Vacuum processing apparatus and operating method therefor | |
| JPH04294766A (ja) | キャリヤボックスの真空引き方法及びキャリヤボッ クス | |
| JPH0245920A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6037871B2 (ja) | スパッタリング装置の作動方法 | |
| JPH10163291A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6280265A (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2000271469A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH0631154A (ja) | 真空装置 | |
| JPS611485A (ja) | 電子ビ−ム溶接装置 | |
| JPS62291480A (ja) | 真空装置 | |
| JPH04228499A (ja) | 真空装置 | |
| JPH03105084A (ja) | ドライシールド型真空ポンプの運転方法 | |
| JPH025774A (ja) | 半導体基板処理装置 |