JPH03189930A - 垂直磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて好適な垂
直磁気ディスクの製造方法に係り、特に基板強度を低下
させることなく磁気ヘッドスライダの吸着を防止したガ
ラス、或いはセラミック等の硬質なディスク基板を用い
た二層膜構造の垂直磁気ディスクの製造方法に関し、 ガラス、或いはセラミック等の硬質なディスク基板の強
度を弱めることなく、軟磁性層、垂直記録層が積層形成
された磁気ディスクの表面を容易に滑らかな微小凹凸状
の粗面にしてヘッド吸着を防止することを目的とし、 非磁性でかつ硬質のディスク基板上に高透磁率な軟磁性
層と垂直記録層を積層した垂直磁気ディスクの製造にお
いて、上記ディスク基板上にめっき下地層を形成し、そ
の表面を微小な凹凸状の粗面に加工した後、該めっき下
地層上に前記高透磁率な軟磁性層をめっき法により形成
する工程を含み構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて
好適な垂直磁気ディスクの製造方法に係り、特に基板強
度を低下させることなく磁気ヘソトスライダの吸着を防
止したガラス、或いはセラミック等の硬質なディスク基
板を用いた二層膜構造の垂直磁気ディスクの製造方法に
関するものである。

磁気ディスク装置においては、大容量化・高密度記録化
に伴い磁気ディスクに対する記録・再生時における磁気
へノドスライダの浮上量は益々微小となり接触する確率
が大きくなっている。このため、該磁気ディスクの表面
を平滑化し、また潤滑膜等を施して該磁気ディスク面及
び磁気へノドスライダの摩耗及び損傷等を防止している
。

しかし、その磁気ディスクの表面も平滑過ぎると、例え
ばＣＳ　Ｓ　（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏｐ
）動作時等において磁気ヘントスライダが吸着されてヘ
ッドクラッシュが発生ずる傾向にある。このため、その
ような磁気ヘントスライダの吸着が生じない程度の表面
粗さを存する平滑な垂直磁気ディスクの製造方法が必要
とされている。

〔従来の技術〕

従来、磁気へ・ノドスライダの吸着を防止する垂直磁気
ディスクの製造方法としては、ガラス、或いはセラミッ
ク等の硬質なディスク基板の表面を、ラッピングテープ
等を用いた機械的な粗面加工、所謂テクスチャリング法
により微小な凹凸を有する粗面にした後、該ディスク基
板の粗面上にＮｉＦｅからなる高透磁率な軟磁性層（軟
磁性裏打ち層とも称する）をスパッタリング、或いはめ
っき法等により形成し、この軟磁性層上にＣｏ−Ｃｒか
らなる垂直記録層と、磁気へノドスライダの接触摺動時
における摩擦、摩耗を低減するためのカーボン等からな
る潤滑保護層をスパンクリング法により順に積層形成す
るが一般的である。

このように形成する前記ディスク基板の粗面上に順に積
層形成される各層の表面は咳相面の状態を順に継承して
最上層の前記潤滑保護層の表面、即ら磁気ディスクの表
面が微小な凹凸を有する粗面となり、この表面状態によ
って磁気へノドスライダとの接触面積が減少されてヘッ
ド吸着を防止していた。

しかし、上記したようにガラス、或いはセラミック等の
硬質なディスク基板１１の表面に直接テクスチャリング
法により所定の表面荒さに粗面加工することは難しく、
また形成された粗面ばクラックの発生を助長して基板強
度を低下させ、割れ易くなる欠点があった。

そこでこのような欠点を解消するために、第２図（ａ）
に示すようにガラス、或いはセラミック等の硬質なディ
スク基板１１上にスパッタリング法等により１５００人
の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなるめっき下地膜１２を被着形
成し、そのめっき下地膜１２上にめっき法により数μｍ
の膜厚のＮｔ−Ｆｅからなる高透磁率な軟磁性層】３を
形成した後、かかる軟磁性層１３の表面をテクスチャリ
ング法によって例えば表面荒さが３００八程度の微小な
凹凸を有する粗面１４にする。

次に第２図（ｂｌに示すようにその軟磁性層Ｉ３の粗面
１４上に０．２μｍの膜厚のＧｏ−Ｃｒからなる垂直記
録層１５及びカーボン等からなる数百人の膜厚の潤滑保
護層］６をスパッタリング法により順に積層形成するこ
とにより、最上層の潤滑保護層１６の表面、即ち、形成
された磁気ディスクの表面が前記軟磁性層の粗面状態が
前記垂直記録層１５へ、そして潤滑保護層Ｉ６へと順に
継承された粗面とするこ七によって、前記基板強度を弱
めることなく磁気へノドスライダとの接触面積を減少し
、′＼ソノドライダの吸着を防止している。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、前記軟磁性層１３の表面をテクスチャリ
ング法により粗面加工した場合、その微小な凹凸粗面１
４における凸部の先端が鋭利な形状となり、このような
軟磁性層１３の粗面１４」−に垂直記録層１５及び潤滑
保護層１６を順に積層形成した磁気ディスクの表面も、
前記垂直記録層１５と潤滑保護層１６との膜厚が薄いこ
とに起因して前記軟磁性層Ｉ３の凹凸粗面１４の形状を
如実に継承して凸部の先端が鋭利な形状となるため、か
かる磁気ディスクの表面に磁気ヘントスライダが接触・
摺動した際に、前記凸部先端が欠は易く、またその欠は
片がディスク面と磁気へノドスライダ間に介在されるこ
とにより、該ディスク面を損傷させ、最悪時にはへノド
クラソシュを引き起こす問題があった。

本発明は一ヒ記した従来の問題点に鑑み、ガラス、或い
はセラミック等の硬質なディスク基板の強度を弱めるこ
となく、軟磁性層、垂直記録層が積層形成された磁気デ
ィスクの表面を容易に滑らかな微小凹凸状の粗面にして
ヘッド吸着を防止した新規な垂直磁気ディスクの製造方
法を提供することを目的とするものである。

Ｃ８題を解決するための手段〕 本発明は上記した目的を達成するため、非磁性でかつ硬
質のディスク基板上に高透磁率な軟磁性層と垂直記録層
を積層した垂直磁気ディスクの製造において、上記ディ
スク基板上にめっき下地層を形成し、その表面を微小な
凹凸状の粗面に加工した後、該めっき下地層上に前記高
透磁率な軟磁性層をめっき法により形成する工程を含み
構成する。

〔作　用〕

本発明の製造方法では、ガラス、或いはセラミック等の
非磁性なディスク基板上に従来よりも厚い膜厚に形成し
ためっき下地層の表面をテクスチャリング法により微小
な凹凸状の粗面に加工することにより、該粗面の形成が
容易となり、前記ディスク基板の強度も低下することは
ない。

また、かかるめっき下地層の微小な凹凸粗面における凸
部の先端が鋭利な形状となっていても、その粗面上に高
透磁率な軟磁性層、垂直記録層、潤滑保護層を順に積層
形成することにより、それら各層の合計の膜厚が厚いた
め、前記めっき下地層の微小な凹凸粗面の状態を１１ｍ
次継承した潤滑保護層の表面、即ち、磁気ディスクの表
面は滑らかな微小凹凸粗面に形成される。この結果、か
かる磁気ディスクの表面に磁気へノドスライダが接触・
摺動しても、従来の如き微小凹凸粗面における凸部先端
が欠けるような現象は解消され、磁気へノドスライダの
吸着が防止されると共に、潤滑摺動特性も向上する。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図（ａｌ〜（ｄｉは本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である
。

本実施例では第１図（ａｌに示すように、例えばガラス
、またはセラミック等からなる非磁性のディスク基板２
Ｉの表面に、スパッタリング法等により０．５〜０．７
μｍ程度の膜厚のＮｔ−Ｆｅからなるめっき下地層２２
を被着形成し、そのめっき下地層２２の表面をテクスチ
ャリング法により第１図（ｂ）に示すように、例えば表
面荒さが３００人程鹿の微小な凹凸を有する粗面２３に
加工することにより、前記ディスク基板２１の強度が従
来のように低下したり、またクラックが生ずる恐れがな
くなる。

次に第１図（Ｃ１に示すように前記めっき下地層２２の
粗面２３上に電解めっき法により、例えば２〜３μｍの
膜厚のＮｉ−Ｐｅからなる高透磁率な軟磁性層２４を形
成し、その表面に更に第１図（ｄｉに示すようにスパッ
タリング法により０．２μｍの膜厚のＧｏ−Ｃｒからな
る垂直基板層２５と３００人の膜厚のカーボンからなる
潤滑保護層２６とを順に被着形成することにより、前記
めっき下地層２２上に積層された各層の総膜厚が厚いの
で、該めっき下地層２２の微小な凹凸粗面２３の状態を
各層を介して継承された最上層の該潤滑保護層２６の表
面は、めっき下地Ｊｉｔ２２の微小な凹凸粗面２３での
鋭利な凸部を継承した部分が鈍化した状態となり、全表
面が滑らかな微小凹凸状の粗面２７に形成された磁気デ
ィスクを容易に得ることができる。

従って、磁気へノドスライダの接触・摺動による凹凸粗
面２７での凸部先端が欠ける恐れはなく、しかもヘッド
吸着も防止される等、潤滑摺動特性が向上する。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
ディスクの製造方法によれば、ガラス、若しくはセラミ
ックからなる非磁性のディスク基０ 板の強度を低下させることなく、ディスク表面を滑らか
な微小凹凸状の粗面に容易に形成することが可能となり
、ヘッド吸着が防止され、潤滑摺動特性の優れた信頼性
の高いの垂直磁気ディスクを得ることができる利点を有
する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａｌ〜（ｄｌは本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す 要部断面図、 第２図ｆａｌ〜（ｂｌは従来の垂直磁気ディスクの製造
方法を説明するための要部断面図であ る。 第１図Ｆａ１〜（ｄｌにおいて、 ２Ｉはディスク基板、２２はめっき下地層、２３は微小
凹凸状の粗面、２４は高透磁率な軟磁性層、２５は垂直
記録層、２６は潤滑保護層、２７は滑らかな微小凹凸状
の粗面をそれぞれ示す。 〜　ＩＩ ２０４ ｊ声り身ヒ９属気偽ヌクの訛Ｌｉづ・沃をへび乞ヨ月す
る環Ｊカバの図第２目

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 非磁性でかつ硬質のディスク基板（２１）上に高透磁率
   な軟磁性層（２４）と垂直記録層（２５）を積層した垂
   直磁気ディスクの製造において、 上記ディスク基板（２１）上にめっき下地層（２２）を
   形成し、その表面を微小な凹凸状の粗面（２３）に加工
   した後、該めっき下地層（２２）上に前記高透磁率な軟
   磁性層（２４）をめっき法により形成する工程を含むこ
   とを特徴とする垂直磁気ディスクの製造方法。