JPH0319152A - 光ディスク用プラスチック基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク用プラスチック基板の製造方法Info
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- JPH0319152A JPH0319152A JP1152149A JP15214989A JPH0319152A JP H0319152 A JPH0319152 A JP H0319152A JP 1152149 A JP1152149 A JP 1152149A JP 15214989 A JP15214989 A JP 15214989A JP H0319152 A JPH0319152 A JP H0319152A
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- Japan
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- manufacturing
- optical disc
- optical disk
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、光ディスク用基板の製造方法および該製造方
法により得られる光ディスク用基板に関する。
法により得られる光ディスク用基板に関する。
近年、情報記録担体として、再生専用のコンパクトディ
スクやビデオディスク、また追記も出来る光ディスク、
さらに記録・再生・消去可能な光磁気ディスク等が利用
されている． これらのディスクの基板は、生産性の面から射出成形や
射出圧縮成形によるプラスチック基板が用いられている
が、従来の技術では平坦な鏡面板上に平坦なスタンパを
取付け、スタンパに対向する側の鏡面板も平坦なものを
用いて扁平なキャビティを形威し、そこに溶融樹脂を流
し込むことによって扁平なディスク用基板を製造してい
た。 ［発明が解決しようとする課題］ このようにして成形した光ディスク用基板は、第４図（
１）に示すように成形直後はフラットな形状を有してい
るが、経時および熱的変化により第４図（２）に示すよ
うな反りが発生してしまう．また、基板上に記録膜を成
膜した場合は、さらに第４図（３）に示すように反りの
度合いが大きくなっていた．このような反りはコンパク
トディスク等の低速回転で使用する場合には特に問題と
ならないが、近年のように高密度化・高速化が要求され
る光ディスクでは、振動等による誤作動を招き好ましく
ない。 このような問題を解決するために特開昭６０−６７ １
２４、特開昭６０−１３１６５１ ，特開昭６０−２６
１０４２に開示されているように基板の内周側を厚くし
て強度を持たせたり、内周から外周までの基板の厚みを
変えることで回転による振動を小さくしようとする試み
がなされているが、基板の厚みを部分的に変えることは
製品設計上許容されない場合が多く、また部分的に強度
を持たせても、経時的および熱的変化に対してはそれほ
ど大きな効果は認められなかった。 〔課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記課題を解決すべく、基板の経時および
熱的変化の挙動を詳細に検討したところ、その変形の方
向と量とがある一定の範囲内に納まることを見出した．
そして成形後、ある一定条件で熱処理すればその変形を
短時間に起させることができ、その後の変化は極めて小
さいものである． すなわち本発明は、光ディスク用プラスチック基板にお
いて、プラスチック基板の形状の経時変化及び基板上に
成膜する際の熱応力、膜応力等による変化量を予め補正
して製造し、また、該方法により得られる基板を熱処理
することによる光ディスク用基板の製造方法、およびこ
れらの方法により得られる光ディスク用基板である。 第４図に見られるように、従来の方法により得られる基
板ｌは、その上面に情報またはグループ２が形成されて
おり、その後の経時変化により反りが発生していた．例
えば、有効外半径（Ｄ２）６ ０ｍｍ，有効内半径（Ｄ
＋）３０ｍｍ，板厚１． ２ｍｍ基板では、成形直後
は第４図（１）のようにほぼフラットであるが、この基
板に耐久試験（６０〜９０℃、６０〜９０％ＲＨ、 ５
００〜１０００時間）を行なうと、第４図（２）に示す
ような形状変化をきたす。このときの変化ＩＨ．は、約
５０〜１５０μｍであった。さらに基板上に記録膜を成
膜すると、成膜中の温度や膜自身の応力によって第４図
（３）のように変形する。その変化量Ｈ２は約１５０〜
３００μ瓜であった。本発明ではこれらの変化を予め補
正して基板を成形することにより、経時変化及び基板上
に成膜する際の熱応力、膜応力等による変化が起きるこ
とにより、基板形状がフラットになる。また、得られた
基板を加熱処理により強制的に変化を起させることによ
り、以後の処理における形状の変化はほとんど発生しな
くなる． つまり本発明では、第１図に示すようにこの補正量をＨ
とした場合、Ｈ／ （Ｄ２−Ｄ．）が０〜０．０５の範
囲で基板を製造することにより上記目的が達成される． 【実施例１ 次に本発明を実施例を挙げて説明する。 Ｘ息盟ユ 第２図の概略断面図に示す金型を用いて基板を成形した
。 同図において、４は可動側鏡面板、５はスタンパ、６は
固定側鏡面板、７は注型樹脂、８は外周スタンパ押え、
９は内周スタンバ押えである。 可動側鏡面板の曲率半径Ｒについては補正量Ｈ＝０．１
ｍｍ ， Ｄ＋ ＝３０ｍｍ， Ｄｚ ＝６０ｍｍとし
て次式により決定した． Ｈ＝ （Ｒ” −Ｄ＋”） （Ｒ” Ｄ２
”）上式を満たす曲率半径を有する鏡面板を製作し金型
に組み込み、注型樹脂としてポリカーボネート樹脂を用
いて基板の成形を行った。 得られた基板はＨ ＝ ０． ０８ｍｍで出来上がり、
これを９０℃、３時間の熱処理を行なうことによりＨは
０〜０． ０５ｍｍとなった．その後この基板に耐久試
験を行なっても形状の変化はほとんど発生しなかった． 実施例２ 第３図のような形状の基板を作製した。本実施例におい
ては曲面形状を円錐台形状とし、成形に用いる金型の鏡
面板の角度θを次式により決定して行なった。 θ＝ｔａｎ−’ Ｈ／ （Ｄｚ Ｄ＋ ）得られた基
板はＨ ＝ ０． ０８ｍｍで出来上がり、これを９０
℃、３時間の熱処理を行なうことによりＨは０〜０．
０３ｍｍとなった．その後この基板に耐久試験を行なっ
ても形状の変化はほとんど発生しなかった． （発明の効果１ 以上説明したように、成形後の変化量を予め補正して基
板を成形することにより、経時変化及び基板上に成膜す
る際の熱応力、膜応力等による変化により、基板形状が
フラットになる。また、得られた基板を加熱処理により
強制的に変化を起させることにより、以後の処理におけ
る形状の変化はほとんど発生しなくなり、その結果反り
面振れといった機械的特性が非常に安定した基板を得る
ことが可能となった．
スクやビデオディスク、また追記も出来る光ディスク、
さらに記録・再生・消去可能な光磁気ディスク等が利用
されている． これらのディスクの基板は、生産性の面から射出成形や
射出圧縮成形によるプラスチック基板が用いられている
が、従来の技術では平坦な鏡面板上に平坦なスタンパを
取付け、スタンパに対向する側の鏡面板も平坦なものを
用いて扁平なキャビティを形威し、そこに溶融樹脂を流
し込むことによって扁平なディスク用基板を製造してい
た。 ［発明が解決しようとする課題］ このようにして成形した光ディスク用基板は、第４図（
１）に示すように成形直後はフラットな形状を有してい
るが、経時および熱的変化により第４図（２）に示すよ
うな反りが発生してしまう．また、基板上に記録膜を成
膜した場合は、さらに第４図（３）に示すように反りの
度合いが大きくなっていた．このような反りはコンパク
トディスク等の低速回転で使用する場合には特に問題と
ならないが、近年のように高密度化・高速化が要求され
る光ディスクでは、振動等による誤作動を招き好ましく
ない。 このような問題を解決するために特開昭６０−６７ １
２４、特開昭６０−１３１６５１ ，特開昭６０−２６
１０４２に開示されているように基板の内周側を厚くし
て強度を持たせたり、内周から外周までの基板の厚みを
変えることで回転による振動を小さくしようとする試み
がなされているが、基板の厚みを部分的に変えることは
製品設計上許容されない場合が多く、また部分的に強度
を持たせても、経時的および熱的変化に対してはそれほ
ど大きな効果は認められなかった。 〔課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記課題を解決すべく、基板の経時および
熱的変化の挙動を詳細に検討したところ、その変形の方
向と量とがある一定の範囲内に納まることを見出した．
そして成形後、ある一定条件で熱処理すればその変形を
短時間に起させることができ、その後の変化は極めて小
さいものである． すなわち本発明は、光ディスク用プラスチック基板にお
いて、プラスチック基板の形状の経時変化及び基板上に
成膜する際の熱応力、膜応力等による変化量を予め補正
して製造し、また、該方法により得られる基板を熱処理
することによる光ディスク用基板の製造方法、およびこ
れらの方法により得られる光ディスク用基板である。 第４図に見られるように、従来の方法により得られる基
板ｌは、その上面に情報またはグループ２が形成されて
おり、その後の経時変化により反りが発生していた．例
えば、有効外半径（Ｄ２）６ ０ｍｍ，有効内半径（Ｄ
＋）３０ｍｍ，板厚１． ２ｍｍ基板では、成形直後
は第４図（１）のようにほぼフラットであるが、この基
板に耐久試験（６０〜９０℃、６０〜９０％ＲＨ、 ５
００〜１０００時間）を行なうと、第４図（２）に示す
ような形状変化をきたす。このときの変化ＩＨ．は、約
５０〜１５０μｍであった。さらに基板上に記録膜を成
膜すると、成膜中の温度や膜自身の応力によって第４図
（３）のように変形する。その変化量Ｈ２は約１５０〜
３００μ瓜であった。本発明ではこれらの変化を予め補
正して基板を成形することにより、経時変化及び基板上
に成膜する際の熱応力、膜応力等による変化が起きるこ
とにより、基板形状がフラットになる。また、得られた
基板を加熱処理により強制的に変化を起させることによ
り、以後の処理における形状の変化はほとんど発生しな
くなる． つまり本発明では、第１図に示すようにこの補正量をＨ
とした場合、Ｈ／ （Ｄ２−Ｄ．）が０〜０．０５の範
囲で基板を製造することにより上記目的が達成される． 【実施例１ 次に本発明を実施例を挙げて説明する。 Ｘ息盟ユ 第２図の概略断面図に示す金型を用いて基板を成形した
。 同図において、４は可動側鏡面板、５はスタンパ、６は
固定側鏡面板、７は注型樹脂、８は外周スタンパ押え、
９は内周スタンバ押えである。 可動側鏡面板の曲率半径Ｒについては補正量Ｈ＝０．１
ｍｍ ， Ｄ＋ ＝３０ｍｍ， Ｄｚ ＝６０ｍｍとし
て次式により決定した． Ｈ＝ （Ｒ” −Ｄ＋”） （Ｒ” Ｄ２
”）上式を満たす曲率半径を有する鏡面板を製作し金型
に組み込み、注型樹脂としてポリカーボネート樹脂を用
いて基板の成形を行った。 得られた基板はＨ ＝ ０． ０８ｍｍで出来上がり、
これを９０℃、３時間の熱処理を行なうことによりＨは
０〜０． ０５ｍｍとなった．その後この基板に耐久試
験を行なっても形状の変化はほとんど発生しなかった． 実施例２ 第３図のような形状の基板を作製した。本実施例におい
ては曲面形状を円錐台形状とし、成形に用いる金型の鏡
面板の角度θを次式により決定して行なった。 θ＝ｔａｎ−’ Ｈ／ （Ｄｚ Ｄ＋ ）得られた基
板はＨ ＝ ０． ０８ｍｍで出来上がり、これを９０
℃、３時間の熱処理を行なうことによりＨは０〜０．
０３ｍｍとなった．その後この基板に耐久試験を行なっ
ても形状の変化はほとんど発生しなかった． （発明の効果１ 以上説明したように、成形後の変化量を予め補正して基
板を成形することにより、経時変化及び基板上に成膜す
る際の熱応力、膜応力等による変化により、基板形状が
フラットになる。また、得られた基板を加熱処理により
強制的に変化を起させることにより、以後の処理におけ
る形状の変化はほとんど発生しなくなり、その結果反り
面振れといった機械的特性が非常に安定した基板を得る
ことが可能となった．
第１図は本発明を実施したディスク基板の断面図、第２
図は本発明を実施するのに好適に用いられる金型の概略
断面図、第３図は本発明を実施したディスク基板の他の
例の断面図、第４図は従来のディスク基板の成形後の変
形挙動を示す図である． １・・・基板 ３・・・記録膜 ５・・・スタンパ ７・・・注型樹脂 ９・・・内周スタンパ押え ２・・・情報またはグループ ４・・・可動側鏡面板 ６・・・固定側鏡面板 ８・・・外周スタンパ押え
図は本発明を実施するのに好適に用いられる金型の概略
断面図、第３図は本発明を実施したディスク基板の他の
例の断面図、第４図は従来のディスク基板の成形後の変
形挙動を示す図である． １・・・基板 ３・・・記録膜 ５・・・スタンパ ７・・・注型樹脂 ９・・・内周スタンパ押え ２・・・情報またはグループ ４・・・可動側鏡面板 ６・・・固定側鏡面板 ８・・・外周スタンパ押え
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスク用プラスチック基板において、プラスチ
ック基板の形状の経時変化及び基板上に成膜する際の熱
応力、膜応力等による変化量を予め補正して製造するこ
とを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。 ２、得られる光ディスク用基板の情報記録面が凹面形状
である請求項１記載の製造方法。３、補正量をＨ、基板
の有効内半径をＤ＿１、有効外半径をＤ＿２とした場合
、Ｈ／（Ｄ＿２−Ｄ＿１）が０〜０．０５であることを
特徴とする請求項１記載の製造方法。 ４、請求項１の製造方法により得られる光ディスク基板
を熱処理することを特徴とする光ディスク用基板の製造
方法 ５、請求項１〜４のいずれかの方法で製造される光ディ
スク用基板
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152149A JP2709144B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 光ディスク用プラスチック基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152149A JP2709144B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 光ディスク用プラスチック基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0319152A true JPH0319152A (ja) | 1991-01-28 |
| JP2709144B2 JP2709144B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=15534106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152149A Expired - Fee Related JP2709144B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 光ディスク用プラスチック基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2709144B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558997U (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-03 | 株式会社ニフコ | マイクロダンパのハウジングの片留め構造 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6168744A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-09 | Canon Inc | 光学的記録媒体の製造方法 |
| JPS6427908A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-30 | Hitachi Ltd | Production of base plate for optical disc |
| JPS6482346A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Seiko Epson Corp | Production of optical recording medium |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1152149A patent/JP2709144B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6168744A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-09 | Canon Inc | 光学的記録媒体の製造方法 |
| JPS6427908A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-30 | Hitachi Ltd | Production of base plate for optical disc |
| JPS6482346A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Seiko Epson Corp | Production of optical recording medium |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558997U (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-03 | 株式会社ニフコ | マイクロダンパのハウジングの片留め構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2709144B2 (ja) | 1998-02-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071017 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081017 Year of fee payment: 11 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |