JPH0319249B2 - - Google Patents
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- JPH0319249B2 JPH0319249B2 JP59044067A JP4406784A JPH0319249B2 JP H0319249 B2 JPH0319249 B2 JP H0319249B2 JP 59044067 A JP59044067 A JP 59044067A JP 4406784 A JP4406784 A JP 4406784A JP H0319249 B2 JPH0319249 B2 JP H0319249B2
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- bis
- hydroxyphenyl
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタル
オーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適し
た素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には様
様な性能が要求されており、例えば透明性、耐熱
性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共に、
光学的な性質にすぐれていることが必要である。
このような性能を有する素材としては、従来から
メタクリル樹脂などが知られているが、このもの
は耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点で未だ充分なも
のとは言い難いという欠点がある。また、ビスフ
エノールＡ（２，２−ビス（4′−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフエニル等
と反応させて得られるポリカーボネート樹脂は、
耐熱性、耐湿性、耐衝撃性などにおいてすぐれて
いるものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも
成形加工時の流動性を示す流れ値が小さいため、
成形加工後の残留応力による成形品の歪みが大き
く、これらに基因して成形品の複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下するという難点がある。 本発明の目的は、上記従来の欠点を解消した光
学機器用素材を提供することにあり、耐熱性や機
械的強度などポリカーボネート樹脂の有するすぐ
れた特性を維持すると共に、特にポリカーボネー
ト樹脂の欠点である成形加工性を改善することに
よつて光学的性質の向上した素材を提供すること
にある。 すなわち本発明は 一般式 （式中、Ar1は
オーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適し
た素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には様
様な性能が要求されており、例えば透明性、耐熱
性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共に、
光学的な性質にすぐれていることが必要である。
このような性能を有する素材としては、従来から
メタクリル樹脂などが知られているが、このもの
は耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点で未だ充分なも
のとは言い難いという欠点がある。また、ビスフ
エノールＡ（２，２−ビス（4′−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフエニル等
と反応させて得られるポリカーボネート樹脂は、
耐熱性、耐湿性、耐衝撃性などにおいてすぐれて
いるものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも
成形加工時の流動性を示す流れ値が小さいため、
成形加工後の残留応力による成形品の歪みが大き
く、これらに基因して成形品の複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下するという難点がある。 本発明の目的は、上記従来の欠点を解消した光
学機器用素材を提供することにあり、耐熱性や機
械的強度などポリカーボネート樹脂の有するすぐ
れた特性を維持すると共に、特にポリカーボネー
ト樹脂の欠点である成形加工性を改善することに
よつて光学的性質の向上した素材を提供すること
にある。 すなわち本発明は 一般式 （式中、Ar1は
【式】
【式】
および
【式】のいずれかを
示す。）
で表わされる繰返し単位〔〕および
一般式
（式中、Ar2，Ar3は
【式】
【式】および
【式】
のいずれかを示し、ｍは１〜10、ｎは１〜５を示
す。） で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.3〜0.95であると共に、20℃における濃度0.5
ｇ／dlの塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／ｃ〕
が0.2dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用
素材を提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度は光学機器の種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.2
dl／ｇ以上、好ましくは0.4〜1.0dl／ｇの共重合
体となるように重合させるべきである。また、上
記繰返し単位〔〕のモル分率をｋ、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｌとしたとき、ｋ／ｋ＋
ｌの値が0.3〜0.95、好ましくは0.7〜0.9となるよ
うに調節する。ここでｋ／ｋ＋ｌの値が0.3未満
であると、得られる共重合体の耐熱性が低下し、
一方0.95を超えると、得られる共重合体の流動性
が低下して成形加工性が低下し、これに基因して
成形品の複屈折が大きくなるので好ましくない。 さらに、流れ値（JIS−Ｋ−6719に準拠）に関
しては、10×10-2ml／sec.以上の良流動性を有す
るものであることが好ましく、20×10-2ml／sec.
以上のものであることがより好ましい。ここで共
重合体の流れ値が10×10-2ml／sec.未満では、成
形後の歪みによる複屈折が大きくなり光学機器用
素材に適さないものとなる。 なお、前記した一般式 において、Ar2，Ar3は
す。） で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.3〜0.95であると共に、20℃における濃度0.5
ｇ／dlの塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／ｃ〕
が0.2dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用
素材を提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度は光学機器の種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.2
dl／ｇ以上、好ましくは0.4〜1.0dl／ｇの共重合
体となるように重合させるべきである。また、上
記繰返し単位〔〕のモル分率をｋ、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｌとしたとき、ｋ／ｋ＋
ｌの値が0.3〜0.95、好ましくは0.7〜0.9となるよ
うに調節する。ここでｋ／ｋ＋ｌの値が0.3未満
であると、得られる共重合体の耐熱性が低下し、
一方0.95を超えると、得られる共重合体の流動性
が低下して成形加工性が低下し、これに基因して
成形品の複屈折が大きくなるので好ましくない。 さらに、流れ値（JIS−Ｋ−6719に準拠）に関
しては、10×10-2ml／sec.以上の良流動性を有す
るものであることが好ましく、20×10-2ml／sec.
以上のものであることがより好ましい。ここで共
重合体の流れ値が10×10-2ml／sec.未満では、成
形後の歪みによる複屈折が大きくなり光学機器用
素材に適さないものとなる。 なお、前記した一般式 において、Ar2，Ar3は
【式】
【式】および
【式】のいずれかであり、
同一のものであつてもよいし、また異なつたもの
でもよい。さらに、前記した一般式 におけるAr1と同一のものであつてもよいし、ま
た異なるものであつてもよい。 また、上記の一般式においてｍは１〜10、ｎは
１〜５を示している。ここでｍ，ｎがそれぞれこ
の範囲より小さいと、得られる共重合体の成形加
工時における流動性が低下し、また、この範囲よ
り大きいと耐熱性が低下するので好ましくない。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式 で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン（ビスフエノールＡ）、 式 で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンおよび 式 で表わされる１−フエニル−１，１−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）エタン のいずれかと、 一般式 HO−Ar2（−Ｏ（−CH2）−nＯ−Ar3）−oOH
…〔〕 （式中、Ar2，Ar3，ｍ，ｎは前記と同じ。） で表わされる化合物を、ホスゲンを用いて重縮合
させて製造することができる。また、このような
ホスゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法の
他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエステル交換
法ポリカーボネートの製法に従つて行なうことも
できる。なお、この場合例えば式〔〕で表わ
されるビスフエノールＡ、式〔〕で表わされる
４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタンおよ
び式〔〕で表わされる１−フエニル−１，１−
ビス（４−ヒドロキシフエニル）エタンのいずれ
かと、一般式〔〕で表わされる化合物をモノマ
ーのまま直接混合し、ホスゲンまたは炭酸ジフエ
ニルと共に反応させてもよいし、予め式〔〕
で表わされるビスフエノールＡ、式〔〕で表わ
される４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタ
ンおよび式〔〕で表わされる１−フエニル−
１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル）エタン
のいずれかと、ホスゲンまたは炭酸ジフエニルと
を重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマー
と一般式〔〕で表わされる化合物を反応させて
もよい。また、予め式〔〕で表わされる化合
物とホスゲンまたは炭酸ジフエニルを重縮合させ
ておき、その後式〔〕で表わされるビスフエノ
ールＡ、式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロ
キシテトラフエニルメタンおよび式〔〕で表わ
される１−フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）エタンのいずれかと反応させても
よい。さらに予め、式〔〕で表わされるビス
フエノールＡ、式〔〕で表わされる４，4′−ジ
ヒドロキシテトラフエニルメタンおよび式〔〕
で表わされる１−フエニル−１，１−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）エタンのいずれかと、ホス
ゲンまたは炭酸ジフエニルとを重縮合させてオリ
ゴマーを得、このオリゴマーと一般式〔〕で表
わされる化合物とホスゲンまたは炭酸ジフエニル
を重縮合させて得られるオリゴマーとを反応させ
てもよい。 なお、上記の各場合において、オリゴマーにモ
ノマーを混合させたものをオリゴマー単独のもの
に代えて用いることもできる。 また、一般式〔〕で表わされる化合物（Ａ成
分）は、式〔〕で表わされるビスフエノール
Ａ、式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシ
テトラフエニルメタンおよび式〔〕で表わされ
る１−フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フエニル）エタンのいずれか（Ｂ成分）を、１，
６−ジブロモヘキサンや１，５−ジクロロペンタ
ンなどのジハロゲン化ポリメチレンと反応させて
得ることができるが、この反応時にＡ成分と未反
応のＢ成分との混合物としておき、この混合物を
ホスゲンまたは炭酸ジフエニルと重縮合させるこ
とにより共重合体を得ることもできる。 この重縮合の際の条件は上記一般式〔〕で表
わされる化合物の種類、所望する共重合体の重合
度などにより一義的に定めることはできないが、
通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好まし
くは塩化メチレン溶液中で、適当な触媒、アルカ
リ、分子量調節剤などを用いればよい。ここで分
子量調節剤としては様々な一価フエノールを挙げ
ることができるが、好ましいものとしては
でもよい。さらに、前記した一般式 におけるAr1と同一のものであつてもよいし、ま
た異なるものであつてもよい。 また、上記の一般式においてｍは１〜10、ｎは
１〜５を示している。ここでｍ，ｎがそれぞれこ
の範囲より小さいと、得られる共重合体の成形加
工時における流動性が低下し、また、この範囲よ
り大きいと耐熱性が低下するので好ましくない。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式 で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン（ビスフエノールＡ）、 式 で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンおよび 式 で表わされる１−フエニル−１，１−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）エタン のいずれかと、 一般式 HO−Ar2（−Ｏ（−CH2）−nＯ−Ar3）−oOH
…〔〕 （式中、Ar2，Ar3，ｍ，ｎは前記と同じ。） で表わされる化合物を、ホスゲンを用いて重縮合
させて製造することができる。また、このような
ホスゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法の
他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエステル交換
法ポリカーボネートの製法に従つて行なうことも
できる。なお、この場合例えば式〔〕で表わ
されるビスフエノールＡ、式〔〕で表わされる
４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタンおよ
び式〔〕で表わされる１−フエニル−１，１−
ビス（４−ヒドロキシフエニル）エタンのいずれ
かと、一般式〔〕で表わされる化合物をモノマ
ーのまま直接混合し、ホスゲンまたは炭酸ジフエ
ニルと共に反応させてもよいし、予め式〔〕
で表わされるビスフエノールＡ、式〔〕で表わ
される４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタ
ンおよび式〔〕で表わされる１−フエニル−
１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル）エタン
のいずれかと、ホスゲンまたは炭酸ジフエニルと
を重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマー
と一般式〔〕で表わされる化合物を反応させて
もよい。また、予め式〔〕で表わされる化合
物とホスゲンまたは炭酸ジフエニルを重縮合させ
ておき、その後式〔〕で表わされるビスフエノ
ールＡ、式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロ
キシテトラフエニルメタンおよび式〔〕で表わ
される１−フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）エタンのいずれかと反応させても
よい。さらに予め、式〔〕で表わされるビス
フエノールＡ、式〔〕で表わされる４，4′−ジ
ヒドロキシテトラフエニルメタンおよび式〔〕
で表わされる１−フエニル−１，１−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）エタンのいずれかと、ホス
ゲンまたは炭酸ジフエニルとを重縮合させてオリ
ゴマーを得、このオリゴマーと一般式〔〕で表
わされる化合物とホスゲンまたは炭酸ジフエニル
を重縮合させて得られるオリゴマーとを反応させ
てもよい。 なお、上記の各場合において、オリゴマーにモ
ノマーを混合させたものをオリゴマー単独のもの
に代えて用いることもできる。 また、一般式〔〕で表わされる化合物（Ａ成
分）は、式〔〕で表わされるビスフエノール
Ａ、式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシ
テトラフエニルメタンおよび式〔〕で表わされ
る１−フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フエニル）エタンのいずれか（Ｂ成分）を、１，
６−ジブロモヘキサンや１，５−ジクロロペンタ
ンなどのジハロゲン化ポリメチレンと反応させて
得ることができるが、この反応時にＡ成分と未反
応のＢ成分との混合物としておき、この混合物を
ホスゲンまたは炭酸ジフエニルと重縮合させるこ
とにより共重合体を得ることもできる。 この重縮合の際の条件は上記一般式〔〕で表
わされる化合物の種類、所望する共重合体の重合
度などにより一義的に定めることはできないが、
通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好まし
くは塩化メチレン溶液中で、適当な触媒、アルカ
リ、分子量調節剤などを用いればよい。ここで分
子量調節剤としては様々な一価フエノールを挙げ
ることができるが、好ましいものとしては
【式】
【式】
【式】などが挙げられる。
また、上記一般式〔〕で表わされる化合物と
しては様々なものがあるが、例えば 式 で表わされるエチレン−ジ−〔２，２−ビス（４
−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エーテル、 式 で表わされるテトラメチレン−ジ−〔２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エーテ
ル、 式 で表わされるヘキサメチレン−ジ−〔4′−ヒドロ
キシテトラフエニルメタン〕エーテル、 式 で表わされるヘキサメチレン−ジ−〔１−フエニ
ル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル）エ
タン〕エーテルなどを挙げることができる。 本発明の共重合体を構成する繰返し単位〔〕
は式〔〕で表わされるビスフエノールＡ、式
〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタンおよび式〔〕で表わされる１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタンのいずれかと、ホスゲン等との反応に
より形成され、また繰返し単位〔〕は一般式
〔〕で表わされる化合物とホスゲン等との反応
により形成される。従つて、共重合体における繰
返し単位〔〕，〔〕の所望するモル分率に応じ
て式〔〕で表わされるビスフエノールＡ、式
〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタンおよび式〔〕で表わされる１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタンのいずれかと一般式〔〕で表わされ
る化合物の使用量を適宜選定すればよく、また上
記の一般式〔〕で表わされる化合物の種類も、
所望する繰返し単位〔〕の種類により、上述し
た具体例の中あるいはそれ以外から選定すればよ
い。なお、本発明の共重合体を用いてデイスク等
を成形するにあたつては、酸化防止剤、紫外線吸
収剤などの通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる本発明の共重合体は、
成形加工時の流動性を示す流れ値が、従来のポリ
カーボネート樹脂に比べ格段に大きく、成形加工
後の残留応力が少なくて成形歪みが小さい。しか
も、本発明の共重合体は従来のポリカーボネート
樹脂に比べ光弾性定数が小さい。したがつて、本
発明の共重合体によれば光の複屈折率の小さい成
形品を得ることができる。それ故、本発明の共重
合体を各種光学機器の素材として用いれば、光学
的性質が改良されているためデイスクに記録され
た情報の読み取り感度が高く、エラーの発生の少
ない光学機器が得られる。また、熱的にも強度的
にも良好な素材であるため、これを用いて作られ
た光学機器は様々な条件下で安定して作動する。 したがつて、本発明の素材は、デジタルオーデ
イオデイスクや光メモリーデイスクなどの光学機
器用素材として有効に利用することができる。 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇ（0.29モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度６重量％）450mlに溶解し、これに溶媒とし
て塩化メチレン200mlを加えて撹拌しながら、こ
の混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分の
供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下した
時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次いで
反応液を静置分離することにより有機相に分子末
端にクロロホーメート基を有する重合度２〜３の
ポリカーボネート・オリゴマー溶液を得た。 次に、エチレン−ジ−〔２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフエニル）プロパン〕エーテル67ｇ
（0.14モル）を水酸化ナトリウム水溶液（濃度６
重量％）450mlに溶解し、これに溶媒として塩化
メチレン200mlを加えた混合液を撹拌しながら、
この混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分
の供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下し
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次い
で、反応液を静置分離することにより有機相に分
子末端にクロロホーメート基を有する重合度２〜
３のオリゴマー溶液を得た。 上記の如くして得られた２種のオリゴマー溶液
の等量混合物250mlに、エチレン−ジ−〔２，２−
ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エー
テル25.6ｇ（0.05モル）を塩化メチレン180mlに
溶解した溶液および２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフエニル）プロパン12.8ｇ（0.06モル）を水酸
化ナトリウム水溶液（濃度２規定）140mlに溶解
した溶液をそれぞれ加え、激しく撹拌しながら重
合触媒としてトリエチルアミン水溶液（濃度0.5
モル／）１mlを加えて、室温において１時間重
合反応を行なつた。重合反応終了後、反応生成物
を塩化メチレン１で希釈したのち、水、水酸化
ナトリウム水溶液（濃度0.01規定）、水、塩酸
（濃度0.01規定）、水の順で洗浄し、最後に反応生
成物をメタノール中に投入して共重合体を回収し
た（収率98％）。 得られた共重合体は、核磁気共鳴（NMR）に
よる分析の結果、ｋ／ｋ＋ｌの値は0.51であつ
た。また、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の
20℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕を測定したと
ころ0.60dl／ｇであつた。さらに、この共重合体
についてガラス転移温度ならびに共重合体の流動
性を示す流れ値（JIS−Ｋ−6719）を測定した。
また、この共重合体を280℃においてプレス成形
し、肉厚0.3mmのシートとし、波長630nmにおい
て光弾性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において製造した２，２−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）プロパンからのオリゴマー
溶液288mlに対して、テトラメチレン−ジ−〔２，
２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕
エーテル27ｇ（0.05モル）を塩化メチレン180ml
に溶解させた溶液を加え、以降の操作は実施例１
と同様にして共重合体を得た（収率97％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.88であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.55dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ３ 実施例１において製造した２，２−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）プロパンからのオリゴマー
溶液300mlに対して、 式 で表わされる二価フエノール72.8ｇ（0.09モル）
を塩化メチレン180mlに溶解させた溶液を加え、
以降の操作は実施例１と同様にして共重合体を得
た（収率93％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.83であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.43dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ４ 二価フエノールとして４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタン37ｇ（0.105モル）を水酸化
ナトリウム水溶液（濃度7.5重量％）200mlに溶解
したのち、これに１，６−ジブロモヘキサン4.5
ｇ（0.019モル）を加えて窒素気流下に１時間還
流した。ここで得られたヘキサメチレン−ジ−
〔4′−ヒドロキシテトラフエニルメタン〕エーテ
ルと未反応の４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンの混合物に、溶媒として塩化メチレン
200mlおよび重合触媒としてトリエチルアミン１
mlを加え、常温においてホスゲンガスを300ml／
分の供給割合で30分間導入し、15規定の水酸化ナ
トリウム水溶液を滴下し反応液のPHを10〜12に保
持して重合反応を行なつた。反応終了後、さらに
塩化メチレン200mlを加えて、水、水酸化ナトリ
ウム水溶液（濃度0.01規定）、水、塩酸（濃度
0.01規定）、水の順で洗浄し、最後にこの反応生
成物をメタノール中に投入して共重合体を回収し
た（収率95％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.88であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.3dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ５ 実施例４において、二価フエノールとして１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタン29.0ｇ（0.1モル）を用いたこと以外
は、実施例４と同様にして共重合体を得た（収率
92％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.92であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.30dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 比較例 １ 原料として２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパンを用い、通常のホスゲン法により
ポリカーボネートを得た。このポリカーボネート
は、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.51dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。
しては様々なものがあるが、例えば 式 で表わされるエチレン−ジ−〔２，２−ビス（４
−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エーテル、 式 で表わされるテトラメチレン−ジ−〔２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エーテ
ル、 式 で表わされるヘキサメチレン−ジ−〔4′−ヒドロ
キシテトラフエニルメタン〕エーテル、 式 で表わされるヘキサメチレン−ジ−〔１−フエニ
ル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル）エ
タン〕エーテルなどを挙げることができる。 本発明の共重合体を構成する繰返し単位〔〕
は式〔〕で表わされるビスフエノールＡ、式
〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタンおよび式〔〕で表わされる１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタンのいずれかと、ホスゲン等との反応に
より形成され、また繰返し単位〔〕は一般式
〔〕で表わされる化合物とホスゲン等との反応
により形成される。従つて、共重合体における繰
返し単位〔〕，〔〕の所望するモル分率に応じ
て式〔〕で表わされるビスフエノールＡ、式
〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタンおよび式〔〕で表わされる１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタンのいずれかと一般式〔〕で表わされ
る化合物の使用量を適宜選定すればよく、また上
記の一般式〔〕で表わされる化合物の種類も、
所望する繰返し単位〔〕の種類により、上述し
た具体例の中あるいはそれ以外から選定すればよ
い。なお、本発明の共重合体を用いてデイスク等
を成形するにあたつては、酸化防止剤、紫外線吸
収剤などの通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる本発明の共重合体は、
成形加工時の流動性を示す流れ値が、従来のポリ
カーボネート樹脂に比べ格段に大きく、成形加工
後の残留応力が少なくて成形歪みが小さい。しか
も、本発明の共重合体は従来のポリカーボネート
樹脂に比べ光弾性定数が小さい。したがつて、本
発明の共重合体によれば光の複屈折率の小さい成
形品を得ることができる。それ故、本発明の共重
合体を各種光学機器の素材として用いれば、光学
的性質が改良されているためデイスクに記録され
た情報の読み取り感度が高く、エラーの発生の少
ない光学機器が得られる。また、熱的にも強度的
にも良好な素材であるため、これを用いて作られ
た光学機器は様々な条件下で安定して作動する。 したがつて、本発明の素材は、デジタルオーデ
イオデイスクや光メモリーデイスクなどの光学機
器用素材として有効に利用することができる。 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇ（0.29モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度６重量％）450mlに溶解し、これに溶媒とし
て塩化メチレン200mlを加えて撹拌しながら、こ
の混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分の
供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下した
時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次いで
反応液を静置分離することにより有機相に分子末
端にクロロホーメート基を有する重合度２〜３の
ポリカーボネート・オリゴマー溶液を得た。 次に、エチレン−ジ−〔２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフエニル）プロパン〕エーテル67ｇ
（0.14モル）を水酸化ナトリウム水溶液（濃度６
重量％）450mlに溶解し、これに溶媒として塩化
メチレン200mlを加えた混合液を撹拌しながら、
この混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分
の供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下し
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次い
で、反応液を静置分離することにより有機相に分
子末端にクロロホーメート基を有する重合度２〜
３のオリゴマー溶液を得た。 上記の如くして得られた２種のオリゴマー溶液
の等量混合物250mlに、エチレン−ジ−〔２，２−
ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕エー
テル25.6ｇ（0.05モル）を塩化メチレン180mlに
溶解した溶液および２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフエニル）プロパン12.8ｇ（0.06モル）を水酸
化ナトリウム水溶液（濃度２規定）140mlに溶解
した溶液をそれぞれ加え、激しく撹拌しながら重
合触媒としてトリエチルアミン水溶液（濃度0.5
モル／）１mlを加えて、室温において１時間重
合反応を行なつた。重合反応終了後、反応生成物
を塩化メチレン１で希釈したのち、水、水酸化
ナトリウム水溶液（濃度0.01規定）、水、塩酸
（濃度0.01規定）、水の順で洗浄し、最後に反応生
成物をメタノール中に投入して共重合体を回収し
た（収率98％）。 得られた共重合体は、核磁気共鳴（NMR）に
よる分析の結果、ｋ／ｋ＋ｌの値は0.51であつ
た。また、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の
20℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕を測定したと
ころ0.60dl／ｇであつた。さらに、この共重合体
についてガラス転移温度ならびに共重合体の流動
性を示す流れ値（JIS−Ｋ−6719）を測定した。
また、この共重合体を280℃においてプレス成形
し、肉厚0.3mmのシートとし、波長630nmにおい
て光弾性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において製造した２，２−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）プロパンからのオリゴマー
溶液288mlに対して、テトラメチレン−ジ−〔２，
２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕
エーテル27ｇ（0.05モル）を塩化メチレン180ml
に溶解させた溶液を加え、以降の操作は実施例１
と同様にして共重合体を得た（収率97％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.88であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.55dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ３ 実施例１において製造した２，２−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）プロパンからのオリゴマー
溶液300mlに対して、 式 で表わされる二価フエノール72.8ｇ（0.09モル）
を塩化メチレン180mlに溶解させた溶液を加え、
以降の操作は実施例１と同様にして共重合体を得
た（収率93％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.83であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.43dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ４ 二価フエノールとして４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタン37ｇ（0.105モル）を水酸化
ナトリウム水溶液（濃度7.5重量％）200mlに溶解
したのち、これに１，６−ジブロモヘキサン4.5
ｇ（0.019モル）を加えて窒素気流下に１時間還
流した。ここで得られたヘキサメチレン−ジ−
〔4′−ヒドロキシテトラフエニルメタン〕エーテ
ルと未反応の４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンの混合物に、溶媒として塩化メチレン
200mlおよび重合触媒としてトリエチルアミン１
mlを加え、常温においてホスゲンガスを300ml／
分の供給割合で30分間導入し、15規定の水酸化ナ
トリウム水溶液を滴下し反応液のPHを10〜12に保
持して重合反応を行なつた。反応終了後、さらに
塩化メチレン200mlを加えて、水、水酸化ナトリ
ウム水溶液（濃度0.01規定）、水、塩酸（濃度
0.01規定）、水の順で洗浄し、最後にこの反応生
成物をメタノール中に投入して共重合体を回収し
た（収率95％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.88であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.3dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ５ 実施例４において、二価フエノールとして１−
フエニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフエニ
ル）エタン29.0ｇ（0.1モル）を用いたこと以外
は、実施例４と同様にして共重合体を得た（収率
92％）。 得られた共重合体のｋ／ｋ＋ｌの値は0.92であ
り、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕は0.30dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。 比較例 １ 原料として２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパンを用い、通常のホスゲン法により
ポリカーボネートを得た。このポリカーボネート
は、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.51dl／ｇであつ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第１表に示す。
【表】
上記の結果から、本発明の素材は比較例１のポ
リカーボネートに比し、成形加工時の流動性を示
す流れ値および光弾性定数がすぐれており、成形
品の光の複屈折を低く抑えうることが判る。
リカーボネートに比し、成形加工時の流動性を示
す流れ値および光弾性定数がすぐれており、成形
品の光の複屈折を低く抑えうることが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ar1は【式】 【式】 および【式】のいずれかを 示す。） で表わされる繰返し単位〔〕および 一般式 （式中、Ar2，Ar3は
【式】 【式】および 【式】 のいずれかを示し、ｍは１〜10、ｎは１〜５を示
す。） で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.3〜0.95であると共に、20℃における濃度0.5
ｇ／dlの塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／ｃ〕
が0.2dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用
素材。 ２ 共重合体が、10×10-2ml／sec.以上の流れ値
（JIS−Ｋ−6719）を有するものである特許請求の
範囲第１項記載の光学機器用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044067A JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044067A JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60188422A JPS60188422A (ja) | 1985-09-25 |
| JPH0319249B2 true JPH0319249B2 (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=12681280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59044067A Granted JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60188422A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993018081A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-16 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polymere polycarbonate, production de ce polymere, et photorecepteur electrophotographique realise a partir de ce polymere |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662752B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-08-17 | 三菱化成株式会社 | 光情報材料 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59044067A patent/JPS60188422A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993018081A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-16 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polymere polycarbonate, production de ce polymere, et photorecepteur electrophotographique realise a partir de ce polymere |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60188422A (ja) | 1985-09-25 |
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