JPH0645680B2 - 光学機器用素材 - Google Patents
光学機器用素材Info
- Publication number
- JPH0645680B2 JPH0645680B2 JP60109324A JP10932485A JPH0645680B2 JP H0645680 B2 JPH0645680 B2 JP H0645680B2 JP 60109324 A JP60109324 A JP 60109324A JP 10932485 A JP10932485 A JP 10932485A JP H0645680 B2 JPH0645680 B2 JP H0645680B2
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- JP
- Japan
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- group
- general formula
- repeating unit
- formula
- copolymer
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタルオーディ
オディスクや光メモリーディスクなどに適した素材に関
する。
オディスクや光メモリーディスクなどに適した素材に関
する。
一般に、上述したような光学機器用の素材には様々な性
能が要求されている。例えば、透明性，耐熱性，低透湿
性，機械的強度等に優れているとともに光学的性質に優
れていることが必要である。従来、このような性質を有
するものの一つとして、メタクリル樹脂が知られている
が、このものは耐熱性や低透湿性，耐衝撃性などの点に
おいて未だ充分なものとは言い難いという欠点がある。
能が要求されている。例えば、透明性，耐熱性，低透湿
性，機械的強度等に優れているとともに光学的性質に優
れていることが必要である。従来、このような性質を有
するものの一つとして、メタクリル樹脂が知られている
が、このものは耐熱性や低透湿性，耐衝撃性などの点に
おいて未だ充分なものとは言い難いという欠点がある。
また、ビスフェノールＡ（2,2−ビス（4′−ヒドロキシ
フェニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフェニル等と
反応させて得られるポリカーボネート樹脂が光学機器用
素材として使用しうることも知られているが、このもの
は耐熱性，低透湿性，耐衝撃性などにおいて優れている
ものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも成形加工時
の流動性も満足すべきものでない。そのため成形加工後
の残留歪による成形品の歪みが大きくなり、これらに基
因して成形品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録さ
れた情報の読み取り感度が低下するという難点がある。
このように、未だ光学機器用素材として充分に満足すべ
きものは得られていない。
フェニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフェニル等と
反応させて得られるポリカーボネート樹脂が光学機器用
素材として使用しうることも知られているが、このもの
は耐熱性，低透湿性，耐衝撃性などにおいて優れている
ものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも成形加工時
の流動性も満足すべきものでない。そのため成形加工後
の残留歪による成形品の歪みが大きくなり、これらに基
因して成形品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録さ
れた情報の読み取り感度が低下するという難点がある。
このように、未だ光学機器用素材として充分に満足すべ
きものは得られていない。
そこで本発明者らは耐熱性，機械的強度などポリカーボ
ネート樹脂の有する優れた特性を維持するとともに、特
にポリカーボネート樹脂の欠点である流動性，光弾性係
数などを改善することによって、光学的性質の向上した
素材を開発するために鋭意研究を重ねた。
ネート樹脂の有する優れた特性を維持するとともに、特
にポリカーボネート樹脂の欠点である流動性，光弾性係
数などを改善することによって、光学的性質の向上した
素材を開発するために鋭意研究を重ねた。
その結果、特定の共重合体が上記目的を達成しうるもの
であることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完
成した。
であることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完
成した。
すなわち本発明は、 一般式 〔式中、Ｒ1はアルキレン基を示す。〕 あるいは一般式 〔式中、Ｒ2はポリオキシアルキレン基を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔Ｉ〕および 一般式 〔式中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ炭素数１〜５のアルキ
ル基，アリール基あるいはアラルキル基を示し、Ｒ5お
よびＲ6はそれぞれ水素原子，炭素数１〜４のアルキル
基あるいはハロゲン原子を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔II〕を有し、かつ前記繰返し
単位〔Ｉ〕のモル分率が１〜５０％であるとともに、塩
化メチレンを溶媒とする0.５ｇ／ｄ濃度の溶液の２０
℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.３〜1.０ｄ／ｇ
の共重合体からなる光学機器用素材を提供するものであ
る。
ル基，アリール基あるいはアラルキル基を示し、Ｒ5お
よびＲ6はそれぞれ水素原子，炭素数１〜４のアルキル
基あるいはハロゲン原子を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔II〕を有し、かつ前記繰返し
単位〔Ｉ〕のモル分率が１〜５０％であるとともに、塩
化メチレンを溶媒とする0.５ｇ／ｄ濃度の溶液の２０
℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.３〜1.０ｄ／ｇ
の共重合体からなる光学機器用素材を提供するものであ
る。
上記繰返し単位〔Ｉ〕および〔II〕を有する共重合体の
重合度は光学機器の種類に応じて適宜定めればよいが、
塩化メチレンを溶媒とする0.５ｇ／ｄ濃度の溶液の２
０℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.３〜1.０ｄ／
ｇ、好ましくは0.３５〜0.５０ｄ／ｇの共重合体とな
るように重合させるべきである。ここで、還元粘度が0.
３ｄ／ｇ未満であると、共重合体が機械的強度の低い
ものとなり、1.０ｄ／ｇを超えると流動性が低下し、
残留歪が大きく光学的性質の低いものとなる。
重合度は光学機器の種類に応じて適宜定めればよいが、
塩化メチレンを溶媒とする0.５ｇ／ｄ濃度の溶液の２
０℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.３〜1.０ｄ／
ｇ、好ましくは0.３５〜0.５０ｄ／ｇの共重合体とな
るように重合させるべきである。ここで、還元粘度が0.
３ｄ／ｇ未満であると、共重合体が機械的強度の低い
ものとなり、1.０ｄ／ｇを超えると流動性が低下し、
残留歪が大きく光学的性質の低いものとなる。
また、共重合体中の繰返し単位〔Ｉ〕のモル分率は、１
〜５０％、好ましくは５〜３０％とすべきである。この
値が１％未満では、成形加工時の流動性が低く残留応力
が大きくなり、複屈折が充分に低くならない。また、５
０％を超えると耐熱性が低下するため好ましくない。
〜５０％、好ましくは５〜３０％とすべきである。この
値が１％未満では、成形加工時の流動性が低く残留応力
が大きくなり、複屈折が充分に低くならない。また、５
０％を超えると耐熱性が低下するため好ましくない。
前記一般式 で表わされる繰返し単位〔Ｉ〕において、Ｒ1は前述し
たようにアルキレン基である。ここでアルキレン基とし
ては様々なものがあるが、好ましくは炭素数２〜１５の
アルキレン基、具体的にはエチレン基，トリメチレン
基，テトラメチレン基，ペンタメチレン基などのポリメ
チレン基をはじめ、プロピレン基，ブチレン基などをあ
げることができる。
たようにアルキレン基である。ここでアルキレン基とし
ては様々なものがあるが、好ましくは炭素数２〜１５の
アルキレン基、具体的にはエチレン基，トリメチレン
基，テトラメチレン基，ペンタメチレン基などのポリメ
チレン基をはじめ、プロピレン基，ブチレン基などをあ
げることができる。
また一般式 で表わされる繰返し単位〔Ｉ〕において、Ｒ2はポリオ
キシアルキレン基であるが、このポリオキシアルキレン
基としては、炭素数２〜１５のオキシアルキレン、具体
的にはオキシエチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2−），オキシ
トリメチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−），オキシテ
トラメチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−）などオ
キシアルキレン基の単位が２〜２０個程度重合したも
の、例えばポリ（オキシエチレン）基，ポリ（オキシト
リメチレン）基，ポリ（オキシテトラメチレン）基など
があげられる。
キシアルキレン基であるが、このポリオキシアルキレン
基としては、炭素数２〜１５のオキシアルキレン、具体
的にはオキシエチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2−），オキシ
トリメチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−），オキシテ
トラメチレン基（−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−）などオ
キシアルキレン基の単位が２〜２０個程度重合したも
の、例えばポリ（オキシエチレン）基，ポリ（オキシト
リメチレン）基，ポリ（オキシテトラメチレン）基など
があげられる。
従って、繰返し単位〔Ｉ〕を具体的に示せば、 〔式中、ｎは２〜２０を示す。〕などを列挙することが
できる。
できる。
一方、繰返し単位〔II〕を示す前記一般式 において、Ｒ3〜Ｒ6は前述したとおりである。つまり、
Ｒ3，Ｒ4はそれぞれメチル基，エチル基，プロピル基等
のアルキル基，フェニル基，トリル基等のアリール基あ
るいはベンジル基，フェニルエチル基等のアラルキル基
を示す。また、Ｒ5，Ｒ6はそれぞれ水素原子あるいはメ
チル基，エチル基，プロピル基，ブチル基さらには塩素
原子，臭素原子等を示す。
Ｒ3，Ｒ4はそれぞれメチル基，エチル基，プロピル基等
のアルキル基，フェニル基，トリル基等のアリール基あ
るいはベンジル基，フェニルエチル基等のアラルキル基
を示す。また、Ｒ5，Ｒ6はそれぞれ水素原子あるいはメ
チル基，エチル基，プロピル基，ブチル基さらには塩素
原子，臭素原子等を示す。
本発明における共重合体は、上記繰返し単位〔Ｉ〕と
〔II〕を有するものであり、これらのランダム共重合
体，ブロック共重合体，交互共重合体など様々なものが
ある。
〔II〕を有するものであり、これらのランダム共重合
体，ブロック共重合体，交互共重合体など様々なものが
ある。
上述の共重合体は様々な方法により製造することができ
るが、例えば 一般式 〔式中、Ｒ3〜Ｒ6は前記と同じ〕 で表わされるビスフェノール化合物と、 一般式 ＨＯ−Ｒ1−ＯＨ…（Ｂ） 〔式中、Ｒ1は前記と同じ〕で表わされる脂肪族鎖含有
化合物、具体的にはエチレングリコール，トリメチレン
グリコール（1,3−プロパンジオール），テトラメチレ
ングリコール（1,4−ブタンジオール）、あるいは 一般式 Ｈ−Ｒ2−ＯＨ…（Ｃ） 〔式中、Ｒ2は前記と同じ〕 で表わされる脂肪族鎖含有化合物、具体的にはポリエチ
レングリコール，ポリプロピレングリコールなどをホス
ゲンを用いて重縮合させて製造することができる。ま
た、このようなホスゲン法ポリカーボネートの製法に従
う方法のほかに、炭酸ジフェニルなどを用いるエステル
交換法ポリカーボネートの製法に従って行なうこともで
きる。なお、この場合、一般式（Ａ）で表わされるビス
フェノール化合物および一般式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で
表わされる脂肪族鎖含有化合物をモノマーのまま直接混
合し、ホスゲンまたは炭酸ジフェニル等の炭酸エステル
形成性化合物と共に反応させてもよいし、予め一般式
（Ａ）で表わされるビスフェノール化合物とホスゲン等
を重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマーと一般
式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合
物とを反応させてもよい。そのほか、予め一般式（Ｂ）
あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合物とホス
ゲン等を重縮合させてオリゴマーとし、これと一般式
（Ａ）で表わされるビスフェノール化合物を反応させる
こともできる。さらに、ビスフェノール化合物と脂肪族
鎖含有化合物を別々にホスゲン等を反応させてそれぞれ
のオリゴマーを製造し、このオリゴマー同士を反応させ
てもよい。
るが、例えば 一般式 〔式中、Ｒ3〜Ｒ6は前記と同じ〕 で表わされるビスフェノール化合物と、 一般式 ＨＯ−Ｒ1−ＯＨ…（Ｂ） 〔式中、Ｒ1は前記と同じ〕で表わされる脂肪族鎖含有
化合物、具体的にはエチレングリコール，トリメチレン
グリコール（1,3−プロパンジオール），テトラメチレ
ングリコール（1,4−ブタンジオール）、あるいは 一般式 Ｈ−Ｒ2−ＯＨ…（Ｃ） 〔式中、Ｒ2は前記と同じ〕 で表わされる脂肪族鎖含有化合物、具体的にはポリエチ
レングリコール，ポリプロピレングリコールなどをホス
ゲンを用いて重縮合させて製造することができる。ま
た、このようなホスゲン法ポリカーボネートの製法に従
う方法のほかに、炭酸ジフェニルなどを用いるエステル
交換法ポリカーボネートの製法に従って行なうこともで
きる。なお、この場合、一般式（Ａ）で表わされるビス
フェノール化合物および一般式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で
表わされる脂肪族鎖含有化合物をモノマーのまま直接混
合し、ホスゲンまたは炭酸ジフェニル等の炭酸エステル
形成性化合物と共に反応させてもよいし、予め一般式
（Ａ）で表わされるビスフェノール化合物とホスゲン等
を重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマーと一般
式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合
物とを反応させてもよい。そのほか、予め一般式（Ｂ）
あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合物とホス
ゲン等を重縮合させてオリゴマーとし、これと一般式
（Ａ）で表わされるビスフェノール化合物を反応させる
こともできる。さらに、ビスフェノール化合物と脂肪族
鎖含有化合物を別々にホスゲン等を反応させてそれぞれ
のオリゴマーを製造し、このオリゴマー同士を反応させ
てもよい。
また、上記いずれの場合においても、オリゴマーにモノ
マーを混合させたものを、それぞれ単独のものに代えて
用いることができる。
マーを混合させたものを、それぞれ単独のものに代えて
用いることができる。
この重縮合の際の条件は、用いる原料の種類，所望する
共重合体の重合度などにより一義的に定めることはでき
ないが、通常は塩化メチレン，クロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好ましくは
塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカリ，分子量
調節剤などを用いればよい。ここで分子量調節剤として
は様々な一価フェノールをあげることができるが、好ま
しいものとしては、フェノール，ターシャリーブチルフ
ェノール，フェニルフェノール，クミルフェノールなど
があげられる。
共重合体の重合度などにより一義的に定めることはでき
ないが、通常は塩化メチレン，クロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好ましくは
塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカリ，分子量
調節剤などを用いればよい。ここで分子量調節剤として
は様々な一価フェノールをあげることができるが、好ま
しいものとしては、フェノール，ターシャリーブチルフ
ェノール，フェニルフェノール，クミルフェノールなど
があげられる。
本発明の共重合体を構成する繰返し単位〔Ｉ〕は、一般
式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合
物とホスゲン等の反応によって形成され、また繰返し単
位〔II〕は、一般式（Ａ）で表わされるビスフェノール
化合物とホスゲン等との反応によって形成される。従っ
て、共重合体における繰返し単位〔Ｉ〕，〔II〕の所望
するモル分率に応じて一般式（Ａ）で表わされるビスフ
ェノール化合物や一般式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わさ
れる脂肪族鎖含有化合物の使用量を適宜選定すればよ
い。なお、本発明の共重合体を用いてディスク等を形成
するにあたっては、酸化防止剤，紫外線吸収剤などの通
常の添加剤を配合してもよい。
式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わされる脂肪族鎖含有化合
物とホスゲン等の反応によって形成され、また繰返し単
位〔II〕は、一般式（Ａ）で表わされるビスフェノール
化合物とホスゲン等との反応によって形成される。従っ
て、共重合体における繰返し単位〔Ｉ〕，〔II〕の所望
するモル分率に応じて一般式（Ａ）で表わされるビスフ
ェノール化合物や一般式（Ｂ）あるいは（Ｃ）で表わさ
れる脂肪族鎖含有化合物の使用量を適宜選定すればよ
い。なお、本発明の共重合体を用いてディスク等を形成
するにあたっては、酸化防止剤，紫外線吸収剤などの通
常の添加剤を配合してもよい。
このようにして得られる本発明の共重合体は、従来のポ
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
成形性が良好であって成形歪が少ないため複屈折が小さ
く光学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、耐
熱性，機械的強度にもすぐれたものである。したがっ
て、本発明の共重合体を各種光学機器の素材として用い
れば、光学的性質が改良されているため、ディスクに記
録された情報の読取り感度が高く、エラーの発生の少な
い、つまり記録情報の再生の忠実度の高いすぐれた光学
機器が得られる。また、熱的にも機械的強度においても
良好な素材であるため、これを用いて作られた光学機器
は様々な条件下で安定して作動する。
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
成形性が良好であって成形歪が少ないため複屈折が小さ
く光学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、耐
熱性，機械的強度にもすぐれたものである。したがっ
て、本発明の共重合体を各種光学機器の素材として用い
れば、光学的性質が改良されているため、ディスクに記
録された情報の読取り感度が高く、エラーの発生の少な
い、つまり記録情報の再生の忠実度の高いすぐれた光学
機器が得られる。また、熱的にも機械的強度においても
良好な素材であるため、これを用いて作られた光学機器
は様々な条件下で安定して作動する。
それ故、本発明の素材（共重合体）はデジタルオーディ
オディスクや光メモリーディスクなどの光学機器用素材
として有効に利用することができる。
オディスクや光メモリーディスクなどの光学機器用素材
として有効に利用することができる。
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例１ 2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン６７ｇ
を濃度６％の水酸化ナトリウム水溶液４５０ｍに溶解
した溶液と塩化メチレン２００ｍとの混合液を激しく
攪拌しながら１５℃にてホスゲンガスを８００ｍ／分
間の割合で吹き込み、反応系のｐＨが９に低下した時点
でホスゲンガスの供給を停止し、静置分離し、有機層に
クロロホーメート基末端を有する重合度２〜３のポリカ
ーボネートオリゴマーを得た。
を濃度６％の水酸化ナトリウム水溶液４５０ｍに溶解
した溶液と塩化メチレン２００ｍとの混合液を激しく
攪拌しながら１５℃にてホスゲンガスを８００ｍ／分
間の割合で吹き込み、反応系のｐＨが９に低下した時点
でホスゲンガスの供給を停止し、静置分離し、有機層に
クロロホーメート基末端を有する重合度２〜３のポリカ
ーボネートオリゴマーを得た。
次に上記ポリカーボネートオリゴマーを無水硫酸ナトリ
ウムで脱水したのち、このポリカーボネートオリゴマー
の塩化メチレン溶液６０ｍをさらに塩化メチレンで希
釈して全体を１５０ｍとした。これに分子量調節剤と
してパラターシャリ−ブチルフェノールを0.２ｇ加え、
1,4−ブタンジオール2.０ｇをピリジン１５ｍに溶解
した溶液を滴下し、攪拌下に１時間反応させた。つい
で、得られた反応生成物に塩化メチレン１００ｍを加
え、塩酸と水でそれぞれ洗浄し、有機層を分離してメタ
ノール２中に投入し、白色のポリカーボネート共重合
体を得た。
ウムで脱水したのち、このポリカーボネートオリゴマー
の塩化メチレン溶液６０ｍをさらに塩化メチレンで希
釈して全体を１５０ｍとした。これに分子量調節剤と
してパラターシャリ−ブチルフェノールを0.２ｇ加え、
1,4−ブタンジオール2.０ｇをピリジン１５ｍに溶解
した溶液を滴下し、攪拌下に１時間反応させた。つい
で、得られた反応生成物に塩化メチレン１００ｍを加
え、塩酸と水でそれぞれ洗浄し、有機層を分離してメタ
ノール２中に投入し、白色のポリカーボネート共重合
体を得た。
得られた共重合体は、塩化メチレンを溶媒とする0.５ｇ
／ｄ濃度の溶液の２０℃における還元粘度〔ηsp／
ｃ〕が0.３９ｄ／ｇであり、また核磁気共鳴スペクト
ルによる測定から繰返し単位〔Ｉ〕の含有割合が２２モ
ル％であった。さらに、ガラス転移温度，２８０℃にお
ける荷重２１６０ｇでのメルトインデックス値，光弾性
係数を測定した。結果を第１表に示す。
／ｄ濃度の溶液の２０℃における還元粘度〔ηsp／
ｃ〕が0.３９ｄ／ｇであり、また核磁気共鳴スペクト
ルによる測定から繰返し単位〔Ｉ〕の含有割合が２２モ
ル％であった。さらに、ガラス転移温度，２８０℃にお
ける荷重２１６０ｇでのメルトインデックス値，光弾性
係数を測定した。結果を第１表に示す。
実施例２ 実施例１のポリカーボネートオリゴマーの製造工程にお
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、1,1−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン６０ｇを用い、かつ1,4−ブタンジオー
ルに代えて分子量約６００のポリエチレングリコール１
2.０ｇを用いたほかは実施例１と同様に行なった。結果
を第１表に示す。
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、1,1−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン６０ｇを用い、かつ1,4−ブタンジオー
ルに代えて分子量約６００のポリエチレングリコール１
2.０ｇを用いたほかは実施例１と同様に行なった。結果
を第１表に示す。
実施例３ 実施例１のポリカーボネートオリゴマーの製造工程にお
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、2,2ビス（3′−sec−ブチル−4′−ヒドロキシ
フェニル）ピロパン６５ｇを用い、かつ1,4−ブタンジ
オールの使用量を1.０ｇとしたほかは実施例１と同様に
行なった。結果を第１表に示す。
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、2,2ビス（3′−sec−ブチル−4′−ヒドロキシ
フェニル）ピロパン６５ｇを用い、かつ1,4−ブタンジ
オールの使用量を1.０ｇとしたほかは実施例１と同様に
行なった。結果を第１表に示す。
実施例４ 実施例１のポリカーボネートオリゴマーの製造工程にお
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、2,2−ビス（3′−メチル−4′−ヒドロキシフ
ェニル）−４−メチルペンタン６５ｇを用い、1,4−ブ
タンジオールの使用量を1.０ｇとしたほかは実施例１と
同様に行なった。結果を第１表に示す。
いて、2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパン
に代え、2,2−ビス（3′−メチル−4′−ヒドロキシフ
ェニル）−４−メチルペンタン６５ｇを用い、1,4−ブ
タンジオールの使用量を1.０ｇとしたほかは実施例１と
同様に行なった。結果を第１表に示す。
比較例１ 2,2−ビス（4′−ヒドロキシフェニル）プロパンを原料
とする市販のポリカーボネートについて実施例１と同様
に性質を測定した。結果を第１表に示す。
とする市販のポリカーボネートについて実施例１と同様
に性質を測定した。結果を第１表に示す。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 〔式中、Ｒ1はアルキレン基を示す。〕 あるいは一般式 〔式中、Ｒ2はポリオキシアルキレン基を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔Ｉ〕および 一般式 〔式中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ炭素数１〜５のアルキ
ル基，アリール基あるいはアラルキル基を示し、Ｒ5お
よびＲ6はそれぞれ水素原子，炭素数１〜４のアルキル
基あるいはハロゲン原子を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔II〕を有し、かつ前記繰返し
単位〔Ｉ〕のモル分率が１〜５０％であるとともに、塩
化メチレンを溶媒とする0.５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０
℃における還元粘度〔ηsp／ｃ〕が0.３〜1.０ｄｌ／ｇ
の共重合体からなる光学機器用素材。 - 【請求項２】繰返し単位〔Ｉ〕を表わす一般式における
Ｒ1が、炭素数２〜１５のアルキレン基である特許請求
の範囲第１項記載の光学機器用素材。 - 【請求項３】繰返し単位〔Ｉ〕を表わす一般式における
Ｒ2が、炭素数２〜１５のオキシアルキレン単位が２〜
２０個重合したものである特許請求の範囲第１項記載の
光学機器用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109324A JPH0645680B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光学機器用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109324A JPH0645680B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光学機器用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61268725A JPS61268725A (ja) | 1986-11-28 |
| JPH0645680B2 true JPH0645680B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=14507339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60109324A Expired - Lifetime JPH0645680B2 (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 光学機器用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645680B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6392642A (ja) * | 1986-10-07 | 1988-04-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学部品用ポリカ−ボネ−ト樹脂 |
| JPH07149888A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-13 | Teijin Ltd | 共重合ポリカーボネートの製造方法 |
| KR20010032512A (ko) * | 1998-09-28 | 2001-04-25 | 가즈토 도미나가 | 폴리카보네이트 공중합체 및 그의 제조방법 |
| JP2011084669A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Kao Corp | ポリエーテルポリカーボネート含有組成物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060130A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-04-06 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | ポリエーテル‐ポリカーボネートおよびその膜 |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP60109324A patent/JPH0645680B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61268725A (ja) | 1986-11-28 |
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