JPH0319309B2 - - Google Patents
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明はニツケル、コバルト、鉄あるいはこれ
らの合金の均一電着性に優れためつき被膜を与え
ることができる電気めつき液に関する。 従来の技術及び発明が解決しようとする問題点 従来、ニツケル及びニツケル合金電気めつき液
として、ワツト浴、ワイズベルグ浴、高硫酸ニツ
ケル浴、高塩化物浴、スルフアミン酸ニツケル浴
などが知られているが、これらの浴はいずれも均
一電着性の点で問題があり、低電流密度部分の膜
厚不足による耐食性、光沢・レベリングの低下、
逆に低電流密度部分の膜厚を確保するために生じ
るめつき時間の増大や高電流密度部分への過剰電
析によるめつき製品の寸法精度の低下、めつき金
属の無駄な消費などの問題が起こる。特に最近に
おいては、プリント基板のエツチングレジスト用
めつき、端子めつき、IC、LSIの配線、リードフ
レーム等への金めつき下地などにニツケルメツキ
やニツケル−コバルト合金めつきが広く使用され
ているが、これらのめつきに用いる場合は、上述
したように均一電着性に劣り、低電流密度部分の
被覆力が乏しいので、ボンデイング、半田付け不
良、耐食性不良が生じたり、これを防止するため
低電流密度部分のめつき厚さを厚くすると、高電
流密度部分のめつき厚さが増大し、応力が上昇し
て密着不良が生じるなどの欠点があり、IC、LSI
等の製造上大きな問題となつていた。更に、プラ
スチツクや亜鉛ダイキヤスト製品にめつきした
り、EMI（電磁波障害）防止用パツケージにめつ
きしたりする場合は、これら製品は複雑な形状の
ものが多いので、低電流密度部分の光沢不良、
EMI防止能の低下などの問題があつた。 この場合、めつき厚さを均一にするには化学め
つき法を採用することが考えられるが、化学めつ
き法はめつき速度が遅い上、金属イオンの還元剤
を必要とすることからめつきコストが増大し、ま
た現在化学めつき可能な金属、合金の種類が限ら
れ、しかも通常は金属イオンが錯化されているの
で排水処理に手間を要するなどの問題がある。 従つて、従来よりニツケル、コバルト、鉄、こ
れらの合金電気めつき液として均一電着性に優れ
たものが望まれていた。 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、均一
電着性が優れたニツケル、コバルト、鉄又はこれ
らの合金めつき被膜が得られる電気めつき液を提
供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 即ち、本発明者は、ニツケル、ニツケル合金等
のめつき被膜の均一電着性を改良することにつき
鋭意研究を重ねた結果、ニツケル、コバルト及び
鉄から選ばれる金属の水溶性塩をめつきすべき金
属のイオン源としためつき液中にアルカリ金属、
アルカリ土類金属及びアルミニウムから選ばれる
金属の水溶性硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少な
くとも１種を150ｇ／以上、より好ましくは200
ｇ／以上の高濃度で含有させ、かつ、緩衝剤と
してホウ酸を添加した場合、均一電着性が著しく
増大することを知見した。この場合、例えば、ワ
ツト浴はNiSO4・6H2Oを300ｇ／程度含有し、
通常のスルフアミン酸ニツケル浴はスルフアミン
酸ニツケルを300ｇ／以上含有し、また、従来
より高塩化ニツケル浴としてNiCl2・6H2Oを300
ｇ／含有するめつき液は知られているが、これ
らは上述したように均一電着性に劣る。ところ
が、硫酸イオン、ハロゲンイオン又はスルフアミ
ン酸イオンをNi，Co，Fe等の硫酸塩、ハロゲン
化物として与えるのではなく、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、或いはアルミニウムの硫酸塩、
ハロゲン化物又はスルフアミン酸塩として高濃度
で与え、かつ緩衝剤としてホウ酸を添加する場合
は、均一電着性が顕著に増大することを見出し、
更に硫酸や塩酸を添加した場合はより均一電着性
が増大すること、また、アミンボラン化合物、ヒ
ドラジン化合物、亜リン酸、次亜リン酸又はこれ
らの塩を添加すると高硬度のめつき被膜が得られ
るなどの特長が付与されることを知見し、本発明
をなすに至つたものである。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 本発明に係るメツキ液は、ニツケル、コバルト
及び鉄から選ばれる金属の水溶性塩を含有すると
共に、導電性塩としてアルカリ金属、アルカリ土
類金属及びアルミニウムから選ばれる金属の水溶
性硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少なくとも１種
を150〜800ｇ／含有しているものである。 ここで、上記水溶性金属塩としてはNi，Fe，
Coの水溶性塩であれば特に制限はなく、例えば、
Ni，Fe，Coの硫酸塩、スルフアミン酸塩、ハロ
ゲン化物等、具体的には硫酸ニツケル、硫酸第１
鉄、硫酸コバルト、臭化ニツケル、塩化ニツケ
ル、塩化第１鉄、塩化コバルト、スルフアミン酸
ニツケル、スルフアミン酸第１鉄、スルフアミン
酸コバルトなどが挙げられ、これらの金属塩は10
〜400ｇ／、特に10〜200ｇ／、より好適には
10〜100ｇ／の濃度で使用することができる。
この場合、これら金属塩の濃度が低くても本発明
によればこげが生じがたく、しかも均一電着性の
向上を計ることができる。合金めつき被膜を得る
場合には、上記水溶性金属塩の２種以上、あるい
は上記水溶性金属塩を主成分とし、これにタング
ステン酸及びその塩、モリブデン酸及びその塩、
硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの亜鉛金属塩、硫酸銅、
塩化銅などの銅金属塩、硫酸錫、塩化錫などの錫
金属塩など、Ni，Fe，Coと合金化すべき所望の
金属の水溶性塩を選択して使用することができ
る。また、これら合金化すべき金属塩の濃度は合
金組成において適宜選定されるが、通常１〜100
ｇ／、特に１〜50ｇ／の範囲とすることがで
きる。 本発明においては、上記水溶性金属塩をめつき
すべき金属のイオン源とするめつき液中に導電性
塩としてアルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
ミニウムから選ばれる金属の硫酸塩及びスルフア
ミン酸塩の１種又は２種以上添加する。具体的に
は硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウ
ム、硫酸アルミニウム、スルフアミン酸ナトリウ
ム、スルフアミン酸カリウムなどが例示される。 これらの導電性塩の使用量は150〜800ｇ／と
することが必要であり、これら導電性塩を150
ｇ／以上の高濃度で使用することにより高均一
電着性が達成される。これに対し、その配合量が
150ｇ／より少ない場合は均一電着性の向上に
対する効果が乏しく、本発明の目的を達成し得な
い。なお、前記導電性塩のより好ましい使用量は
200〜500ｇ／である。 本発明のめつき液には、上記成分に加えて更に
緩衝剤としてホウ酸を添加するものであり、その
添加量は緩衝剤として有効に作用する量であれば
よく、特に制限されないが、20〜60ｇ／とし、
また、前記Ni，Fe，Coイオンと緩衝剤としての
ホウ酸との比率は重量比として１：１〜１：５と
することが均一電着性をより高める点から好まし
い。 また、本発明のめつき液にはハロゲンイオンを
陽極の溶解のために加えることが望ましい。その
添加量は、ハロゲン化塩として５〜100ｇ／で
あることが望ましい。ハロゲン化塩は、例えば塩
化ニツケル、塩化鉄、塩化コバルト、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、臭化ニツケル、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム等であることが望ましい。 更に本発明のめつき液には、塩酸又は硫酸を添
加することができ、これにより均一電着性を改良
することができる。その使用量は0.1〜30ｇ／、
特に１〜３ｇ／とすることが好ましい。なおこ
の場合、前記Ni，Fe，Coの水溶性塩の濃度を10
〜100ｇ／の低濃度とすることが高均一電着性
のめつき被膜を得ることから好ましい。 本発明のめつき液には、次亜リン酸、亜リン
酸、及びこれらの塩やアミンボラン化合物、ヒド
ラジン化合物を１〜100ｇ／程度添加すること
ができ、これによりリン含有又はホウ素含有めつ
き被膜を得ることができる。このようなリン又は
ホウ素含有めつき被膜は、マイクロビツカース硬
度Hv500〜800の硬質被膜となり、化学ニツケル
めつき被膜と同様に加熱処理により更に高硬度の
被膜を得ることができる。また、ホウ素含有合金
めつき被膜は、優れた半田付け性、ボンデイング
性、耐熱性、耐摩耗性を発揮するようになる。 なおまた、本発明の電気めつき液には、光沢
剤、レベリング剤などの添加剤として通常用いら
れる添加剤、例えばサツカリン、ナフタレンジス
ルホン酸ナトリウム、ナフタレントリスルホン酸
ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、プロ
パギルスルホン酸ナトリウム、ブチンジオール、
プロパギルアルコール、クマリン、ホルマリンな
どを適量添加することができる。 本発明のめつき液のPHは１〜12、特に１〜10が
好適であり、酸性浴、中性浴、アルカリ性浴のい
ずれであつてもよいが、とりわけ酸性めつきにお
いて本発明の効果を有効に発揮する。 本発明のめつき液を用いてめつきする場合のめ
つき条件は公知のNi，Fe，Coあるいはこれらの
合金めつきと同様の条件を採用し得、例えばめつ
き温度は10〜70℃、陰極電流密度0.01〜50A／ｄ
m2の条件が採用され得る。また、必要に応じ、空
気撹拌、カソードロツキング、ポンプ等による液
循環、プロペラ撹拌などの方法で撹拌を行なうこ
とができる。アノードはそのめつき液の種類に応
じ選定され、例えば電気ニツケル、硫黄含有ニツ
ケル、カーボナイズドニツケル、鉄、コバルト、
合金アノード等の可溶性陽極が用いられ、また場
合によつては白金、カーボン等の不溶性陽極を使
用することもできる。 なお、本発明のめつき液を用いてめつきする場
合、電流効率は60〜100％になるようにすること
が高均一電着性を達成し、低電流密度部分のめつ
き膜厚を厚くし得る点から好ましい。 本発明のめつき液を用いてめつきする製品の材
質に制限はなく、電気めつき可能な材質であれば
いずれのものもめつきし得、例えば金属や導電化
されたプラスチツク、セラミツク等がめつきされ
る。これらは公知の前処理を施し、所望の下地め
つきを施した後、本発明のめつき液を用いてめつ
きすることができ、また本発明のめつき液による
めつき後、その上にクロムめつき、金めつき、そ
の他所望のめつきを施すなどの公知の後処理を施
すことができる。 発明の効果 本発明に係る電気めつき液は、ニツケル、コバ
ルト及び鉄から選ばれる金属の水溶性塩を含有
し、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びアルミ
ニウムから選ばれる金属の水溶性ハロゲン化物、
硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少なくとも１種を
150〜800ｇ／を含有し、更に緩衝剤としてホウ
酸を含有したことにより、均一電着性に優れ、高
電流密度部分と低電流密度部分との膜厚差の少な
いめつき被膜が得られる。このため、本発明めつ
き液は、電子部品（プリント基板のエツチングレ
ジスト用めつき、端子めつき、IC、LSIの配線、
リードフレーム等）、金型、プリント配線基板、
摺動部品、電鋳品へのめつき、バレルめつきや複
雑な形状を有するプラスチツク、電磁波障害防止
用パツケージ、多孔性素材への金属被膜、アルマ
イト染色めつきなどに好適に用いられる。 以下に実施例を示して本発明を具体的に説明す
るが、本発明の範囲はこれに限定されるものでは
ない。 実施例 １ NiCl24・6H2O 50ｇ／ Na2SO4 300 〃 H3BO3 45 〃 PH 4.0 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、ワツト浴から得られるめつき
によく似た外観を有するNiめつき被膜が得られ
た。 実施例 ２ 実施例１の電気めつき液にサツカリンナトリウ
ム１ｇ／とブチンジオール0.1ｇ／とを添加
した電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極電流
密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつきを行
なつたところ、黒みのある光沢状の柔軟性のある
Niめつき被膜が得られた。 実施例 ３ NiBr2 70ｇ／ K2SO4 150 〃 H3BC3 45 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、黒みのある無光沢の低応力で
柔軟性のあるNiめつき被膜が得られた。 実施例 ４ 実施例１の電気めつき液にジメチルアミンボラ
ン１ｇ／を添加した電気めつき液を用いて、温
度55℃、陰極電流密度2A／ｄm2において空気撹
拌下でめつきを行なつたところ、完全光沢のNi
−Ｂめつき被膜が得られた。 実施例 ５ 実施例１の電気めつき液に亜リン酸50ｇ／と
濃硫酸1.5ml／とを加えてPHを２に調整した電
気めつき液を用いて、温度55℃、陰極電流密度
2A／ｄm2において空気撹拌下でめつきを行なつ
たところ、完全光沢のNi−Ｐ合金めつきが得ら
れた。 実施例 ６ CoSO4・7H2O 50ｇ／ Na2SO4 250 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、無光沢で柔軟性のあるCoめ
つきが得られた。 実施例 ７ FeSO4・7H2O 60ｇ／ K2SO4 240 〃 H3BO3 40 〃 PH 3.5 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、無光沢で柔軟性のあるFeめ
つきが得られた。 実施例 ８ NiSO4・6H2O 60ｇ／ KCl 25 〃 スルフアミン酸ナトリウム 500 〃 H3BO3 45 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、白みある無光沢で柔軟性のあ
るNiめつき被膜が得られた。 比較例 １ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 45 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.4 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 比較例 ２ スルフアミン酸Ni 300ｇ／ NiCl2・6H2O 30 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.4 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 比較例 ３ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 40 〃 CoSO4・7H2O 35 〃 ギ酸ナトリウム 25 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Ni−Co合金めつき被膜を得た。 比較例 ４ NiCl2・6H2O 300ｇ／ H3BO3 35 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 また、上記実施例１〜11及び比較例１〜４の電
気めつき液につき、めつき試験器として山本鍍金
試験器社製改良型ハーリングセルを用いて均一電
着性を調べた。この場合、陽極には電気ニツケル
板、陰極にはそれぞれ裏面にテープコーテイング
を施した61×100×0.3mmサイズの銅板２枚を用
い、距離比１：５にて、電気めつき液を液温55℃
に保ち、ゆるい空気撹拌を行ないながら総電流
2Aにて30分間通電した。得られためつきの均一
電着性（Ｔ（％））は、陰極に析出しためつき被膜
重量を秤量し、下記の式に従い算出した。 Ｔ（％）＝Ｐ−Ｍ／Ｐ＋Ｍ−２×100 但し、Ｔ：均一電着性 Ｐ：距離比（本実験では５） Ｍ：陰極に析出しためつき被膜重量比 〔M1／M2：M1は陽極に近い方の陰極重量
増加、M2は陽極に遠い方の陰極重量増加〕
らの合金の均一電着性に優れためつき被膜を与え
ることができる電気めつき液に関する。 従来の技術及び発明が解決しようとする問題点 従来、ニツケル及びニツケル合金電気めつき液
として、ワツト浴、ワイズベルグ浴、高硫酸ニツ
ケル浴、高塩化物浴、スルフアミン酸ニツケル浴
などが知られているが、これらの浴はいずれも均
一電着性の点で問題があり、低電流密度部分の膜
厚不足による耐食性、光沢・レベリングの低下、
逆に低電流密度部分の膜厚を確保するために生じ
るめつき時間の増大や高電流密度部分への過剰電
析によるめつき製品の寸法精度の低下、めつき金
属の無駄な消費などの問題が起こる。特に最近に
おいては、プリント基板のエツチングレジスト用
めつき、端子めつき、IC、LSIの配線、リードフ
レーム等への金めつき下地などにニツケルメツキ
やニツケル−コバルト合金めつきが広く使用され
ているが、これらのめつきに用いる場合は、上述
したように均一電着性に劣り、低電流密度部分の
被覆力が乏しいので、ボンデイング、半田付け不
良、耐食性不良が生じたり、これを防止するため
低電流密度部分のめつき厚さを厚くすると、高電
流密度部分のめつき厚さが増大し、応力が上昇し
て密着不良が生じるなどの欠点があり、IC、LSI
等の製造上大きな問題となつていた。更に、プラ
スチツクや亜鉛ダイキヤスト製品にめつきした
り、EMI（電磁波障害）防止用パツケージにめつ
きしたりする場合は、これら製品は複雑な形状の
ものが多いので、低電流密度部分の光沢不良、
EMI防止能の低下などの問題があつた。 この場合、めつき厚さを均一にするには化学め
つき法を採用することが考えられるが、化学めつ
き法はめつき速度が遅い上、金属イオンの還元剤
を必要とすることからめつきコストが増大し、ま
た現在化学めつき可能な金属、合金の種類が限ら
れ、しかも通常は金属イオンが錯化されているの
で排水処理に手間を要するなどの問題がある。 従つて、従来よりニツケル、コバルト、鉄、こ
れらの合金電気めつき液として均一電着性に優れ
たものが望まれていた。 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、均一
電着性が優れたニツケル、コバルト、鉄又はこれ
らの合金めつき被膜が得られる電気めつき液を提
供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 即ち、本発明者は、ニツケル、ニツケル合金等
のめつき被膜の均一電着性を改良することにつき
鋭意研究を重ねた結果、ニツケル、コバルト及び
鉄から選ばれる金属の水溶性塩をめつきすべき金
属のイオン源としためつき液中にアルカリ金属、
アルカリ土類金属及びアルミニウムから選ばれる
金属の水溶性硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少な
くとも１種を150ｇ／以上、より好ましくは200
ｇ／以上の高濃度で含有させ、かつ、緩衝剤と
してホウ酸を添加した場合、均一電着性が著しく
増大することを知見した。この場合、例えば、ワ
ツト浴はNiSO4・6H2Oを300ｇ／程度含有し、
通常のスルフアミン酸ニツケル浴はスルフアミン
酸ニツケルを300ｇ／以上含有し、また、従来
より高塩化ニツケル浴としてNiCl2・6H2Oを300
ｇ／含有するめつき液は知られているが、これ
らは上述したように均一電着性に劣る。ところ
が、硫酸イオン、ハロゲンイオン又はスルフアミ
ン酸イオンをNi，Co，Fe等の硫酸塩、ハロゲン
化物として与えるのではなく、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、或いはアルミニウムの硫酸塩、
ハロゲン化物又はスルフアミン酸塩として高濃度
で与え、かつ緩衝剤としてホウ酸を添加する場合
は、均一電着性が顕著に増大することを見出し、
更に硫酸や塩酸を添加した場合はより均一電着性
が増大すること、また、アミンボラン化合物、ヒ
ドラジン化合物、亜リン酸、次亜リン酸又はこれ
らの塩を添加すると高硬度のめつき被膜が得られ
るなどの特長が付与されることを知見し、本発明
をなすに至つたものである。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 本発明に係るメツキ液は、ニツケル、コバルト
及び鉄から選ばれる金属の水溶性塩を含有すると
共に、導電性塩としてアルカリ金属、アルカリ土
類金属及びアルミニウムから選ばれる金属の水溶
性硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少なくとも１種
を150〜800ｇ／含有しているものである。 ここで、上記水溶性金属塩としてはNi，Fe，
Coの水溶性塩であれば特に制限はなく、例えば、
Ni，Fe，Coの硫酸塩、スルフアミン酸塩、ハロ
ゲン化物等、具体的には硫酸ニツケル、硫酸第１
鉄、硫酸コバルト、臭化ニツケル、塩化ニツケ
ル、塩化第１鉄、塩化コバルト、スルフアミン酸
ニツケル、スルフアミン酸第１鉄、スルフアミン
酸コバルトなどが挙げられ、これらの金属塩は10
〜400ｇ／、特に10〜200ｇ／、より好適には
10〜100ｇ／の濃度で使用することができる。
この場合、これら金属塩の濃度が低くても本発明
によればこげが生じがたく、しかも均一電着性の
向上を計ることができる。合金めつき被膜を得る
場合には、上記水溶性金属塩の２種以上、あるい
は上記水溶性金属塩を主成分とし、これにタング
ステン酸及びその塩、モリブデン酸及びその塩、
硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの亜鉛金属塩、硫酸銅、
塩化銅などの銅金属塩、硫酸錫、塩化錫などの錫
金属塩など、Ni，Fe，Coと合金化すべき所望の
金属の水溶性塩を選択して使用することができ
る。また、これら合金化すべき金属塩の濃度は合
金組成において適宜選定されるが、通常１〜100
ｇ／、特に１〜50ｇ／の範囲とすることがで
きる。 本発明においては、上記水溶性金属塩をめつき
すべき金属のイオン源とするめつき液中に導電性
塩としてアルカリ金属、アルカリ土類金属、アル
ミニウムから選ばれる金属の硫酸塩及びスルフア
ミン酸塩の１種又は２種以上添加する。具体的に
は硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウ
ム、硫酸アルミニウム、スルフアミン酸ナトリウ
ム、スルフアミン酸カリウムなどが例示される。 これらの導電性塩の使用量は150〜800ｇ／と
することが必要であり、これら導電性塩を150
ｇ／以上の高濃度で使用することにより高均一
電着性が達成される。これに対し、その配合量が
150ｇ／より少ない場合は均一電着性の向上に
対する効果が乏しく、本発明の目的を達成し得な
い。なお、前記導電性塩のより好ましい使用量は
200〜500ｇ／である。 本発明のめつき液には、上記成分に加えて更に
緩衝剤としてホウ酸を添加するものであり、その
添加量は緩衝剤として有効に作用する量であれば
よく、特に制限されないが、20〜60ｇ／とし、
また、前記Ni，Fe，Coイオンと緩衝剤としての
ホウ酸との比率は重量比として１：１〜１：５と
することが均一電着性をより高める点から好まし
い。 また、本発明のめつき液にはハロゲンイオンを
陽極の溶解のために加えることが望ましい。その
添加量は、ハロゲン化塩として５〜100ｇ／で
あることが望ましい。ハロゲン化塩は、例えば塩
化ニツケル、塩化鉄、塩化コバルト、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、臭化ニツケル、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム等であることが望ましい。 更に本発明のめつき液には、塩酸又は硫酸を添
加することができ、これにより均一電着性を改良
することができる。その使用量は0.1〜30ｇ／、
特に１〜３ｇ／とすることが好ましい。なおこ
の場合、前記Ni，Fe，Coの水溶性塩の濃度を10
〜100ｇ／の低濃度とすることが高均一電着性
のめつき被膜を得ることから好ましい。 本発明のめつき液には、次亜リン酸、亜リン
酸、及びこれらの塩やアミンボラン化合物、ヒド
ラジン化合物を１〜100ｇ／程度添加すること
ができ、これによりリン含有又はホウ素含有めつ
き被膜を得ることができる。このようなリン又は
ホウ素含有めつき被膜は、マイクロビツカース硬
度Hv500〜800の硬質被膜となり、化学ニツケル
めつき被膜と同様に加熱処理により更に高硬度の
被膜を得ることができる。また、ホウ素含有合金
めつき被膜は、優れた半田付け性、ボンデイング
性、耐熱性、耐摩耗性を発揮するようになる。 なおまた、本発明の電気めつき液には、光沢
剤、レベリング剤などの添加剤として通常用いら
れる添加剤、例えばサツカリン、ナフタレンジス
ルホン酸ナトリウム、ナフタレントリスルホン酸
ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、プロ
パギルスルホン酸ナトリウム、ブチンジオール、
プロパギルアルコール、クマリン、ホルマリンな
どを適量添加することができる。 本発明のめつき液のPHは１〜12、特に１〜10が
好適であり、酸性浴、中性浴、アルカリ性浴のい
ずれであつてもよいが、とりわけ酸性めつきにお
いて本発明の効果を有効に発揮する。 本発明のめつき液を用いてめつきする場合のめ
つき条件は公知のNi，Fe，Coあるいはこれらの
合金めつきと同様の条件を採用し得、例えばめつ
き温度は10〜70℃、陰極電流密度0.01〜50A／ｄ
m2の条件が採用され得る。また、必要に応じ、空
気撹拌、カソードロツキング、ポンプ等による液
循環、プロペラ撹拌などの方法で撹拌を行なうこ
とができる。アノードはそのめつき液の種類に応
じ選定され、例えば電気ニツケル、硫黄含有ニツ
ケル、カーボナイズドニツケル、鉄、コバルト、
合金アノード等の可溶性陽極が用いられ、また場
合によつては白金、カーボン等の不溶性陽極を使
用することもできる。 なお、本発明のめつき液を用いてめつきする場
合、電流効率は60〜100％になるようにすること
が高均一電着性を達成し、低電流密度部分のめつ
き膜厚を厚くし得る点から好ましい。 本発明のめつき液を用いてめつきする製品の材
質に制限はなく、電気めつき可能な材質であれば
いずれのものもめつきし得、例えば金属や導電化
されたプラスチツク、セラミツク等がめつきされ
る。これらは公知の前処理を施し、所望の下地め
つきを施した後、本発明のめつき液を用いてめつ
きすることができ、また本発明のめつき液による
めつき後、その上にクロムめつき、金めつき、そ
の他所望のめつきを施すなどの公知の後処理を施
すことができる。 発明の効果 本発明に係る電気めつき液は、ニツケル、コバ
ルト及び鉄から選ばれる金属の水溶性塩を含有
し、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びアルミ
ニウムから選ばれる金属の水溶性ハロゲン化物、
硫酸塩及びスルフアミン酸塩の少なくとも１種を
150〜800ｇ／を含有し、更に緩衝剤としてホウ
酸を含有したことにより、均一電着性に優れ、高
電流密度部分と低電流密度部分との膜厚差の少な
いめつき被膜が得られる。このため、本発明めつ
き液は、電子部品（プリント基板のエツチングレ
ジスト用めつき、端子めつき、IC、LSIの配線、
リードフレーム等）、金型、プリント配線基板、
摺動部品、電鋳品へのめつき、バレルめつきや複
雑な形状を有するプラスチツク、電磁波障害防止
用パツケージ、多孔性素材への金属被膜、アルマ
イト染色めつきなどに好適に用いられる。 以下に実施例を示して本発明を具体的に説明す
るが、本発明の範囲はこれに限定されるものでは
ない。 実施例 １ NiCl24・6H2O 50ｇ／ Na2SO4 300 〃 H3BO3 45 〃 PH 4.0 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、ワツト浴から得られるめつき
によく似た外観を有するNiめつき被膜が得られ
た。 実施例 ２ 実施例１の電気めつき液にサツカリンナトリウ
ム１ｇ／とブチンジオール0.1ｇ／とを添加
した電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極電流
密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつきを行
なつたところ、黒みのある光沢状の柔軟性のある
Niめつき被膜が得られた。 実施例 ３ NiBr2 70ｇ／ K2SO4 150 〃 H3BC3 45 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、黒みのある無光沢の低応力で
柔軟性のあるNiめつき被膜が得られた。 実施例 ４ 実施例１の電気めつき液にジメチルアミンボラ
ン１ｇ／を添加した電気めつき液を用いて、温
度55℃、陰極電流密度2A／ｄm2において空気撹
拌下でめつきを行なつたところ、完全光沢のNi
−Ｂめつき被膜が得られた。 実施例 ５ 実施例１の電気めつき液に亜リン酸50ｇ／と
濃硫酸1.5ml／とを加えてPHを２に調整した電
気めつき液を用いて、温度55℃、陰極電流密度
2A／ｄm2において空気撹拌下でめつきを行なつ
たところ、完全光沢のNi−Ｐ合金めつきが得ら
れた。 実施例 ６ CoSO4・7H2O 50ｇ／ Na2SO4 250 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、無光沢で柔軟性のあるCoめ
つきが得られた。 実施例 ７ FeSO4・7H2O 60ｇ／ K2SO4 240 〃 H3BO3 40 〃 PH 3.5 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、無光沢で柔軟性のあるFeめ
つきが得られた。 実施例 ８ NiSO4・6H2O 60ｇ／ KCl 25 〃 スルフアミン酸ナトリウム 500 〃 H3BO3 45 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行なつたところ、白みある無光沢で柔軟性のあ
るNiめつき被膜が得られた。 比較例 １ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 45 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.4 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 比較例 ２ スルフアミン酸Ni 300ｇ／ NiCl2・6H2O 30 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.4 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 比較例 ３ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 40 〃 CoSO4・7H2O 35 〃 ギ酸ナトリウム 25 〃 H3BO3 40 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Ni−Co合金めつき被膜を得た。 比較例 ４ NiCl2・6H2O 300ｇ／ H3BO3 35 〃 PH 4.2 上記の電気めつき液を用いて、温度55℃、陰極
電流密度2A／ｄm2において空気撹拌下でめつき
を行ない、Niめつき被膜を得た。 また、上記実施例１〜11及び比較例１〜４の電
気めつき液につき、めつき試験器として山本鍍金
試験器社製改良型ハーリングセルを用いて均一電
着性を調べた。この場合、陽極には電気ニツケル
板、陰極にはそれぞれ裏面にテープコーテイング
を施した61×100×0.3mmサイズの銅板２枚を用
い、距離比１：５にて、電気めつき液を液温55℃
に保ち、ゆるい空気撹拌を行ないながら総電流
2Aにて30分間通電した。得られためつきの均一
電着性（Ｔ（％））は、陰極に析出しためつき被膜
重量を秤量し、下記の式に従い算出した。 Ｔ（％）＝Ｐ−Ｍ／Ｐ＋Ｍ−２×100 但し、Ｔ：均一電着性 Ｐ：距離比（本実験では５） Ｍ：陰極に析出しためつき被膜重量比 〔M1／M2：M1は陽極に近い方の陰極重量
増加、M2は陽極に遠い方の陰極重量増加〕
【表】
上記の結果より、本発明に係る導電性塩を150
〜800ｇ／、並びにホウ酸を含有する電気めつ
き液（実施例）は、これらの導電性塩を含まず、
従つて本発明に係る導電性塩とホウ酸とを共に含
有していない電気めつき液（比較例）に比し、め
つき被膜の均一電着性がはるかに優れていること
が確認された。
〜800ｇ／、並びにホウ酸を含有する電気めつ
き液（実施例）は、これらの導電性塩を含まず、
従つて本発明に係る導電性塩とホウ酸とを共に含
有していない電気めつき液（比較例）に比し、め
つき被膜の均一電着性がはるかに優れていること
が確認された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ニツケル、コバルト及び鉄から選ばれる金属
の水溶性塩を含有すると共に、導電性塩としてア
ルカリ金属、アルカリ土類金属及びアルミニウム
から選ばれる金属の水溶性硫酸塩及びスルフアミ
ン酸塩の少なくとも１種を150〜800ｇ／含有
し、かつ緩衝剤としてホウ酸を含有してなること
を特徴とする電気めつき液。 ２ H2SO4及び／又はHClを0.1〜30ｇ／添加
した特許請求の範囲第１項記載の電気めつき液。 ３ アミンボラン化合物、ヒドラジン化合物、亜
リン酸、次亜リン酸又はこれらの塩を添加した特
許請求の範囲第１項又は第２項記載の電気めつき
液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-167014 | 1985-07-29 | ||
| JP16701485 | 1985-07-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62109991A JPS62109991A (ja) | 1987-05-21 |
| JPH0319309B2 true JPH0319309B2 (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=15841785
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP305886A Granted JPS62109991A (ja) | 1985-07-29 | 1986-01-10 | 電気めつき液 |
| JP305786A Granted JPS62103387A (ja) | 1985-07-29 | 1986-01-10 | 電気めつき液 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP305786A Granted JPS62103387A (ja) | 1985-07-29 | 1986-01-10 | 電気めつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS62109991A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010131714A1 (ja) | 2009-05-13 | 2010-11-18 | リズム時計工業株式会社 | 検知システム、検知システムの信号処理方法、および、煙感知器 |
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| JPH05331677A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電気鉄めっき液 |
| JPH05331676A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電気鉄めっき液 |
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| JP5201315B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2013-06-05 | 上村工業株式会社 | 電気めっき方法 |
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-
1986
- 1986-01-10 JP JP305886A patent/JPS62109991A/ja active Granted
- 1986-01-10 JP JP305786A patent/JPS62103387A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010131714A1 (ja) | 2009-05-13 | 2010-11-18 | リズム時計工業株式会社 | 検知システム、検知システムの信号処理方法、および、煙感知器 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0319308B2 (ja) | 1991-03-14 |
| JPS62109991A (ja) | 1987-05-21 |
| JPS62103387A (ja) | 1987-05-13 |
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