JPH03194506A - 混成型光集積回路用光学結合回路及びその組立方法 - Google Patents
混成型光集積回路用光学結合回路及びその組立方法Info
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- JPH03194506A JPH03194506A JP33584389A JP33584389A JPH03194506A JP H03194506 A JPH03194506 A JP H03194506A JP 33584389 A JP33584389 A JP 33584389A JP 33584389 A JP33584389 A JP 33584389A JP H03194506 A JPH03194506 A JP H03194506A
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- circuit element
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
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- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、半導体光回路素子と誘電体光導波路とを一体
化した混成型光集積回路を構成するために必要となる小
型にして高効率の光学結合回路及びその組み立て方法に
関するものである。
化した混成型光集積回路を構成するために必要となる小
型にして高効率の光学結合回路及びその組み立て方法に
関するものである。
「従来の技術」
従来、誘電体導波路と半導体光素子を集積して光学結合
する方法としては直接結合法が使われていた。これは第
3図に示すように垂直に成形された導波路端面に半導体
光素子を近接して置くことによって光学結合する方法で
ある(例えば、山田泰文他、[ハイブリッド集積4X4
光ゲートスイツチ」、昭和63年電子情報通信学会秋季
全国大会、講演番号C−186)。第3図において、符
号lは半導体光ゲート素子、符号2は石英リッジ型導波
路、符号3はSi基板、符号4は半導体光ゲート素子の
活性層、符号5は導波路2のコア、符号6は電極パッド
、符号7は光ゲート用のヒートシンクを示している。
する方法としては直接結合法が使われていた。これは第
3図に示すように垂直に成形された導波路端面に半導体
光素子を近接して置くことによって光学結合する方法で
ある(例えば、山田泰文他、[ハイブリッド集積4X4
光ゲートスイツチ」、昭和63年電子情報通信学会秋季
全国大会、講演番号C−186)。第3図において、符
号lは半導体光ゲート素子、符号2は石英リッジ型導波
路、符号3はSi基板、符号4は半導体光ゲート素子の
活性層、符号5は導波路2のコア、符号6は電極パッド
、符号7は光ゲート用のヒートシンクを示している。
そして、この光学結合回路を組立ては、以下のように行
われていた。すなわち、Si基板3上に火炎堆積法等に
より石英導波路2を形成した後、電極バッド6として、
Au−8u等の比較的融点の低い合金を蒸着する。ここ
で石英導波路2は基板3からファ5までの高さが、素子
Iのボンディング面から活性層4までの高さに合うよう
に形成する。一方、素子1は予めヒートシンク7に電極
パッド6より融点の高い金属ハンダ(Au−3i等)で
固定しておく。しかるのちこの導波路2と素子1を光軸
合せして基板3をバッド6の融点まで加熱して素子lを
基板3に固定して完成となる。
われていた。すなわち、Si基板3上に火炎堆積法等に
より石英導波路2を形成した後、電極バッド6として、
Au−8u等の比較的融点の低い合金を蒸着する。ここ
で石英導波路2は基板3からファ5までの高さが、素子
Iのボンディング面から活性層4までの高さに合うよう
に形成する。一方、素子1は予めヒートシンク7に電極
パッド6より融点の高い金属ハンダ(Au−3i等)で
固定しておく。しかるのちこの導波路2と素子1を光軸
合せして基板3をバッド6の融点まで加熱して素子lを
基板3に固定して完成となる。
「発明が解決しようとする課題」
上記従来の光学結合回路では、半導体光ゲート素子lの
中の光ビームのスポットサイズ(通常1μm以下)と光
導波路2内のスポットサイズ(通常5μm程度)が大き
く異なるため高い結合効率が得られなかった。また、導
波路2の端面が垂直であるため反射した光が、半導体光
ゲート素子lに戻って来て半導体光ゲート素子1の特性
に悪い影響を与えるといった欠点もあった。そして、こ
の反射戻り光の影響を抑えるには、導波路2の端面に誘
電体の反射防止膜を付けるのが効果的であるが、第3図
のように集積化した構造の場合、斜め上方から膜付けす
ることになるので、特性の良い膜を付けるのは困難であ
った。
中の光ビームのスポットサイズ(通常1μm以下)と光
導波路2内のスポットサイズ(通常5μm程度)が大き
く異なるため高い結合効率が得られなかった。また、導
波路2の端面が垂直であるため反射した光が、半導体光
ゲート素子lに戻って来て半導体光ゲート素子1の特性
に悪い影響を与えるといった欠点もあった。そして、こ
の反射戻り光の影響を抑えるには、導波路2の端面に誘
電体の反射防止膜を付けるのが効果的であるが、第3図
のように集積化した構造の場合、斜め上方から膜付けす
ることになるので、特性の良い膜を付けるのは困難であ
った。
また、上記従来の組立方法であると、ハンダ凝固時や冷
却時に光軸がずれることが多く何度か再加熱・再調整を
繰返さないと光軸を最適位置に合わせることはできない
。ところが、上記のような組立法では何度も昇温すると
、バッド6の合金が素子1の端面にはい上ったり、ある
いは、素子1側のボンディング用電極が食われて、接続
不良になるといった事故が起き易かった。
却時に光軸がずれることが多く何度か再加熱・再調整を
繰返さないと光軸を最適位置に合わせることはできない
。ところが、上記のような組立法では何度も昇温すると
、バッド6の合金が素子1の端面にはい上ったり、ある
いは、素子1側のボンディング用電極が食われて、接続
不良になるといった事故が起き易かった。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであっ
て、結合効率が高く、反射戻り光を低減した半導体光素
子と誘電体光導波路間の光学結合回路およびその確実な
組立法を提供することを目的としている。
て、結合効率が高く、反射戻り光を低減した半導体光素
子と誘電体光導波路間の光学結合回路およびその確実な
組立法を提供することを目的としている。
「課題を解決するための手段」
本発明の光学結合回路は、1つまたは複数の光入出力ポ
ートを持つ半導体光回路素子と、該光入出力ポートのピ
ンチに合わせて形成した誘電体光導波路とを備え、当該
光回路素子と導波路間に片端面を凸レンズ状に加工した
短尺のグレーデッドインデックス形多モード光ファイバ
(GIファイバ)を配置したことを特徴としている。
ートを持つ半導体光回路素子と、該光入出力ポートのピ
ンチに合わせて形成した誘電体光導波路とを備え、当該
光回路素子と導波路間に片端面を凸レンズ状に加工した
短尺のグレーデッドインデックス形多モード光ファイバ
(GIファイバ)を配置したことを特徴としている。
また、本発明の組み立て方法は、上記光結合回路を組み
立てるにあたり、まず基板上に誘電体光導波路と半導体
光回路素子用の電極パッドを形成し、次にその電極パッ
ドに光回路素子を金属ハンダ材でボンディングし、最後
にレンズ加工したGIファイバを位置合せして接着剤等
で固定することを特徴としている。
立てるにあたり、まず基板上に誘電体光導波路と半導体
光回路素子用の電極パッドを形成し、次にその電極パッ
ドに光回路素子を金属ハンダ材でボンディングし、最後
にレンズ加工したGIファイバを位置合せして接着剤等
で固定することを特徴としている。
「作用」
光学結合回路が上記のような構成であると、従来の直接
結合法に比べ、GIファイバがレンズ効果を有するので
結合効率が高く、また凸レンズ加工することによって、
半導体光素子とGIファイバとの距離を離すことができ
るので、反射光が半導体光素子に戻る割合が小さくなる
。
結合法に比べ、GIファイバがレンズ効果を有するので
結合効率が高く、また凸レンズ加工することによって、
半導体光素子とGIファイバとの距離を離すことができ
るので、反射光が半導体光素子に戻る割合が小さくなる
。
さらに反射戻り光を抑えるために、GIファイバのみを
取り出して反射防止膜を付けることも容易にできる。
取り出して反射防止膜を付けることも容易にできる。
しかも、このGIファイバ自身は、例えば外径が125
μmφ、長さが数lOμm程度と非常に小さいので、集
積化した半導体光素子のように光入出力ポート間隔が狭
い(一般に数100μm程度)ものにも十分対応可能で
ある。
μmφ、長さが数lOμm程度と非常に小さいので、集
積化した半導体光素子のように光入出力ポート間隔が狭
い(一般に数100μm程度)ものにも十分対応可能で
ある。
また、上記のような組立方法によると、素子は所定の電
極パッドを目印にして、通常のボンディング工程に従っ
て固定するので、素子を損傷させる心配はない。さらに
、GIファイバの位置固定は接着剤で良いので、温度の
上げ下げによる光軸ずれの問題もなくなり、組立時の歩
留りが向上する。
極パッドを目印にして、通常のボンディング工程に従っ
て固定するので、素子を損傷させる心配はない。さらに
、GIファイバの位置固定は接着剤で良いので、温度の
上げ下げによる光軸ずれの問題もなくなり、組立時の歩
留りが向上する。
「実施例」
第1図(a)、第1図(b)は、それぞれ本発明の第一
の実施例を説明する図であって、第1図(a)は光学結
合回路の側断面図、第1図(b)は光学結合回路の平面
図である。
の実施例を説明する図であって、第1図(a)は光学結
合回路の側断面図、第1図(b)は光学結合回路の平面
図である。
なお、第3図に示す光学結合回路と同様の構成要素には
同符号を付しその説明は省略する。
同符号を付しその説明は省略する。
第1図において、符号1aは半導体レーザ素子、符号8
はGIファイバ、符号9はGIファイバ8のコア、符号
lOは先球レンズ、符号11はGIファイバ接着部を示
している。
はGIファイバ、符号9はGIファイバ8のコア、符号
lOは先球レンズ、符号11はGIファイバ接着部を示
している。
ここで、先球レンズlOは、GIファイバ8のコア9の
端面を球面上に加工することにより形成されたもので、
この加工は例えば以下のような方法によることができる
。すなわち、GIファイバ8のコア9の端面を、その軸
方向が液面に直交するようにして、緩衝フッ酸液に所定
時間浸せばよい。このようにすると、GIファイバのコ
アは外周に近くなる程緩衝フッ酸液に溶は易いので、端
面が球面状になる。
端面を球面上に加工することにより形成されたもので、
この加工は例えば以下のような方法によることができる
。すなわち、GIファイバ8のコア9の端面を、その軸
方向が液面に直交するようにして、緩衝フッ酸液に所定
時間浸せばよい。このようにすると、GIファイバのコ
アは外周に近くなる程緩衝フッ酸液に溶は易いので、端
面が球面状になる。
また、GIファイバ8は、外径が125μmφで長さが
数100μm程度のもので、長くとも10m m以下の
短尺なものである。
数100μm程度のもので、長くとも10m m以下の
短尺なものである。
そして、第1図に示す光学結合回路を組立てるには、゛
まず、Si基板3上に火炎堆積法により単一モード石英
導波路2を形成する。次いで電極パッド6を蒸着し、素
子lをAu−5u等の金属ハンダでボンディングする。
まず、Si基板3上に火炎堆積法により単一モード石英
導波路2を形成する。次いで電極パッド6を蒸着し、素
子lをAu−5u等の金属ハンダでボンディングする。
その為、素子1aを発光させておいて、石英導波路2か
ら出て来る光パワーが最大になるようにGIファイバ8
を位置合せして、UV接着剤で固定する。ここでUV接
着剤はファイバの屈折率に近いものを用い、GIファイ
バ8と石英導波路2の間にも注入しておいてマツチング
液としても機能させる。
ら出て来る光パワーが最大になるようにGIファイバ8
を位置合せして、UV接着剤で固定する。ここでUV接
着剤はファイバの屈折率に近いものを用い、GIファイ
バ8と石英導波路2の間にも注入しておいてマツチング
液としても機能させる。
この第一の実施例の光学結合回路によれば、以下のよう
な効果がある。すなわち、従来の直接結合法に比べ、G
Iファイバ8がレンズ作用を有するので結合効率が高(
なる。具体的には、従来の直接結合の場合に比べ、結合
効率の約4dB以上の改善がなされた。
な効果がある。すなわち、従来の直接結合法に比べ、G
Iファイバ8がレンズ作用を有するので結合効率が高(
なる。具体的には、従来の直接結合の場合に比べ、結合
効率の約4dB以上の改善がなされた。
また、コア9の先端が凸レンズ状にされていることによ
って、半導体光素子1aとCIファイバ8との距離を離
すことができるので、反射光が半導体光素子1aに戻る
割合が小さくなる。
って、半導体光素子1aとCIファイバ8との距離を離
すことができるので、反射光が半導体光素子1aに戻る
割合が小さくなる。
さらに反射戻り光を抑えるために、GIファイバ8のみ
を取り出して反射防止膜を付けることも容易にできる。
を取り出して反射防止膜を付けることも容易にできる。
しかも、このGIファイバ自身は非常に小さくできるの
で、集積化した半導体光素子のように光入出力ポート間
隔が狭い(一般に数100μm程度)ものにも十分対応
可能である。
で、集積化した半導体光素子のように光入出力ポート間
隔が狭い(一般に数100μm程度)ものにも十分対応
可能である。
また、上記のような組立方法によると、素子は所定の電
極パッド6を目印にして、通常のボンディング工程に従
って固定するので、素子1aを損傷させる心配はない。
極パッド6を目印にして、通常のボンディング工程に従
って固定するので、素子1aを損傷させる心配はない。
さらに、GIファイバ8の位置固定は接着剤で良いので
、温度の上げ下げによる光軸ずれの問題もなくなり、組
立時の歩留りが向上する。また、この組立法により、万
一固定時に光軸がずれてもUV接着剤を有機溶媒で除去
することによりやり直しが可能となるので、組立時の失
敗はほとんどな(なる。
、温度の上げ下げによる光軸ずれの問題もなくなり、組
立時の歩留りが向上する。また、この組立法により、万
一固定時に光軸がずれてもUV接着剤を有機溶媒で除去
することによりやり直しが可能となるので、組立時の失
敗はほとんどな(なる。
つぎに、第2図により本発明の第二の実施例を説明する
。第2図において、符号1bは2連のアレイレーザ素子
、符号12はCIファイバを保持するファイバホルダを
示している。
。第2図において、符号1bは2連のアレイレーザ素子
、符号12はCIファイバを保持するファイバホルダを
示している。
これを組立てるには、Si基板3に石英導波路2と電極
パッド6を形成した後、ファイバホルダ12を挿入する
ための溝を切る。この溝幅は、LD(アレイレーザ素子
lb)とGIファイバ8の間の距離に合せる。次いで、
電極パッド6にアレイレーザ素子1bをAu−3uハン
ダでボンディングする。一方、レンズ付GIファイバ8
ヲファイバホルダ12にハンダまたは接着剤により固定
したものを別途製作する。しかる後、このファイバホル
ダを光軸合せして、UV硬化接着剤等を使って石英導波
路端面に貼付けて出来上りとなる。
パッド6を形成した後、ファイバホルダ12を挿入する
ための溝を切る。この溝幅は、LD(アレイレーザ素子
lb)とGIファイバ8の間の距離に合せる。次いで、
電極パッド6にアレイレーザ素子1bをAu−3uハン
ダでボンディングする。一方、レンズ付GIファイバ8
ヲファイバホルダ12にハンダまたは接着剤により固定
したものを別途製作する。しかる後、このファイバホル
ダを光軸合せして、UV硬化接着剤等を使って石英導波
路端面に貼付けて出来上りとなる。
この第二の実施例の光学結合回路によれば、前述の第一
の実施例と同様の効果があり、また、この第二の実施例
の組立法によれば、前述の第一の実施例の組立方法と同
様の効果に加えて、アレイ数を2連以上に増やしても光
軸合せは1か所のみで済むため組立工程が簡略化される
という効果がある。実際、製造時の歩み留りや結合効率
は第一の実施例と同レベルのものが得られている。
の実施例と同様の効果があり、また、この第二の実施例
の組立法によれば、前述の第一の実施例の組立方法と同
様の効果に加えて、アレイ数を2連以上に増やしても光
軸合せは1か所のみで済むため組立工程が簡略化される
という効果がある。実際、製造時の歩み留りや結合効率
は第一の実施例と同レベルのものが得られている。
なお、上記二つの実施例は、片端だけを結合した例であ
るが、両側を結合するものにおいても本発明を実施して
同様の効果を奏することができるのはいうまでもな(、
この場合の組立方法は同様の工程を繰返せばよい。
るが、両側を結合するものにおいても本発明を実施して
同様の効果を奏することができるのはいうまでもな(、
この場合の組立方法は同様の工程を繰返せばよい。
また、発光素子を例にとったが、受光素子モジュールに
もそのまま応用できる。
もそのまま応用できる。
また、導波路も石英導波路に限らず、屈折率が、GIフ
ァイバに近いものであれば、有機高分子系の導波路でも
、多成分ガラス系の導波路でも、光ファイバをそのまま
を用いた導波路でも、同様の構成および組立法が適用可
能である。
ァイバに近いものであれば、有機高分子系の導波路でも
、多成分ガラス系の導波路でも、光ファイバをそのまま
を用いた導波路でも、同様の構成および組立法が適用可
能である。
また、GIファイバ8の取り付けを接着剤により行って
いるが、これに限らず、例えばハンダあるいは溶接等に
よってもよい。
いるが、これに限らず、例えばハンダあるいは溶接等に
よってもよい。
「発明の効果」
本発明によれば、半導体光回路素子と誘電体光導波路と
を高効率で結合したモジュールを歩留り良く製造できる
という効果がある。
を高効率で結合したモジュールを歩留り良く製造できる
という効果がある。
第1図(a)、第1図(b)はそれぞれ本発明の第一の
実施例を示す図であって、第1図(a)は光学結合回路
の側断面図、第1図(b)は光学結合回路の平面図であ
る。 また、第2図は本発明の第二の実施例を示す図であって
、光学結合回路の斜視図である。 また、第3図は従来技術を示す図であって、光学結合回
路の側断面図である。 la、lb・・・・・・半導体光回路素子、2・・・・
・・誘電体光導波路、3・・・・・・基板、6・・・・
・・電極パッド、8・・・・・GIファイバ11・・・
・・・接着剤。
実施例を示す図であって、第1図(a)は光学結合回路
の側断面図、第1図(b)は光学結合回路の平面図であ
る。 また、第2図は本発明の第二の実施例を示す図であって
、光学結合回路の斜視図である。 また、第3図は従来技術を示す図であって、光学結合回
路の側断面図である。 la、lb・・・・・・半導体光回路素子、2・・・・
・・誘電体光導波路、3・・・・・・基板、6・・・・
・・電極パッド、8・・・・・GIファイバ11・・・
・・・接着剤。
Claims (2)
- (1)1つまたは複数の光入出力ポートを持つ半導体光
回路素子と、該光入出力ポートのピッチに合わせて形成
した誘電体光導波路とを備え、当該光回路素子と導波路
間に片端面を凸レンズ状に加工した短尺のグレーデッド
インデックス形多モード光ファイバ(GIファイバ)を
配置したことを特徴とする光学結合回路。 - (2)請求項1記載の光結合回路を組み立てるにあたり
、まず基板上に誘電体光導波路と半導体光回路素子用の
電極パッドを形成し、次にその電極パッドに光回路素子
を金属ハンダ材でボンディングし、最後にレンズ加工し
たGIファイバを位置合せして接着剤等で固定すること
を特徴とする光学結合回路の組立方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33584389A JPH03194506A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 混成型光集積回路用光学結合回路及びその組立方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33584389A JPH03194506A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 混成型光集積回路用光学結合回路及びその組立方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03194506A true JPH03194506A (ja) | 1991-08-26 |
Family
ID=18293017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33584389A Pending JPH03194506A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 混成型光集積回路用光学結合回路及びその組立方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03194506A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0826998A3 (en) * | 1996-08-27 | 1998-04-01 | Ando Electric Co., Ltd. | High-reflection attenuating light interception apparatus |
| JP2006221159A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-24 | Murata Mfg Co Ltd | 光送信モジュールおよびその製造方法 |
-
1989
- 1989-12-25 JP JP33584389A patent/JPH03194506A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0826998A3 (en) * | 1996-08-27 | 1998-04-01 | Ando Electric Co., Ltd. | High-reflection attenuating light interception apparatus |
| JP2006221159A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-24 | Murata Mfg Co Ltd | 光送信モジュールおよびその製造方法 |
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