JPH031965U - - Google Patents
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- JPH031965U JPH031965U JP6168289U JP6168289U JPH031965U JP H031965 U JPH031965 U JP H031965U JP 6168289 U JP6168289 U JP 6168289U JP 6168289 U JP6168289 U JP 6168289U JP H031965 U JPH031965 U JP H031965U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- plasma etching
- porous
- upper electrode
- etching apparatus
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
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- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案によるプラズマエツチング装置
用電極を配設したプラズマエツチング装置の概略
説明図、第２図は本考案によるプラズマエツチン
グ装置用電極に用いた多孔質積層体の斜視図、第
３図は従来のプラズマエツチング装置用電極を配
設したプラズマエツチング装置の概略説明図、第
４図は従来の他のプラズマエツチング装置用電極
の要部の断面図である。 １，２１……ケーシング、２，２２……エツチ
ング室、３，２３，４３……上部電極、４，２４
……下部電極、５，２５，４５……反応性ガス、
６，２６，４６…導入口、７，２７，４７……中
空部、８，４８……流出口、９……多孔質積層体
、９ａ……多孔質体（通気率小）、９ｂ……多孔
質体（通気率大）、１０，２９……基板、１１，
３０……高周波電源、１２，３１……排気口、２
８……小孔、４９……多孔質体。
用電極を配設したプラズマエツチング装置の概略
説明図、第２図は本考案によるプラズマエツチン
グ装置用電極に用いた多孔質積層体の斜視図、第
３図は従来のプラズマエツチング装置用電極を配
設したプラズマエツチング装置の概略説明図、第
４図は従来の他のプラズマエツチング装置用電極
の要部の断面図である。 １，２１……ケーシング、２，２２……エツチ
ング室、３，２３，４３……上部電極、４，２４
……下部電極、５，２５，４５……反応性ガス、
６，２６，４６…導入口、７，２７，４７……中
空部、８，４８……流出口、９……多孔質積層体
、９ａ……多孔質体（通気率小）、９ｂ……多孔
質体（通気率大）、１０，２９……基板、１１，
３０……高周波電源、１２，３１……排気口、２
８……小孔、４９……多孔質体。
Claims (1)
- ケーシング内に配設され、中空状をなすととも
に、その内部から反応性ガスを流出する上部電極
と、該上部電極に対向して配設するとともにその
面上に基板を載置する下部電極とを具え、前記両
電極間に高周波電圧を印加し、前記下部電極上に
載置した基板をエツチングするプラズマエツチン
グ装置に使用するためのプラズマエツチング装置
用電極であつて、このプラズマエツチング用電極
の上部電極は、反応性ガスの流出口に、通気率の
異なる多孔質体を少なくとも２層積層した多孔質
積層体を配設し、この多孔質積層体の下部電極に
面した側の多孔質体の通気率を、それより内側の
多孔質体の通気率よく大きくしたことを特徴とす
るプラズマエツチング装置用電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168289U JPH031965U (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168289U JPH031965U (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH031965U true JPH031965U (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=31590148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6168289U Pending JPH031965U (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH031965U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62210623A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-16 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 気相反応装置用電極 |
-
1989
- 1989-05-26 JP JP6168289U patent/JPH031965U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62210623A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-16 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 気相反応装置用電極 |