JPH03201218A - 垂直磁気記録ディスク媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録ディスク媒体の製造方法Info
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- JPH03201218A JPH03201218A JP33970389A JP33970389A JPH03201218A JP H03201218 A JPH03201218 A JP H03201218A JP 33970389 A JP33970389 A JP 33970389A JP 33970389 A JP33970389 A JP 33970389A JP H03201218 A JPH03201218 A JP H03201218A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、垂直磁気記録層と高透磁率下地層とを有する
磁気ディスク媒体の製造方法に係る。
磁気ディスク媒体の製造方法に係る。
従来の技術および発明が解決しようとする課題一般に磁
気記録方式には、長手記録方式と垂直記録方式とがある
が、垂直記録方式では高記録密度化が可能なため、この
記録方式の研究・開発、及びこの方式を用いた記録媒体
の製造が盛んに行なわれている。
気記録方式には、長手記録方式と垂直記録方式とがある
が、垂直記録方式では高記録密度化が可能なため、この
記録方式の研究・開発、及びこの方式を用いた記録媒体
の製造が盛んに行なわれている。
この垂直磁気記録方式に関し、従来、高透磁率下地層を
有する垂直磁気記録ディスク媒体を製造する際に、高透
磁率下地層の磁化容易軸を半径方向に揃えてやる事によ
り、読み出し時の出力変動を押さえるという方法が案出
され、それを実現させるための様々な方法が考えられて
きた。例えば、特開昭60−52909号、特開昭61
〜177633号、特開昭62−129940号公報等
記載の発明は、第1図に示すように、基板ホルダーに永
久磁石11及び補助強磁性体12を設け、基板に放射状
の水平磁界13を印加するという方法である。しかし、
この方法には、垂直磁気記録層をスパッタリングにより
作製する時、その水平磁界13からの影響に対してなん
ら考慮がされていないという欠点がある。
有する垂直磁気記録ディスク媒体を製造する際に、高透
磁率下地層の磁化容易軸を半径方向に揃えてやる事によ
り、読み出し時の出力変動を押さえるという方法が案出
され、それを実現させるための様々な方法が考えられて
きた。例えば、特開昭60−52909号、特開昭61
〜177633号、特開昭62−129940号公報等
記載の発明は、第1図に示すように、基板ホルダーに永
久磁石11及び補助強磁性体12を設け、基板に放射状
の水平磁界13を印加するという方法である。しかし、
この方法には、垂直磁気記録層をスパッタリングにより
作製する時、その水平磁界13からの影響に対してなん
ら考慮がされていないという欠点がある。
また、特開昭62−205518号公報は、基板ホルダ
ーの裏側で永久磁石または電磁石を回転させる等の方法
を示している。しかし、この方法は、実際のディスク媒
体製造を考えると非効率的である。
ーの裏側で永久磁石または電磁石を回転させる等の方法
を示している。しかし、この方法は、実際のディスク媒
体製造を考えると非効率的である。
また、これらの全ての方法では、実際のディスク媒体製
造に用いられるインラインスパッタリング装置への応用
に関して全く考慮が威されていないという欠点もある。
造に用いられるインラインスパッタリング装置への応用
に関して全く考慮が威されていないという欠点もある。
すなわち、実際のディスク媒体製造において両面への製
膜は必要不可欠な事であるが、従来の方法では基板ホル
ダー自体に磁界発生機構を組み込んであるため、両面に
製膜するためには一度ディスク媒体基板をホルダーから
はずして裏返す作業のための特別な機構や手間が必要と
なり、好ましくない。
膜は必要不可欠な事であるが、従来の方法では基板ホル
ダー自体に磁界発生機構を組み込んであるため、両面に
製膜するためには一度ディスク媒体基板をホルダーから
はずして裏返す作業のための特別な機構や手間が必要と
なり、好ましくない。
さらに、インラインスパッタリング装置内のターゲット
に対向する部分に磁性体及び凹凸のある部分を設ける事
は保守管理を困難にし、保守費用を増大させる事になる
。
に対向する部分に磁性体及び凹凸のある部分を設ける事
は保守管理を困難にし、保守費用を増大させる事になる
。
従って、本発明の目的は、上記の従来の欠点を解決し、
高透磁率下地層の磁化容易軸を基板半径方向に揃える事
により読み出し時の出力変動の少ない垂直磁気ディスク
媒体を製造する方法を実際の製造に応用可能な形で提供
することである。
高透磁率下地層の磁化容易軸を基板半径方向に揃える事
により読み出し時の出力変動の少ない垂直磁気ディスク
媒体を製造する方法を実際の製造に応用可能な形で提供
することである。
課題を解決するための手段
本発明は、放射状直流磁界を発生させるに当たり螺旋状
の平面コイルのみを用い、なんら補助的な強磁性体を必
要とせず、またインラインスパッタリング装置の基板ト
レイとコイル用の可動パレットを分離した事を特徴とす
るものである。
の平面コイルのみを用い、なんら補助的な強磁性体を必
要とせず、またインラインスパッタリング装置の基板ト
レイとコイル用の可動パレットを分離した事を特徴とす
るものである。
実施例
以下、本発明による実施例について説明する。
最初に、平面コイルについて説明する。第2図に平面コ
イルの鳥敞図と断面図の一例を示す。この平面コイルは
、例えば130mm基板に用いる場合中心孔の直径が約
20mm、外周のの直径が約150111111の所定
の厚さを有する円板形状のものであれば良い。平面コイ
ル21に電流を流すと、その表面近傍には矢印で示すよ
うな放射状に広がる磁界22が発生する。
イルの鳥敞図と断面図の一例を示す。この平面コイルは
、例えば130mm基板に用いる場合中心孔の直径が約
20mm、外周のの直径が約150111111の所定
の厚さを有する円板形状のものであれば良い。平面コイ
ル21に電流を流すと、その表面近傍には矢印で示すよ
うな放射状に広がる磁界22が発生する。
第3図は、第2図の磁界を、コイル断面方向から見た場
合の磁界のディスク媒体面に対する垂直成分31と水平
成分32とにそれぞれ分解して示している。この垂直成
分31を点線で示し、水平成分32を実線で各々示す。
合の磁界のディスク媒体面に対する垂直成分31と水平
成分32とにそれぞれ分解して示している。この垂直成
分31を点線で示し、水平成分32を実線で各々示す。
また、ディスク媒体の半径内に該当する部分を33で示
す。
す。
ここで注目すべきは、磁界の水平成分32の分布がディ
スク媒体半径内33において略一様となる点である。こ
の事実により、この印加磁界中で高透磁率層を作製すれ
ば、高透磁率層自体の形状異方性により、印加磁界の垂
直成分31をほぼ無視する事ができ、印加磁界の水平成
分32のみの効果により磁化容易軸をディスク媒体半径
方向に一様に揃える事が可能となって、装置の保守管理
を困難にする補助強磁性体が不要になる。
スク媒体半径内33において略一様となる点である。こ
の事実により、この印加磁界中で高透磁率層を作製すれ
ば、高透磁率層自体の形状異方性により、印加磁界の垂
直成分31をほぼ無視する事ができ、印加磁界の水平成
分32のみの効果により磁化容易軸をディスク媒体半径
方向に一様に揃える事が可能となって、装置の保守管理
を困難にする補助強磁性体が不要になる。
また、流す電流の大きさによって磁界の大きさを自由に
変える事ができ、かつ、コイルは永久磁石に比べ、容易
に均一な磁界を作れる事も大きな利点である。
変える事ができ、かつ、コイルは永久磁石に比べ、容易
に均一な磁界を作れる事も大きな利点である。
さらに、平面コイルは極めて薄型にする事が可能で、放
射状磁界発生機構に要するスペースを大幅に減らす事も
できる。
射状磁界発生機構に要するスペースを大幅に減らす事も
できる。
次に平面コイル用可動パレットについて説明する。第4
図は平面コイル用の可動パレットを示す。
図は平面コイル用の可動パレットを示す。
平面コイル21は、可動パレット41上に、基板トレイ
42上のディスク媒体基板43の中心と一致するように
基板の数だけ配置される。そして、平面コイル21は、
抵抗45を介して直流電源44に接続されている(簡単
のため省略した形で図示する。〉。このパレット41が
基板トレイ42と同期して動きながら、反対側の面に高
透磁率層をスパッタリングする事になる。
42上のディスク媒体基板43の中心と一致するように
基板の数だけ配置される。そして、平面コイル21は、
抵抗45を介して直流電源44に接続されている(簡単
のため省略した形で図示する。〉。このパレット41が
基板トレイ42と同期して動きながら、反対側の面に高
透磁率層をスパッタリングする事になる。
先に述べたように、従来技術においては、実際の製造に
用いられるインラインスパッタリング装置への応用には
全く考慮が威されていなかった。
用いられるインラインスパッタリング装置への応用には
全く考慮が威されていなかった。
一方、本発明では平面コイル用の可動パレットを基板ホ
ルダーと完全に分離した事により、垂直磁気記録層のス
パッタリング時に悪影響を及゛ぼす事は皆無になり、生
産速度に影響を与える事を無くし、かつ垂直磁気記録層
を通常の両面スパッタリングにより作製する事が可能と
なった。
ルダーと完全に分離した事により、垂直磁気記録層のス
パッタリング時に悪影響を及゛ぼす事は皆無になり、生
産速度に影響を与える事を無くし、かつ垂直磁気記録層
を通常の両面スパッタリングにより作製する事が可能と
なった。
次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に示す。第5
図は本発明をインラインスパッタリング装置に適用した
例を示す。基板トレイ42が高透磁率層スパッタリング
槽51の中に入る際に可動パレット41を伴い、各ディ
スク媒体に放射状磁界を印加しながら高透磁率層ターゲ
ット52の前を通過する。槽内を通過し片面の製膜が終
わった後、可動パレッ)41は、基板トレイ42から離
れ、最初の位置に戻って次の基板トレイが来るのを待つ
。この可動パレッ)41を一つの槽内に複数設け、それ
らを順次使う事も可能である。
図は本発明をインラインスパッタリング装置に適用した
例を示す。基板トレイ42が高透磁率層スパッタリング
槽51の中に入る際に可動パレット41を伴い、各ディ
スク媒体に放射状磁界を印加しながら高透磁率層ターゲ
ット52の前を通過する。槽内を通過し片面の製膜が終
わった後、可動パレッ)41は、基板トレイ42から離
れ、最初の位置に戻って次の基板トレイが来るのを待つ
。この可動パレッ)41を一つの槽内に複数設け、それ
らを順次使う事も可能である。
基板ドレイが次の高透磁率層スパッタリング槽51bに
入る際には、反対側の面に可動パレット41bを伴い同
様の動作が行われる。この工程により、基板の両面に磁
化容易軸が基板半径方向に揃った高透磁率層を、製造速
度に影響を与える事無く、作製する事が可能となる。
入る際には、反対側の面に可動パレット41bを伴い同
様の動作が行われる。この工程により、基板の両面に磁
化容易軸が基板半径方向に揃った高透磁率層を、製造速
度に影響を与える事無く、作製する事が可能となる。
発明の詳細
な説明したように、本発明の方法によれば、磁化容易軸
が半径方向に揃った高透磁率下地層を効率的に作製する
事が可能となり、そのことにより読み出し時の出力変動
の少ない優れた垂直磁気記録ディスク媒体を製造するこ
とが可能になる。
が半径方向に揃った高透磁率下地層を効率的に作製する
事が可能となり、そのことにより読み出し時の出力変動
の少ない優れた垂直磁気記録ディスク媒体を製造するこ
とが可能になる。
第1図は従来技術による方法の概要を示す図、第2図は
平面コイルの鳥敞図と断面図、及び平面コイル表面近傍
に発生する中心から放射状に広がる磁界を示す図、 第3図は第2図の磁界に関して、ディスク媒体断面方向
から見た場合の磁界のディスク媒体面に対する垂直成分
と水平成分の各々の磁界を示す図、第4図は平面コイル
用の可動パレットを示す図、第5図は本発明をインライ
ンスパッタリング装置に適用した例を示す図である。 11・・・・永久磁石、 12・・・・補助強磁性体、
13・・・・放射状磁界、21・・・・平面コイノペ2
2・・・・放射状磁界、31・・・・磁界の垂直成分、
32・・・・磁界の水平成分、 33・・・・ディスク媒体基板半径、 41・・・・コイル用可動バレント、 42・・・・基板トレイ、 43・・・・ディスク媒体基板、 5L51b・・・・高透磁率層スパッタリング槽、52
・・・・高透Fa率磁性体ターゲット。 1 第1図
平面コイルの鳥敞図と断面図、及び平面コイル表面近傍
に発生する中心から放射状に広がる磁界を示す図、 第3図は第2図の磁界に関して、ディスク媒体断面方向
から見た場合の磁界のディスク媒体面に対する垂直成分
と水平成分の各々の磁界を示す図、第4図は平面コイル
用の可動パレットを示す図、第5図は本発明をインライ
ンスパッタリング装置に適用した例を示す図である。 11・・・・永久磁石、 12・・・・補助強磁性体、
13・・・・放射状磁界、21・・・・平面コイノペ2
2・・・・放射状磁界、31・・・・磁界の垂直成分、
32・・・・磁界の水平成分、 33・・・・ディスク媒体基板半径、 41・・・・コイル用可動バレント、 42・・・・基板トレイ、 43・・・・ディスク媒体基板、 5L51b・・・・高透磁率層スパッタリング槽、52
・・・・高透Fa率磁性体ターゲット。 1 第1図
Claims (2)
- (1)垂直磁気記録層と高透磁率下地層とを有する磁気
記録ディスク媒体をスパッタリング法を用いて製造する
方法において、高透磁率下地層を製膜する際、基板の裏
側に螺旋状に巻いた平面コイルを配置し、コイルに直流
電流を流す事により発生した磁界のうち基板面に平行な
略一様な磁界成分を印加することを特徴とする垂直磁気
記録ディスク媒体の製造方法。 - (2)インラインスパッタリング製造装置内に、平面コ
イルを配置した可動パレットを基板トレイとは別に設け
、そのパレットを基板トレイと同期させて動かす事によ
り、高導磁率下地層の製膜中のみ基板に均一な放射状磁
界を印加する事を特徴とする請求項1記載の垂直磁気記
録ディスク媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33970389A JPH03201218A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 垂直磁気記録ディスク媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33970389A JPH03201218A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 垂直磁気記録ディスク媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03201218A true JPH03201218A (ja) | 1991-09-03 |
Family
ID=18330006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33970389A Pending JPH03201218A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 垂直磁気記録ディスク媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03201218A (ja) |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP33970389A patent/JPH03201218A/ja active Pending
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