JPH0320124B2 - - Google Patents
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- JPH0320124B2 JPH0320124B2 JP58197128A JP19712883A JPH0320124B2 JP H0320124 B2 JPH0320124 B2 JP H0320124B2 JP 58197128 A JP58197128 A JP 58197128A JP 19712883 A JP19712883 A JP 19712883A JP H0320124 B2 JPH0320124 B2 JP H0320124B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- vinyl
- polymerization
- reaction
- polymer
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本発明はけい素原子含有有機高分子化合物の製
造方法に関するものである。 従来より線状構造の高分子化合物でフイルム等
を成型し、ついでこのものを強固な三次元ポリマ
ーに架橋する手法は知られており、この手法は感
光性樹脂、ゴム、塗料、接着剤などに多く応用さ
れている。たとえばケイ皮酸ビニルのようにポリ
ビニルアルコールの高分子修飾でビニル基を導入
する方法、ポリシロキサン中にビニル基を入れる
方法、反応性のモノマーもしくはポリマーを混合
する方法等がよく知られている。 しかし、1分子中にビニル基のような不飽和基
を2つ有するモノマーを通常の重合方法で重合さ
せて一方の不飽和基のみを重合し、他方の不飽和
基を残存させた形のポリマーを得る方法はあまり
知られていない。これは一方の不飽和基の重合の
際に他方の不飽和基の重合も同時におこり、最初
から三次元のポリマーになつてしまう場合が多い
ためである。 本発明者らは鋭意研究した結果、通常の重合反
応の条件で容易に重合反応を起こすエチレン性二
重結合を有する有機基とけい素原子に直結したビ
ニル基とを有するビニルシラン誘導体を選択使用
することにより、架橋反応し得るビニルシリル基
が残存した線状高分子化合物を容易に得ることが
できることを見出し、本発明を完成した。 すなわち、本発明は一般式 (式中、Vは重合可能なエチレン性二重結合を有
する有機基、R1、R2は炭素原子数1〜4のアル
キル基もしくはフエニル基、nは0〜3の数、た
だしn=0のときVはビニル基でないものとす
る)で示されるビニルシラン誘導体を、過酸化物
もしくはアゾ化合物を触媒とするラジカル重合、
グリニヤール試薬を開始剤とするアニオン重合ま
たはテトラヒドロフラン溶媒中における炭化水素
のアルカリ金属化合物を開始剤とするアニオン重
合により、そのビニルシリル基を残存させ有機基
V中のエチレン性二重結合を優先的に重合反応さ
せることを特徴とするけい素原子含有有機高分子
化合物の製造方法に関するものである。 これを説明すると、上記一般式()で示され
るビニルシラン誘導体中のR1およびR2は、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基およびフ
エニル基から選ばれる基であり、また式−(CH2)
n−で示される基のVは重合可能なエチレン性二
重結合を有する有機基であつて、これを例示すれ
ば次のとおりである。 ビニルフエニル基 CH2=CH−C6H4−(CH2)n− (n=0〜3) メタクリル酸基 CH2=C(CH3)COO−(CH2)n− (n=1〜3) アクリル酸基 CH2=CHCOO−(CH2)n− (n=1〜3) ビニル基 CH2=CH−(CH2)n− (n=1〜3) プロペニル基 CH3CH=CH−(CH2)n− (n=1〜3) ビニルオキシ基 CH2=CHO−(CH2)n− (n=1〜3) ビニルピリジル基 CH2=CH−C5H4N−(CH2)n− (n=1〜3) 以上述べたそれぞれの分子構造からなるビニル
シラン誘導体は、通常のビニルクロロシラン、ア
ルキルクロロシラン、ヒドロクロロシラン類を原
料として、グニヤール反応、ヒドロシリル化反応
等の公知の有機合成反応により得ることができ
る。 本発明で使用されるビニルシラン誘導体はつぎ
のような特徴を有する。すなわち、その式V−
(CH2)n−中のエチレン性二重結合は通常の重
合反応(ラジカル重合、アニオン重合、カチオン
重合)条件で容易に重合するが、けい素原子に直
結しているビニル基はそのけい素原子に結合して
いる他の有機基(R1、R2)による立体障害のた
めに、通常の重合条件下ではほとんど重合反応を
起こさないという性質を有する。たとえばトリメ
チルビニルシランは通常のラジカル重合を行わせ
ることができず、プチルリチウムを使うアニオン
重合により35℃の温度で400時間反応させること
によつてやつと起こる程度であり(西独公開公報
第2259951号参照)、このアニオン重合の速度は著
しく遅い。しかし、一般式()で示されるビニ
ルシラン誘導体は通常の重合反応条件でラジカル
重合、アニオン重合またはカチオン重合させるこ
とにより、容易にビニルシリル基の残存した線状
高分子化合物となる。 なお、ビニルシラン誘導体の重合に当つて、必
要であれば、他の通常のビニルモノマー(コモノ
マー)を併用してもよい。 このようにして得られる残存ビニルシリル基を
有する線状高分子化合物は、有機溶剤に可溶性の
ものであり容易に架橋反応して溶剤に不溶性の強
じん三次元ポリマーとなるので、感光性樹脂、ゴ
ム、塗料、接着剤等広い分野に有用とされるもの
である。 この残存ビニルシリル基を有する線状高分子化
合物を架橋反応させる方法としては、)紫外
線、電子線もしくはX線による照射方法、)過
酸化物または1分子中にビニルシリル基と反応し
得る官能基を少なくとも2個有する有機化合物を
用いて行なう方法があげられる。なお、上記過酸
化物としてはベンゾイルペルオキシド、2、4−
ジクロロベンゾイルペルオキシド、ジクミルペル
オキシド、t−ブチルペルオキシベンゾエートな
どが、また少なくとも2個の官能基を有する有機
化合物としては、≡Si−Hで示される官能基を1
分子中に2個以上有するオルガノシラン化合物も
しくはオルガノポリシロキサン化合物、あるいは
≡Si−R−SH(Rは2価の炭化水素基)で示され
る官能基を1分子中に2個以上有するオルガノポ
リシロキサン化合物、および光架橋剤である2、
6−ジ(4アジドベンジリデン)−シクロヘキサ
ノンなどがそれぞれ例示される。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 1 500mlフラスコ中にマグネシウム12g、テトラ
ヒドロフラン200mlを仕込み、臭化エチル0.5mlを
加えて反応をスタートさせた後、p−クロロスチ
レン69gを、窒素気流中、還流温度で3時間要し
て滴下し反応させることによりp−クロロスチレ
ンのグリニヤール試薬を合成した。つぎにビニル
メチルクロロシランの60gを20〜30℃でこのグリ
ニヤール試薬中に滴下反応させた後、加水分解
し、有機層を減圧下蒸留したところ、p−ビニル
フエニルジメチルビニルシラン (
造方法に関するものである。 従来より線状構造の高分子化合物でフイルム等
を成型し、ついでこのものを強固な三次元ポリマ
ーに架橋する手法は知られており、この手法は感
光性樹脂、ゴム、塗料、接着剤などに多く応用さ
れている。たとえばケイ皮酸ビニルのようにポリ
ビニルアルコールの高分子修飾でビニル基を導入
する方法、ポリシロキサン中にビニル基を入れる
方法、反応性のモノマーもしくはポリマーを混合
する方法等がよく知られている。 しかし、1分子中にビニル基のような不飽和基
を2つ有するモノマーを通常の重合方法で重合さ
せて一方の不飽和基のみを重合し、他方の不飽和
基を残存させた形のポリマーを得る方法はあまり
知られていない。これは一方の不飽和基の重合の
際に他方の不飽和基の重合も同時におこり、最初
から三次元のポリマーになつてしまう場合が多い
ためである。 本発明者らは鋭意研究した結果、通常の重合反
応の条件で容易に重合反応を起こすエチレン性二
重結合を有する有機基とけい素原子に直結したビ
ニル基とを有するビニルシラン誘導体を選択使用
することにより、架橋反応し得るビニルシリル基
が残存した線状高分子化合物を容易に得ることが
できることを見出し、本発明を完成した。 すなわち、本発明は一般式 (式中、Vは重合可能なエチレン性二重結合を有
する有機基、R1、R2は炭素原子数1〜4のアル
キル基もしくはフエニル基、nは0〜3の数、た
だしn=0のときVはビニル基でないものとす
る)で示されるビニルシラン誘導体を、過酸化物
もしくはアゾ化合物を触媒とするラジカル重合、
グリニヤール試薬を開始剤とするアニオン重合ま
たはテトラヒドロフラン溶媒中における炭化水素
のアルカリ金属化合物を開始剤とするアニオン重
合により、そのビニルシリル基を残存させ有機基
V中のエチレン性二重結合を優先的に重合反応さ
せることを特徴とするけい素原子含有有機高分子
化合物の製造方法に関するものである。 これを説明すると、上記一般式()で示され
るビニルシラン誘導体中のR1およびR2は、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基およびフ
エニル基から選ばれる基であり、また式−(CH2)
n−で示される基のVは重合可能なエチレン性二
重結合を有する有機基であつて、これを例示すれ
ば次のとおりである。 ビニルフエニル基 CH2=CH−C6H4−(CH2)n− (n=0〜3) メタクリル酸基 CH2=C(CH3)COO−(CH2)n− (n=1〜3) アクリル酸基 CH2=CHCOO−(CH2)n− (n=1〜3) ビニル基 CH2=CH−(CH2)n− (n=1〜3) プロペニル基 CH3CH=CH−(CH2)n− (n=1〜3) ビニルオキシ基 CH2=CHO−(CH2)n− (n=1〜3) ビニルピリジル基 CH2=CH−C5H4N−(CH2)n− (n=1〜3) 以上述べたそれぞれの分子構造からなるビニル
シラン誘導体は、通常のビニルクロロシラン、ア
ルキルクロロシラン、ヒドロクロロシラン類を原
料として、グニヤール反応、ヒドロシリル化反応
等の公知の有機合成反応により得ることができ
る。 本発明で使用されるビニルシラン誘導体はつぎ
のような特徴を有する。すなわち、その式V−
(CH2)n−中のエチレン性二重結合は通常の重
合反応(ラジカル重合、アニオン重合、カチオン
重合)条件で容易に重合するが、けい素原子に直
結しているビニル基はそのけい素原子に結合して
いる他の有機基(R1、R2)による立体障害のた
めに、通常の重合条件下ではほとんど重合反応を
起こさないという性質を有する。たとえばトリメ
チルビニルシランは通常のラジカル重合を行わせ
ることができず、プチルリチウムを使うアニオン
重合により35℃の温度で400時間反応させること
によつてやつと起こる程度であり(西独公開公報
第2259951号参照)、このアニオン重合の速度は著
しく遅い。しかし、一般式()で示されるビニ
ルシラン誘導体は通常の重合反応条件でラジカル
重合、アニオン重合またはカチオン重合させるこ
とにより、容易にビニルシリル基の残存した線状
高分子化合物となる。 なお、ビニルシラン誘導体の重合に当つて、必
要であれば、他の通常のビニルモノマー(コモノ
マー)を併用してもよい。 このようにして得られる残存ビニルシリル基を
有する線状高分子化合物は、有機溶剤に可溶性の
ものであり容易に架橋反応して溶剤に不溶性の強
じん三次元ポリマーとなるので、感光性樹脂、ゴ
ム、塗料、接着剤等広い分野に有用とされるもの
である。 この残存ビニルシリル基を有する線状高分子化
合物を架橋反応させる方法としては、)紫外
線、電子線もしくはX線による照射方法、)過
酸化物または1分子中にビニルシリル基と反応し
得る官能基を少なくとも2個有する有機化合物を
用いて行なう方法があげられる。なお、上記過酸
化物としてはベンゾイルペルオキシド、2、4−
ジクロロベンゾイルペルオキシド、ジクミルペル
オキシド、t−ブチルペルオキシベンゾエートな
どが、また少なくとも2個の官能基を有する有機
化合物としては、≡Si−Hで示される官能基を1
分子中に2個以上有するオルガノシラン化合物も
しくはオルガノポリシロキサン化合物、あるいは
≡Si−R−SH(Rは2価の炭化水素基)で示され
る官能基を1分子中に2個以上有するオルガノポ
リシロキサン化合物、および光架橋剤である2、
6−ジ(4アジドベンジリデン)−シクロヘキサ
ノンなどがそれぞれ例示される。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 1 500mlフラスコ中にマグネシウム12g、テトラ
ヒドロフラン200mlを仕込み、臭化エチル0.5mlを
加えて反応をスタートさせた後、p−クロロスチ
レン69gを、窒素気流中、還流温度で3時間要し
て滴下し反応させることによりp−クロロスチレ
ンのグリニヤール試薬を合成した。つぎにビニル
メチルクロロシランの60gを20〜30℃でこのグリ
ニヤール試薬中に滴下反応させた後、加水分解
し、有機層を減圧下蒸留したところ、p−ビニル
フエニルジメチルビニルシラン (
【式】)75g
を得た。
つぎに、20gのp−ビニルフエニルジメチルシ
ランと0.5%のアゾビスイソブチロニトリルを含
有するトルエン150mlに溶解し、80℃で40時間重
合した。この粘稠な液をメタノール1中に注ぎ
沈殿分離した後、洗浄乾燥したところ、14gの白
色のポリマーが得られた。このポリマーをトルエ
ンに再度溶解しキヤステイング法にて圧さ10μm
のフイルムをつくり、このものについて赤外吸収
スペクトルで分析したところ、ビニルシリル基を
含有していることが確認された。 つぎに、このポリ−p−ビニルフエニルジメチ
ルビニルシラン10gと2、4−ジクロルベンゾイ
ルパーオキサイド0.05gをトルエン150mlにとか
し、常温にて圧さ10μmのフイルムをキヤステイ
ング法でつくつた後、150℃で30分間架橋反応さ
せたところ、このフイルムは非常に強じんな三次
元ポリマーとなり、もはやトルエンに全く不溶な
フイルムとなつた。 実施例 2 臭化ビニルのグリニヤール試薬とクロロメチル
ジメチルクロロシランを常法に従いグリニヤール
反応して得た、クロロメチルジメチルビニルシラ
ン62gを500mlフラスコ中に仕込み、これにメタ
クリル酸ナトリウム59g、ジメチルホルムアミド
100mlおよびピリジン2mlを加え、80℃で3時間
かくはんしながら加熱反応させた。その後、反応
液を冷却し、500mlの水中に注ぎ、分離した有機
層を減圧下蒸留したところ、メタクリル酸メチレ
ンジメチルビニルシラン
ランと0.5%のアゾビスイソブチロニトリルを含
有するトルエン150mlに溶解し、80℃で40時間重
合した。この粘稠な液をメタノール1中に注ぎ
沈殿分離した後、洗浄乾燥したところ、14gの白
色のポリマーが得られた。このポリマーをトルエ
ンに再度溶解しキヤステイング法にて圧さ10μm
のフイルムをつくり、このものについて赤外吸収
スペクトルで分析したところ、ビニルシリル基を
含有していることが確認された。 つぎに、このポリ−p−ビニルフエニルジメチ
ルビニルシラン10gと2、4−ジクロルベンゾイ
ルパーオキサイド0.05gをトルエン150mlにとか
し、常温にて圧さ10μmのフイルムをキヤステイ
ング法でつくつた後、150℃で30分間架橋反応さ
せたところ、このフイルムは非常に強じんな三次
元ポリマーとなり、もはやトルエンに全く不溶な
フイルムとなつた。 実施例 2 臭化ビニルのグリニヤール試薬とクロロメチル
ジメチルクロロシランを常法に従いグリニヤール
反応して得た、クロロメチルジメチルビニルシラ
ン62gを500mlフラスコ中に仕込み、これにメタ
クリル酸ナトリウム59g、ジメチルホルムアミド
100mlおよびピリジン2mlを加え、80℃で3時間
かくはんしながら加熱反応させた。その後、反応
液を冷却し、500mlの水中に注ぎ、分離した有機
層を減圧下蒸留したところ、メタクリル酸メチレ
ンジメチルビニルシラン
【式】
74gを得た。
つぎに、このメタクリル酸メチレンビニルジメ
チルシラン20gを無水のトルエン300ml中に窒素
気流下で溶解した後、3.3mole-1のフエニルマグ
ネシウムブロミド(C6H5MgBr)のジエチルエ
ーテル溶液3.6mlを加え、窒素気流下5℃で撹拌
しながら6時間重合させた。この粘稠な液をメタ
ノール1中に注ぎ込み、ポリマーを沈殿分離
し、洗浄乾燥したところ、13gの白色ポリマーを
得た。このポリマーをもう一度トルエンに溶解
し、キヤステイング法にて、厚さ5μmのフイル
ムを作製した。このフイルムを赤外線スペクトル
で分析したところ、3080cm-1に大きな吸収があり
ビニルシリル基が残存していることを確認した。
ついで、このフイルムを減圧状態にして超高圧水
銀灯(365nm、110W/m2)を使用して3分間照
射したところ、このフイルムは非常に強じんなフ
イルムになり、トルエンに不溶となつた。また、
赤外吸収スペクトルで分析したところ、3080cm-1
の吸収は消えていてビニル基が架橋し、3次元ポ
リマーになつたことが確認された。 実施例 3 ブロムベンゼンのグリニヤ試薬と、3−クロロ
プロピルメチルビニルクロロシランを常法に従い
グリニヤ反応して得た3−クロロプロピルメチル
フエニルビニルシラン 30gとアクリル酸ナトリウム25gを500mlフラス
コ中に仕込み、これにジメチルホルムアミド50ml
およびピリジン2mlを加え、80℃で3時間加熱反
応させた。その後、反応液は冷却し、300mlの水
を加え、分離した有機層を減圧下蒸留したとこ
ろ、アクリル酸プロピレンメチルフエニルビニル
シラン 21gを得た。 つぎに、1オートクレーブ中に 水 100g ヒドロキシプロピルメチル セルロース 3g オレイルアルコール 0.1g ゼラチン 0.1g アクリル酸プロピレンメチル フエニルビニルシラン 4g 塩化ビニル 8g 過酸化ベンゾイル 0.05g を仕込み、60℃、10時間、窒素下にて懸濁共重合
させた。反応後、過、洗浄、乾燥したところ、
塩化ビニル−アクリル酸プロピレンメチルフエニ
ルビニルシランの共重合体11gを得た。このポリ
マーを赤外吸収スペクトルにて分析したところ、
3080cm-1に吸収があり、ビニル基が残存している
ことが確認された。ついで、この共重合体10gを
テトラヒドロフラン100mlに溶解した後、両末端
にヒドロ基を有するジメチルシロキサン(平均重
合度10)2gと塩化白金酸の2%ブタノール溶液
0.3mlを加えた後キヤステイング法にて厚さ200μ
mのフイルムをつくつた後、120℃で15分間架橋
反応を行つた。このフイルムは強じんで柔軟性を
有するフイルムとなつた。なお、このフイルムは
もはやテトラヒドロフランに不溶で3次元ポリマ
ーになつていることを確認した。 実施例4〜5 実施例1と全く同様にして合成したp−ビニル
フエニルジメチルビニルシランを高真空下で
(C6H5)3CLi−LiBrの混合系の精製剤を用いて精
製したもの6gを用いて高真空下でリビングアニ
オン重合法を用いて、開始剤として1.2×10-4モ
ルのn−BuLi、クミルセシウム(Cum−Cs)を
用いて−78℃の反応温度で、溶媒として精製した
テトラヒドロフラン100mlを用いて、2時間重合
を行つた。重合終了後、内容物をメタノール中に
注ぎ、得られたポリマーを沈殿分離し、洗浄、乾
燥したところ、白色のポリマーを得た。得られた
ポリマーについてガラス転移点(Tg)、GPCおよ
び膜浸透圧法と光散乱法による数平均分子量
(Mn)と重量平均分子量(Mw)を測定した。 結果を表−1に、GPC曲線を第1図に示す。
チルシラン20gを無水のトルエン300ml中に窒素
気流下で溶解した後、3.3mole-1のフエニルマグ
ネシウムブロミド(C6H5MgBr)のジエチルエ
ーテル溶液3.6mlを加え、窒素気流下5℃で撹拌
しながら6時間重合させた。この粘稠な液をメタ
ノール1中に注ぎ込み、ポリマーを沈殿分離
し、洗浄乾燥したところ、13gの白色ポリマーを
得た。このポリマーをもう一度トルエンに溶解
し、キヤステイング法にて、厚さ5μmのフイル
ムを作製した。このフイルムを赤外線スペクトル
で分析したところ、3080cm-1に大きな吸収があり
ビニルシリル基が残存していることを確認した。
ついで、このフイルムを減圧状態にして超高圧水
銀灯(365nm、110W/m2)を使用して3分間照
射したところ、このフイルムは非常に強じんなフ
イルムになり、トルエンに不溶となつた。また、
赤外吸収スペクトルで分析したところ、3080cm-1
の吸収は消えていてビニル基が架橋し、3次元ポ
リマーになつたことが確認された。 実施例 3 ブロムベンゼンのグリニヤ試薬と、3−クロロ
プロピルメチルビニルクロロシランを常法に従い
グリニヤ反応して得た3−クロロプロピルメチル
フエニルビニルシラン 30gとアクリル酸ナトリウム25gを500mlフラス
コ中に仕込み、これにジメチルホルムアミド50ml
およびピリジン2mlを加え、80℃で3時間加熱反
応させた。その後、反応液は冷却し、300mlの水
を加え、分離した有機層を減圧下蒸留したとこ
ろ、アクリル酸プロピレンメチルフエニルビニル
シラン 21gを得た。 つぎに、1オートクレーブ中に 水 100g ヒドロキシプロピルメチル セルロース 3g オレイルアルコール 0.1g ゼラチン 0.1g アクリル酸プロピレンメチル フエニルビニルシラン 4g 塩化ビニル 8g 過酸化ベンゾイル 0.05g を仕込み、60℃、10時間、窒素下にて懸濁共重合
させた。反応後、過、洗浄、乾燥したところ、
塩化ビニル−アクリル酸プロピレンメチルフエニ
ルビニルシランの共重合体11gを得た。このポリ
マーを赤外吸収スペクトルにて分析したところ、
3080cm-1に吸収があり、ビニル基が残存している
ことが確認された。ついで、この共重合体10gを
テトラヒドロフラン100mlに溶解した後、両末端
にヒドロ基を有するジメチルシロキサン(平均重
合度10)2gと塩化白金酸の2%ブタノール溶液
0.3mlを加えた後キヤステイング法にて厚さ200μ
mのフイルムをつくつた後、120℃で15分間架橋
反応を行つた。このフイルムは強じんで柔軟性を
有するフイルムとなつた。なお、このフイルムは
もはやテトラヒドロフランに不溶で3次元ポリマ
ーになつていることを確認した。 実施例4〜5 実施例1と全く同様にして合成したp−ビニル
フエニルジメチルビニルシランを高真空下で
(C6H5)3CLi−LiBrの混合系の精製剤を用いて精
製したもの6gを用いて高真空下でリビングアニ
オン重合法を用いて、開始剤として1.2×10-4モ
ルのn−BuLi、クミルセシウム(Cum−Cs)を
用いて−78℃の反応温度で、溶媒として精製した
テトラヒドロフラン100mlを用いて、2時間重合
を行つた。重合終了後、内容物をメタノール中に
注ぎ、得られたポリマーを沈殿分離し、洗浄、乾
燥したところ、白色のポリマーを得た。得られた
ポリマーについてガラス転移点(Tg)、GPCおよ
び膜浸透圧法と光散乱法による数平均分子量
(Mn)と重量平均分子量(Mw)を測定した。 結果を表−1に、GPC曲線を第1図に示す。
【表】
得られた重合物は何れもIRスペクトル分析結
果は≡Si−CH=CH2を含有しており、トルエン
溶液として厚さ10μmのフイルムをキヤステング
法で作り、高圧水銀灯(110W/m2、365nm)に
1分間照射したところ、トルエン不溶の強じんな
フイルムが得られた。
果は≡Si−CH=CH2を含有しており、トルエン
溶液として厚さ10μmのフイルムをキヤステング
法で作り、高圧水銀灯(110W/m2、365nm)に
1分間照射したところ、トルエン不溶の強じんな
フイルムが得られた。
第1図は、n−BuLiおよびCum−Csを開始剤
として、THF中、−78℃で重合したポリ(4−ビ
ニルフエニルジメチルビニルシラン)のGPCの
溶出曲線を示したものである。
として、THF中、−78℃で重合したポリ(4−ビ
ニルフエニルジメチルビニルシラン)のGPCの
溶出曲線を示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、Vは重合可能なエチレン性二重結合を有
する有機基、R1、R2は炭素原子数1〜4のアル
キル基もしくはフエニル基、nは0〜3の数、た
だしn=0のときVはビニル基でないものとす
る)で示されるビニルシラン誘導体を、過酸化物
もしくはアゾ化合物を触媒とするラジカル重合、
グリニヤール試薬を開始剤とするアニオン重合ま
たはテトラヒドロフラン溶媒中における炭化水素
のアルカリ金属化合物を開始剤とするアニオン重
合により、そのビニルシリル基を残存させ有機基
V中のエチレン性二重結合を優先的に重合反応さ
せることを特徴とするけい素原子含有有機高分子
化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19712883A JPS6088015A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | けい素原子含有有機高分子化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19712883A JPS6088015A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | けい素原子含有有機高分子化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6088015A JPS6088015A (ja) | 1985-05-17 |
| JPH0320124B2 true JPH0320124B2 (ja) | 1991-03-18 |
Family
ID=16369205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19712883A Granted JPS6088015A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | けい素原子含有有機高分子化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6088015A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6127537A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト剤 |
| JP4688311B2 (ja) * | 2001-02-22 | 2011-05-25 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | (メタ)アクリル官能基含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
| JP5135820B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2013-02-06 | Jsr株式会社 | アルカリ可溶性重合体、着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよび液晶表示素子 |
| WO2023210562A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | Agc株式会社 | 硬化性重合体、硬化性組成物、プリプレグ、積層体、金属張積層板および配線基板 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58192163A (ja) * | 1982-05-04 | 1983-11-09 | Mitsubishi Electric Corp | 図形処理装置 |
-
1983
- 1983-10-21 JP JP19712883A patent/JPS6088015A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6088015A (ja) | 1985-05-17 |
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