JPH03202109A - シリカガラスフィルター - Google Patents

シリカガラスフィルター

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JPH03202109A
JPH03202109A JP34370189A JP34370189A JPH03202109A JP H03202109 A JPH03202109 A JP H03202109A JP 34370189 A JP34370189 A JP 34370189A JP 34370189 A JP34370189 A JP 34370189A JP H03202109 A JPH03202109 A JP H03202109A
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silica glass
silica
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Koichi Shiraishi
耕一 白石
Kuniko Andou
安藤 久爾子
Masaru Shinpo
新保 優
Shunzo Shimai
駿蔵 島井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造プロセス等で使用される反応ガス
等の気体、薬液等の液体の濾過に使用するシリカガラス
フィルターに関する。
[従来の技術] 従来、この種のフィルターとしては、ニトロセルロース
、アセチルセルロース、ポリテトラフロロエチレン等の
合成樹脂からなる樹脂フィルター、アルミナ、炭化けい
素、ムライト等のセラミックスからなるセラミックフィ
ルター、又はバイコール方式のガラスフィルター等が知
られている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来の樹脂フィルターにおいては、
耐熱性や耐薬品性に制限があると共に、強度が低く、循
環や送液の際の圧力変動に伴う脈動により、フィルター
の目が部分的に広がって捕集物がフィルターを通ってし
まい、完全な濾過を行えない。又、ベーキング等により
再生して使用することができない問題がある。
セラミックフィルターにおいては、上記樹脂フィルター
の問題点を概ね解決できるものの、その構成粒子が結晶
質で多面体で絡み合った構造となるため、濾過流体の流
れが複雑となって圧力損失が大きくなると共に、透過率
が低下する。又、焼結した粒子間の境界に明瞭な粒界を
生じ、この粒界には、粒界偏析により粒子内の不純物等
が集まって粒子間約が形成されやすく、この粒子間相が
薬液等により侵されることによって不純物を溶出すると
共に、強度が低下する問題がある。
又、バイコール方式のガラスフィルターにおいては、そ
の中に含まれるほう素、アルカリイオン等の溶出により
、不純物の混入が起こる問題かある。
そこで、本発明は、高純度で、耐薬品性に優れ、かつ高
透過率で、大きな濾過面積をもったシリカガラスフィル
ターの提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 前記課題を解決するため、本発明のシリカガラスフィル
ターは、純度が999%以上て、アルカリ、アルカリ金
属、重金属類及びB III属の元素が総量で150p
pm以下の非晶質シリカからなる多孔質の支持体に、こ
れと同様な純度の非晶質シリカからなる微細な多孔質の
濾過層を積層して構成したものである。
上記シリカガラスフィルターにおいて、支持体の気孔率
は、10%以上であることが好ましい。
支持体及び濾過層は、非晶質シリカ粉末の焼結体からな
る。
濾過層の厚さは、構成粒子径の10〜500倍であるこ
とが好ましい。
支持体及び/又は濾過層を構成する粉末の75重量%以
上の粒子の粒径は、それぞれの平均粒径の±50%の範
囲に入るものであることか好ましい。
又、支持体及び/又は濾過層を構成する粉末の粒子は、
実質的に球状であることが好ましい。
[作 用] 上記手段においては、支持体と濾過層とにより、いわゆ
る非対称膜の構造となると共に、構成粒子が非晶質であ
るため、結晶質のもののように粒界に粒子間約が形成さ
れるようなことはなく、均一な連続構造を有し、かつ固
着粒子が球状に近くなり、その表面か平滑となる。又、
負の静電チャージが非常に大きくなる。
支持体の気孔率は、60%程度が上限であると思われる
が、強度上問題がなければ高いものでもよい。又、10
%未満であると圧力損失が増大し、かつ透過量が低下す
る。
濾過層の厚さか、構成粒子径の10倍未満であるとピン
ホール等を生してその機能を果たし得す、500倍を超
えると圧力損失が犬きくなると共に、透過率が小さくな
り実用に供し得ない。
支持体及び/又は濾過層を構成する粉末の75重量%以
上の粒子の粒径を、それぞれの平均粒径の±50%の範
囲とすることにより、気孔率の高いものが得られ、この
範囲外とすると気孔率が低下して好ましくない。
又、支持体及び/又は濾過層を構成する粉末の粒子を、
実質的に球状にすることにより、その表面か平滑となり
、濾過流体の流れが滑らかとなって圧力損失が小さくな
り、かつ高透過率が得られる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1 火炎法(四塩化けい素(SiCj24)を酸素水素炎中
で熱分解してシリカ(SjOz)を得る方法、以下間し
)で合成した合成シリカガラスカレットをシリカガラス
製ボールミル中で乾式粉砕し、平均粒径15μmのシリ
カ粉末を得た。この粉末中の不純物濃度を第1表に示す
第1表 上記粉末を10〜20μmに分級した後、これに水を添
加し、スリップキャスティングにより直径15mm、厚
さ2+nmの円板を成形した。成形体を1soo℃の温
度で焼成し、非晶質シリカ粉末の焼結体からなる多孔質
の支持体を作製した。
一方、火炎法で合成した合成シリカガラスカレットをシ
リカガラス製ボールミル中で湿式粉砕し、平均粒径3μ
mのシリカ粉末を含むスラリーを得た。このスラリーを
前記支持体の上面に流し、シリカ粒子を付着させた後、
1200℃の温度て焼成し、支持体上に非晶質シリカ粉
末の焼結体からなる微細な多孔質の濾過層を積層し、い
わゆる非対称膜の構造を有するシリカガラスフィルタを
得た。
このシリカガラスフィルターは、シリカの純度が99.
9%以上で、その不純物濃度は、第2表に示すようにな
った。
第2表 実施例2 実施例1と同様な方7去により同様な支持体を作製する
一方、実施例1と同様な方法により平均粒径3μmのシ
リカ粉末を含むスラリーを得た。
このスラリーを1〜5江mに湿式分級し、分級スラリー
を上記支持体の上面に流し、シリカ粒子を付着させた後
、1200℃の温度で焼成し、支持体上に非晶質シリカ
粉末の焼結体からなる微細な濾過層を積層し、いわゆる
非対称膜の構造を有するシリカガラスフィルターを得た
比較例1 実施例1と同様な方法により平均粒径15μmのシリカ
粉末を得、分級を行わず、この粉末に水を添加し、実施
例1と同様にスリップキャスティングにより直径15m
m、厚さ2mmの円板を成形した。成形体を1500℃
の温度で焼成し、非晶質シリカ粉末の焼結体からなる多
孔質の支持体を作製した。
支持体上に、実施例1と同様な方法により非晶質シリカ
粉末の焼結体からなる微細な濾過層を積層し、いわゆる
非対称膜の構造を有するシリカガラスフィルターを得た
ここで、実施例2及び比較例1で作製した支持体の気孔
を測定したところ、気孔径と気孔容積の関係は、第1図
において曲線A及びBで示すようになった。
従って、分級粉末及び分級スラリーを使用した方が気孔
容積が大きく、かつ気孔の大きさも揃つたものが得られ
ることがわかる。
又、窒素ガス透過量を測定したところ、圧力損失0 、
 5 Jf−cm−2のとき、実施例2のもので100
 m3・hr−’・m−2、比較例工のもので30m3
・hr−1・+u−2となった。
従って、分級粉末及び分級スラリーを用いることにより
、透過量を大きくし得ることがわかる。
実施例3 実施例1と同様な方法により得た平均粒径15μmのシ
リカ粉末の粒子を火炎中で球状化した後、10〜20μ
m及び1〜5μmに分級した。
10〜20μmの球状分級粉末に水を添加し、実施例1
と同様にスリップキャスティングにより直径15mm、
厚さ2m+nの円板に成形した。成形体を1500℃の
温度で焼成し、非晶質シリカ粉末の焼結体からなる支持
体を作製した。
一方、1〜5μmの球状分級粉末に水を添加してスラリ
ーとし、このスラリーを上記支持体の上面に流し、シリ
カ粒子を付着させた後、1200℃の温度で焼成し、支
持体上に非晶質シリカ粉末の焼結体からなる微細な多孔
質の濾過層を積層し、いわゆる非対称膜の構造を有する
シリカガラスフィルターを得た。
比較例2 実施例3と同様な方法により同様な支持体を作製する一
方、非晶質シリカの1〜5μm破砕分級粉末に水を添加
してスラリーとし、このスラリーを上記支持体の上面に
流してシリカ粒子を付着させた後、1200℃の温度で
焼成し、支持体上に非晶質シリカ粉末の焼結体からなる
微細な多孔質の濾過層を形威し、いわゆる非対称膜の構
造を有するシリカガラスフィルターを得た。
ここで、実施例3及び比較例2のシリカガラスフィルタ
ーの窒素ガス透過量を測定したところ、圧力損失0 、
5 kgLcm−’のとき、実施例3のもので600 
m3・hr−’・m−2,比較例2のもので400 m
”hr−1・m−2となった。
従って、球状化した粒子からなる分級粉末及び分級スラ
リーを用いることによって、透過量を段と大きくし得る
ことがわかる。
実施例4 実施例3と同様な方法により同様な支持体を作製した。
一方、攪拌機付きのシリカガラス製反応容器に、エタノ
ール1500mR,29%アンモニア水200m1)を
加えて混合し、反応溶液とした。又、エタノール101
00Oとテトラエトキシシラン250m1+を混合して
原料溶液とし、これを20℃の温度に調整した反応溶液
中に滴下し、8時間攪拌すると、粒径0.4μmの球状
単分散シリカ粉末を含むスラリーが得られた。
このスラリーを上記支持体の上面に流して球状単分散シ
リカ粒子を付着させた後、1150℃の温度で焼成し、
支持体上に非晶質シリカ粉末の焼結体からなる微細な多
孔質の濾過層を積層し、いわゆる非対称膜の構造を有す
るシリカガラスフィルターを得た。
このシリカガラスフィルターの気孔径は、0.2μmで
あった。
又、上記シリカガラスフィルター1を、第2図に示すよ
うに、シリカガラスからなるケーシング2内に装着して
サイズ分離ユニットとし、シリカガラスフィルター1の
下流に6インチシリコンウェハ(図示せず)を置いて窒
素ガスの濾過を行い、濾過した窒素ガスからシリコンウ
ェハに付着したパーティクル(0,1μmのダスト)の
数を表面ダストカウンターて測定したところ、アルミナ
質セラミックフィルターのそれを併記する第3表に示す
ようになった。
第2図において3.4は供給口、排出口である。
第3表 従って、シリカガラスフィルターは、アルミナ質セラミ
ックフィルターより大きな捕集率を示すことがわかる。
1 2 実施例5 実施例4と同様な方法によって得たシリカガラスフィル
ターの濾過層の上面に、実施例4と同様な方法によって
得た粒径0.4μmの球状単分散シリカ粉末を含むスラ
リーを流して球状単分散シリカ粒子を付着させた後、1
150tの温度で焼成する工程を繰り返し、濾過層の厚
さを第4表に示すように順次厚くしていったシリカガラ
スフィルターの窒素ガスの透過量(圧力損失05kgL
c+n−’)は、第4表に示すようになった。
第4表 従って、濾過層の厚さは、構成粒子径の10〜500倍
がよく、10倍未満であるとピンホールが発生しやすく
、500倍を超えると透過量が低減することがわかる。
実施例6 実施例1と同様な方法により各種平均粒径のシリカ粉末
を得、それぞれの粉末に水を添加し、実施例1と同様に
スリップキャスティングにより直径15mm、厚さ2m
mの円板を成形した。各成形体を1500℃の温度で焼
成し、非晶質シリカ粉末の焼結体からなり、第5表に示
すように、気孔率の異なる5孔質の各支持体を作製した
各支持体の上面に、実施例4と同様な方法によって得た
粒径0.4μmの球状単分散シリカ粉末を含むスラリー
を流して球状単分散シリカ粒子を付着させた後、115
0℃の温度で焼成し、支持体上に非晶質シリカ粉末の焼
結体からなる微細な多孔質の濾過層を積層し、各シリカ
ガラスフィルターを得た。
それぞれのシリカガラスフィルターの窒素ガスの透過量
(圧力損失0 、 5 kgLcm−2)は、第5表に
示すようになった。
第5表 従って、支持体の気孔率は、10%以上とすればよいこ
とがわかる。
実施例7 実施例3と同様な方法により同様な支持体を作製した。
一方、攪拌機付きのシリカガラス製反応容器に、エタノ
ール1500mC29%アンモニア水100nuを加え
て混合し、反応溶液とした。又、エタノール10100
O!とテトラエトキシシラン200m1を混合して原料
溶液とし、これを20℃の温度に調整した反応溶液中に
滴下し、8時間攪拌すると、粒径0.2μmの球状単分
散シリカ粉末を含むスラリーが得られた。
このスラリーを上記支持体の上面に流して球状単分散シ
リカ粒子を付着させた後、1050℃の温度で焼成し、
支持体上に非晶質シリカ粉末の焼結体からなる微細な多
孔質の濾過層を積層し、いわゆる非対称膜の構造を有す
るシリカガラスフィルターを得た。
このシリカガラスフィルターの気孔径は、0.1μmで
あった。
又、上記シリカガラスフィルターによって窒素ガスを濾
過した際のガス透過量、純水を濾過した際の液体透過量
、並ひに気孔率は、アルミナ質セラミックフィルター、
バイコール方式のガラスフィルターのそれらを併記する
第6表、第7表並びに第8表に示すようになった。
5 6 第6表 第8表 第7表 なお、ガラスフィルターは、バイコール方式で作製され
た多孔質のものである。
従って、実施例7のシリカガラスフィルタは、気体透過
量、液体透過量及び気孔率を、アルミナ質セラミックフ
ィルター等と同等若しくは同等以上にし得ることがわか
る。
更に、実施例7のシリカガラスフィルターを用いて第2
図に示すサイズ分離ユニットを構成し、各種のガス、液
体を濾過し、耐薬品性を調へたところ、アルミナ質セラ
ミックフィルターのそれを併記する第9表に示すように
なった。
表中○は良、△は可、×は不可を意味する。
第9表 第1O表 従って、シリカガラスフィルターは、ふっ酷似外の酸に
対して安定であることがわかる。
更に又、実施例7のシリカガラスフィルターを用いて2
0%H2So、の濾過を行い、濾過後の不純物濃度を測
定したところ、アルよす質セラくツクフィルターのそれ
を併記する第10表に示すようになった。
従って、シリカガラスフィルターは、非常に高い純度を
保つことがわかる。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、支持体と濾過層とにより
、いわゆる非対称膜の構造となるので、濾過面積を大き
くすることができる。
又、構成粒子が非晶質であるため、セラミックフィルタ
ーのように粒界に偏析不純物を含む粒子間約が形成され
るようなことはなく、均一な連続構造を有するのて、耐
薬品性及び強度を向上する 9 ことができる。
更に、固着粒子が球状に近くなり、その表面が平滑とな
るので、濾過流体の流れが滑らかとなり、圧力損失を小
さくし得、かつ透過率を高めることができる。
更に又、気体の濾過に際し、フィルターの負の静電チャ
ージが非常に大きくなるので、小さなダスト、特に正に
帯電した粒子を捕獲することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例2に係るシリカガラスフィルタ
ーの気孔径と気孔容積の関係を示す説明図、第2図は実
施例4に係るシリカガラスフィルターを用いたサイズ分
離ユニットの概念図である。 1・・・シリカガラスフィルター 0 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)純度が99.9%以上で、アルカリ、アルカリ金
    属、重金属類及びBIII属の元素が総量で150ppm
    以下の非晶質シリカからなる多孔質の支持体に、これと
    同様な純度の非晶質シリカからなる微細な多孔質の濾過
    層を積層して構成したことを特徴とするシリカガラスフ
    ィルター。
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