JPH03205815A - 可変整形絞り - Google Patents

可変整形絞り

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JPH03205815A
JPH03205815A JP2000676A JP67690A JPH03205815A JP H03205815 A JPH03205815 A JP H03205815A JP 2000676 A JP2000676 A JP 2000676A JP 67690 A JP67690 A JP 67690A JP H03205815 A JPH03205815 A JP H03205815A
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JP
Japan
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stop
shaping
electron beam
pattern
shape
Prior art date
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Application number
JP2000676A
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English (en)
Inventor
Katsuhiro Kuroda
勝広 黒田
Hideo Todokoro
秀男 戸所
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、電子線描画装置に係り、特に多層配線に用い
る配線基板の高密度化、高速描画化に好適な可変整形絞
りに関する。
【従来の技術】
電子線描両装置の高速描画化のために可変整形描画法は
広く用いられており，すでにＬＳＩ製造のりソグラフィ
技術として不可欠なものになっている。このような状況
のもとに、可変整形描画技術は任意図形の微細描画化を
目指して追求されてきた。一方、大型計算機の心臓部に
，セラミック配線基盤上にＬＳＩチップを搭載させたモ
ジュールがある．この多層配線基盤のパターンも徐々に
微細化されてきたために、このパターンニングも従来の
光学方式に代わって，電子線描画装置で行ないたいとい
う要求が生じてきた。この場合、従来のＬＳＩ描画に比
べて線幅はほぼ一定であるが任意方向に描画したいとい
う要求がより強くなってきた． このような要求に対して、第４図（ａ）．（ｂ）に示し
たような開口を有する絞りの組み合わせによる従来の可
変整形絞りでは、同図（Ｃ）のようなパターン１０を描
画しようとすると、分割数が多くなって、描画に長時間
を要するという問題があった。 なお、本発明に関連する従来技術として、特開昭５３−
１４８９８０、特開平１−１１２７２９などが挙げられ
る。
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、任意の図形描画において、単位パター
ンの分割数を少なくして，高速描画可能な整形絞りを提
供することである。
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するためには、整形絞りの開口パター
ンとして、任意方向の線パターンをできるだけ少ない分
割数で表現するための基本図形を与えればよい。このよ
うな図形は基本的には多角形である。したがって、２個
の絞りを用いてこの基本図形を表現し、かつそれらを接
続して任意方向の線パターンを表現するようにすれば，
上記問題は解決できる．
【作用】
いま、基本図形を第２図（ａ）に示すような正８角形と
して考える。この基本図形を用いて、たとえば任意角度
に傾斜している線パターンを描画することを考えると、
第２図（ｂ）のように連続させることによって描画でき
る。本基本図形の場合，４５゜以外の傾斜パターンでは
パターンの周辺部での直線性は悪いが、レジストの近接
効果によりスムージングされ，より滑らかになる。また
、本発明の主たる対象である多層配線基盤のようなもの
では、多少の凹凸はほとんど問題にならない。 この描画方式を実現するための整形絞りは、第２図ａ）
に示すようなもので容易に実現できる。ここで、同一パ
ターンを従来の方式で実現するためには、第４図ｂ）に
示すようなものとなる６両者を比較すれば、本発明の方
式のほうが明らかに分割数が少ないことが分かる。すな
わち、本発明は従来より高速描画に適したものである。
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する． 第１図は本発明の一実施例になる電子線描画装置の概略
縦断面図である。電子銃１からでた電子線２は、第１整
形絞り１１により整形されたのち投射レンズ３により第
２整形絞り１２上に投影される．この時、整形偏向器６
により電子線２は偏向されて，所望の整形電子線が第２
整形絞り１２より出てくる．この電子線は縮小レンズ４
、対物レンズ５により試料９上に投影される．この時、
偏向器８により所望の位置に偏向される．また、電子線
２のオン、オフはプラン力−７により行われる。 ここで、本実施例で用いた整形絞りは第２図（ａ）に示
したものである．すなわち、第１整形絞り１１は正８角
形を用い、第２整形絞り１２は第１整形絞りの形状が周
辺にあるものである．正確には、第２絞りの中心は第１
絞りが入る十分な大きさをもち，周辺には第１絞りの形
状を４分割して各々を点対称に移動させた形状のもので
ある．このような整形絞りを用いれば、整形偏向器６を
動作させることによって第２図ｂ）に示すように比較的
少ない分割数で任意方向に接続していくことが可能とな
る。 第２図ａ）の実施例はごく一例であり，本発明の本質を
損なうことなく本発明を実施するためには、第１絞りを
正４ｎ（＝１．２、……）角形で構成しておけばよい。 特に、ｎ＝のは円として考えられ、第３図に示しておく
．このような絞りで形成された整形電子線は同図に示す
ように任意方向に接続することが可能となる． なお、第１図の電子光学系は、可変整形電子線を実現で
きる基本的な構成を示したもので、本構成のものに限る
ことなく本発明を実施できることはいうまでもない。
【発明の効果】
以上述べたごとく、本発明によればパターンの分割数を
少なくして描画することができるので，描画時間を短縮
できる効果がある．特に、多層配線基盤のように配線パ
ターンの線幅がほぼ一定であるが任意方向にあるような
パターン描画には，その効果は絶大である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例になる電子線描画装置の電子
光学系の基本構成を示す縦断面図、第２図は本発明の一
実施例の整形絞りの平面図及びそれを用いた電子線描画
方法の説明図、第３図は本発明の他の実施例の整形絞り
の平面図、第４図は従来の整形絞りの平面図およびそれ
を用いた電子線描画の説明図である。 符号の説明 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・投射レンズ
、４・・・縮小レンズ、５・・・対物レンズ、６・・・
整形偏向器、７・・・プランカー、８・・・偏向器、９
・・・試料．１０・・・所望の描画パターン、１１・・
・第１整形絞り、１２不 １ 図 第 ２ 図 （久） （？）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、第１整形絞りを第２整形絞り上に投影して所望の整
    形電子線を得て描画する電子線描画装置において、該第
    １整形絞りは正４ｎ（＝１、２、……）角形で構成し、
    該第２整形絞りの中心は第１整形絞りの投影パターンが
    入る十分な大きさを有し、周辺には第１整形絞りの形状
    を４分割して各々を点対称に移動させた形状のものであ
    ることを特徴とする可変整形絞り。 ２、上記ｎを２、すなわち第１整形絞りを正８角形とし
    たことを特徴とする請求項１記載の可変整形絞り。 ３、上記ｎを無限大、すなわち第１整形絞りを円形とし
    たことを特徴とする請求項１記載の可変整形絞り。 ４、請求項１から３記載のいずれかの可変整形絞りを用
    いたことを特徴とする電子線描画装置。
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